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[实用新型]一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫-CN201920291759.8有效
发明人：元利勇;曾昊;王玉茹;张珂 -专利权人：同辉电子科技股份有限公司
申请日： 2019-03-07 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种有效解决碳化硅抛光液堵塞的抛光垫，属于碳化硅加工设备技术领域，包括与抛光盘连接的底盘、设置于底盘上的绒毛层、设置在底盘上的一组抛光液喷出孔及一组抛光液回流孔，抛光液喷出孔与抛光液喷涂装置连接，抛光液回流孔与回收装置连接，抛光液回流孔的直径大于碳化硅粉末的直径，抛光液喷出孔、抛光液回流孔在底盘上穿插设置，回收装置借助过滤装置与抛光液喷涂装置连接，利用该抛光垫能够使抛光液均匀分布并有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，提高抛光效率及抛光质量。
抛光液回流孔底盘喷出孔碳化硅回收装置喷涂装置有效解决抛光抛光垫堵塞碳化硅粉末穿插设置过滤装置加工设备抛光过程抛光效率抛光盘绒毛层有效地

[发明专利]SiC抛光液台面回收装置-CN202310450859.1有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国;余明轩 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种SiC抛光液台面回收装置，涉及抛光技术领域，该SiC抛光液台面回收装置包括抛光台、抛光盘和流体搅拌机构，抛光台上设置有回收沟槽，抛光盘可转动地设置在抛光台上，流体搅拌机构设置在抛光台上；其中，回收沟槽的底壁上设置有多个第一流体喷孔，流体搅拌机构连通至多个第一流体喷孔，并通过多个第一流体喷孔朝向回收沟槽喷射流体，以搅拌回收沟槽中的抛光液。相较于现有技术，本发明提供的SiC抛光液台面回收装置，通过喷射流体的方式实现搅拌，使得抛光液始终处于流动状态，并且流体喷射口位于底壁上，避免了抛光液中的固体颗粒沉积，提升了抛光液中固体颗粒的均匀性，保证了抛光液的回收质量
sic 抛光台面回收装置

[发明专利]一种粗抛光液的再利用方法-CN202211346937.5在审
发明人：刘福成;何昆哲;华千慧 -专利权人：上海新昇半导体科技有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种粗抛光液的再利用方法，包括以下步骤：步骤S1：将经过最终抛光工艺的粗抛光液回收至第一回收桶中；步骤S2：在第一回收桶中调整所述粗抛光液的pH值至设定范围，以得到回收粗抛光液；步骤S3：对所述回收粗抛光液进行第一次过滤，并将所述回收粗抛光液传输至第二回收桶中；以及步骤S4：对所述回收粗抛光液进行第二次过滤，并调整所述回收粗抛光液的pH值至目标范围，以得到制备双面抛光工艺所需的粗抛光原液配液，以对最终抛光工艺的粗抛光液进行回收再利用，降低抛光液的浪费，节约了成本。
一种抛光再利用方法

[实用新型]碳化硅抛光液循环回收系统-CN202320456588.6有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种碳化硅抛光液循环回收系统，涉及碳化硅抛光技术领域，该碳化硅抛光液循环回收系统，包括抛光液供给桶、第一抛光机、抛光液回收桶和第二抛光机，抛光液供给桶设置有连接至第一抛光机的第一供液管，且第一抛光机设置有连接至抛光液回收桶的第一回收管，抛光液回收桶设置有连接至第二抛光机的第二供液管，且第二抛光机设置有连接至抛光液回收桶的第二回收管。相较于现有技术，本实用新型提供的碳化硅抛光液循环回收系统，能够实现对抛光液的回收利用，降低制造成本和废液排放。
碳化硅抛光循环回收系统

[实用新型]碳化硅抛光液重复回收系统-CN202320458534.3有效
发明人：林义复;林育仪;张炜国 -专利权人：通威微电子有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型的实施例提供了一种碳化硅抛光液重复回收系统，涉及碳化硅抛光技术领域，该碳化硅抛光液重复回收系统，包括一次抛光液桶、多个二次抛光液桶和多个抛光机，在实际抛光时，首先向一次抛光液桶中注入适用于抛光的一次抛光液，通过第一输送管向头部的抛光机提供一次抛光液，该抛光机利用一次抛光液完成抛光作业，所产生的二次抛光液通过回收管进入二次抛光液桶，再通过第二输送管流向下一个抛光机，该抛光机利用二次抛光液完成抛光作业，以此类推相较于现有技术，本实用新型提供的碳化硅抛光液重复回收系统，能够实现对抛光液的回收利用，降低制造成本和废液排放。
碳化硅抛光重复回收系统

[发明专利]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201110124410.3有效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本发明所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

[实用新型]一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置-CN201120153455.9无效
发明人：张云;王于岳;祝徐兴;冯之敬;左巍;赵广木 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-05-13 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：一种用于公自转磁流变抛光中的循环装置，包括注液槽与回收槽、注液嘴、刮板和其他必要的辅助装置。注液管将磁流变抛光液注入注液槽，注液槽与注液嘴连通，注液嘴将磁流变抛光液加注到抛光轮上，刮板将磁流变抛光液与抛光轮分离，并将磁流变抛光液引导至回收槽中。抽液管将回收槽中的磁流变抛光液抽走。本实用新型所涉及到的用于公自转磁流变抛光中的循环装置，在与公自转磁流变抛光方法配合使用的前提下，能够解决磁流变抛光液的循环问题，保证抛光去除函数的稳定性，使公自转抛光发挥其优势。
一种用于自转流变抛光中的循环装置

[发明专利]铝型材抛光液无能耗简易回收法-CN99117409.7无效
发明人：丘和 -专利权人：都江堰市英华铝业有限责任公司
申请日： 1999-12-02 - 公布日： 2001-06-06 - 主分类号： C23F3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种铝型材抛光液无能耗简易回收法,包括铝型材装夹,水洗,抛光,二次水洗,出光,三次水洗,氧化,其特征在于在抛光工序的抛光槽与二次水洗工序的水洗槽之间设置有抛光液回收槽,抛光液回收槽中有与抛光槽中相同配比的抛光槽液,抛光液回收槽中的抛光液温度控制为20℃—30℃,本发明投资少,成本低,抛光液回收效果好,减少了污染。
铝型材抛光能耗简易回收

[发明专利]适用于大口径光学元件的抛光液供给回收抛光工具头装置-CN201911009252.X有效
发明人：辛强;刘海涛;万勇建 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： B24B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种适用于大口径光学元件的抛光液供给回收抛光工具头装置，涉及光学元件高效抛光技术领域。抛光液供给回收抛光工具头装置采用沿抛光盘轴向中通孔进液方式通入抛光液，并在抛光盘边缘外侧将抛光液回收，抛光液封闭在装置内部，显著增大了抛光液的循环利用率。同时本装置的抛光垫采用径向和周向凹槽，使抛光液在输送压力和工具自转离心力作用下进入加工区域，工具头自转转速越高，越利于抛光液进入加工区域，与自转方向相同的螺旋槽还能有效增加抛光磨料在加工区域的驻留时间，提高了抛光液向加工区域的扩散渗透性和均匀分布性，可有效提升材料去除效率和均匀性，保证去除函数的稳定一致，提升光学加工确定性。
适用于口径光学元件抛光供给回收工具装置

[发明专利]一种抛光液自动配液装置-CN202110589944.7在审
发明人：张宏杰;刘建伟;武卫;刘园;祝斌;刘姣龙;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： B01F5/10 文献下载
摘要：本发明提供一种抛光液自动配液装置，其特征在于，包括：回收单元、混合单元以及与所述混合单元相连的原液供液单元、供水单元和KOH供液单元；所述原液供液单元提供的抛光液原液、所述供水单元提供的水和所述KOH供液单元提供的KOH溶液在所述混合单元内进行混合得到抛光液；所述回收单元与所述混合单元和抛光设备连接，所述混合单元内的剩液以及所述抛光液进入所述抛光设备后产生的回收液回收至所述回收单元。本发明的有益效果是有效的解决人工配液时间长、劳动强度高、效率低且配液浓度存在偏差导致产品质量不稳定的问题，对于抛光液的回收再利用进行系统的分类回收，不会造成抛光液的浪费，降低产品的生产成本。
一种抛光自动装置

[实用新型]一种抛光液自动配液装置-CN202121170119.5有效
发明人：张宏杰;刘建伟;武卫;刘园;祝斌;刘姣龙;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B01F25/51 文献下载
摘要：本实用新型提供一种抛光液自动配液装置，其特征在于，包括：回收单元、混合单元以及与所述混合单元相连的原液供液单元、供水单元和KOH供液单元；所述原液供液单元提供的抛光液原液、所述供水单元提供的水和所述KOH供液单元提供的KOH溶液在所述混合单元内进行混合得到抛光液；所述回收单元与所述混合单元和抛光设备连接，所述混合单元内的剩液以及所述抛光液进入所述抛光设备后产生的回收液回收至所述回收单元。本实用新型的有益效果是有效的解决人工配液时间长、劳动强度高、效率低且配液浓度存在偏差导致产品质量不稳定的问题，对于抛光液的回收再利用进行系统的分类回收，不会造成抛光液的浪费，降低产品的生产成本。
一种抛光自动装置

[实用新型]抛光装置-CN201520916716.6有效
发明人：陈林;邓亮;梅术凯 -专利权人：富鼎电子科技(嘉善)有限公司
申请日： 2015-11-17 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种抛光装置，用于将抛光液喷向工件以对该工件进行抛光处理。抛光装置包括储液机构、输送机构，及喷液机构。输送机构连接于储液机构与喷液机构之间，以将储液机构中的抛光液输送至喷液机构。喷液机构用于将该抛光液喷向工件。抛光装置还包括回收器及定位板，定位板收容于回收器中并固定连接于回收器的周壁上，定位板用于承载工件，定位板上开设有多个漏液孔以利于抛光液经由多个漏液孔流入该回收器中。本实用新型的抛光装置有效提高了工件的抛光良率。
抛光装置

[实用新型]具有抛光液循环回收利用装置的抛光机-CN201220248910.8有效
发明人：冷志红;蔡灵玲 -专利权人：昆山明本光电有限公司
申请日： 2012-05-30 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种具有抛光液循环回收利用装置的抛光机，包括抛光机本体和设置在抛光机本体后端底部的出液口，所述出液口通过出液管连接抛光液循环回收装置，该抛光液循环回收装置包括三脚架和收液桶；所述三脚架上放置有漏斗；所述收液桶的上端设有封盖，在所述封盖上开设有进液口，并在所述封盖上固定安装有电机；所述出液管的另一端连接到漏斗上方，漏斗的底部通过管路连接到进液口，所述电机的底端连接回液管，该回液管的另一端连接到抛光机上模上方的进液装置本回收装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后，将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构，完成抛光液的回收利用，减少了资源浪费，且提高了加工车间的清洁度。
具有抛光循环回收利用装置抛光机

[实用新型]一种能回收抛光液的抛光装置-CN201821636823.3有效
发明人：陈昆 -专利权人：昆山艾能杰玻璃科技有限公司
申请日： 2018-10-10 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种能回收抛光液的抛光装置，其包括：机座上安装有固定柱，固定柱上安装有滑槽，滑槽内安装有滑块，滑块连接横梁，横梁上安装有滑轨，滑轨上安装有轨道车，轨道车连接旋转电机，旋转电机连接旋转轴，旋转轴连接抛盘，机座左侧连接底座，底座内安装有回收腔，回收腔上方安装有漏网，漏网上方连接工作台。本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能回收抛光液的抛光装置，其能够通过防溅挡板防止抛光时抛光液四溅，同时通过漏网将抛光液回收至回收腔内进行存储处理，同时在回收腔内安装有过滤层，能将抛光液内附着的玻璃残渣过滤
抛光液回收腔抛光装置漏网回收轨道车本实用新型旋转电机固定柱滑槽滑轨滑块机座连接旋转轴玻璃残渣存储处理防溅挡板连接底座连接横梁过滤层旋转轴抛光工作台横梁附着抛盘底座过滤

[发明专利]全淹没射流抛光装置及方法-CN201010586835.1有效
发明人：施春燕;袁家虎;伍凡;万勇建;范斌;雷柏平 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2010-12-09 - 公布日： 2011-07-13 - 主分类号： B24C3/00 文献下载
摘要：本发明是一种全淹没射流抛光装置及方法，装置包括：喷嘴、抛光液容器、待抛光工件、工件装夹、抛光液回收槽、数控抛光机床、数控计算机、压力表、压力调节阀、增压泵、抛光液搅拌器、抛光液回收容器和多根液体管路，工件装夹固定在抛光液容器的底端，待抛光工件置于工件装夹中并固接；喷嘴的一端固定在数控抛光机床的抛光运动头中，数控计算机控制喷嘴的坐标位置和停留时间，定量去除待抛光工件的材料。方法是待抛光工件装夹在抛光液容器中，把抛光液注入抛光液容器中，待抛光工件和喷嘴出口全部淹没在抛光液中；启动液压部开始淹没射流抛光；数控计算机调节喷嘴与待抛光工件表面之间的距离；控制抛光驻留时间实现定量去除材料
淹没射流抛光装置方法

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