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[实用新型]一种直线等离子体实验装置-CN202022290972.2有效
发明人：桑超峰;孙长江;王奇;叶灏;王越 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G09B23/06 文献下载
摘要：本实用新型公开一种直线等离子体实验装置，包括等离子体源、等离子体源室、辅助加热室、靶室、材料分析交换室和送样单元，等离子体源室、辅助加热室、靶室和材料分析交换室均连接有分子泵；等离子体源、等离子体源室、辅助加热室和靶室的外部均设置磁体线圈；辅助加热室内设置天线，天线连接有加热电源，天线为能够允许等离子束穿过的环形，天线固定于辅助加热室的内壁上。本实用新型的直线等离子体实验装置，具备等离子体实验功能，在等离子体源室与靶室之间设置了辅助加热室，能够对等离子体源产生的等离子体进行二次加热，提供的环境能够充分研究等离子体在整个刮削层和偏滤器中的输运、
一种直线等离子体实验装置

[发明专利]等离子体装置及电力线缆的安装方法-CN202080084676.7在审
发明人：池户俊之;神藤高广 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H05H1/26 文献下载
摘要：本发明提供能够将线缆更牢固地固定于等离子体头的等离子体装置及电力线缆的安装方法。等离子体装置具备：等离子体头，向电极供给电力，产生等离子体气体；头移动装置，使等离子体头移动；电力线缆，前端部与电极连接，基端部与电源单元连接，电力线缆从电源单元向电极供给电力；第一限制部件，安装于等离子体头，限制电力线缆等相对于离子体头的相对的移动；及第二限制部件，与第一限制部件的位置相比设置于电力线缆的前端侧，安装于等离子体头，限制电力线缆相对于等离子体头的相对移动。
等离子体装置电力线缆安装方法

[发明专利]等离子体起辉状态监测方法及监测装置和半导体处理设备-CN201710561903.0有效
发明人：范光涛 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-07-11 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体起辉状态监测方法及监测装置和半导体处理设备。该等离子体起辉状态监测方法包括：在等离子体开始起辉时，采集形成在基片表面的等离子体鞘层的对地交流电压信号；对等离子体鞘层的对地交流电压信号进行处理，以获得等离子体鞘层的对地交流电压信号的最大峰值电压；判断等离子体鞘层的对地交流电压信号的最大峰值电压是否达到了等离子体的起辉成功电压，以确定等离子体是否起辉。该等离子体起辉状态监测方法通过对等离子体鞘层的对地交流电压信号进行监测，能够判断等离子体的起辉状态是否正常，无需再采用等离子体光谱监测方法，从而不仅能够有效地监测等离子体辉光放电状态，而且有效地降低了等离子体起辉状态的监测成本
等离子体状态监测方法装置半导体处理设备

[实用新型]一种弧根进气的直流电弧等离子体装置-CN202122588413.4有效
发明人：洪若瑜;钟睿;原晓菲;陈剑 -专利权人：福州大学
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H05H1/48 文献下载
摘要：本实用新型提出一种弧根进气的直流电弧等离子体装置，所述等离子体装置用于产生直流电弧的阴极和阳极分别为反应腔内的等离子体喷枪、石墨电极；等离子体装置的工作气体输入端位于直流电弧在等离子体喷枪处的弧根处；所述等离子体装置的工作气体输入管（4）连接等离子喷枪，所述工作气体经等离子喷枪喷入反应腔内并在直流电弧作用下发生等离子体反应；本实用新型解决了现有的直流电弧等离子体反应器在使用时电弧产生较为困难，反应过程中容易断弧，耗能较高，产能较低
一种弧根进气直流电弧等离子体装置

[发明专利]具有防着管的等离子体处理装置-CN200310124676.3无效
发明人：本城文兼;长谷川和纪;奥西广树 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2003-12-17 - 公布日： 2004-07-14 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置，具有由电子回旋加速器共振生成等离子体的等离子体室和保持由上述等离子体进行处理的试料的试料室，防着管防止上述等离子体的生成物附着在上述等离子体室的内壁上，根据上述等离子体发生时的温度分布
具有防着等离子体处理装置

[实用新型]一种用于空间等离子体密度诊断的HCN激光干涉仪系统-CN202122300293.3有效
发明人：解家兴;张雪梅;方茹 -专利权人：合肥市铭光光电科技有限公司
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G01B9/02017 文献下载
摘要：本公开属于激光干涉领域，公开了一种用于空间等离子体密度诊断的HCN激光干涉仪系统，包括空间等离子体模拟装置，所述空间等离子体模拟装置上开设有多组对称布置的窗口，处于所述空间等离子体模拟装置外侧设置有探测器和干涉仪光路系统；干涉仪光路系统将发射激光分成两束，一束激光从窗口进入至空间等离子体模拟装置内，从另一窗口进行穿出；另一束激光通过单波导绕过空间等离子体模拟装置与从窗口穿出的激光进行合束，合束后的激光进入至探测器内，当空间等离子体模拟装置中心产生等离子体时，两束激光之间就会产生相位变化，进而实时的获取空间等离子体模拟装置内的等离子体密度数据。
一种用于空间等离子体密度诊断 hcn 激光干涉仪系统

[发明专利]等离子体空间特性诊断装置-CN201710004694.X有效
发明人：陈果;何小珊;王涛;何智兵;刘艳松;李俊;张玲 -专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请日： 2017-01-04 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H05H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体空间特性诊断装置，属于等离子体特性诊断领域。本发明提供一种可实现对等离子体空间特性进行诊断的等离子体空间特性诊断装置，包括等离子体发生器和检测装置，等离子体发生器内具有密封的等离子体形成腔，检测装置包括检测探针和探针安装平台，检测探针安装在探针安装平台上，检测探针的检测端深入至等离子体形成腔内。本发明可实现对等离子体在空间上不同位置的特性参数进行检测、诊断，并且通过设置探针安装平台结构可实现检测探针的移动，进而实现检测探针在空间位置上的任意移动，实现对等离子体在空间上不同位置的特性参数进行诊断目的
等离子体空间特性诊断装置

[发明专利]等离子体产生装置及应用其的表面处理方法-CN201310704213.8在审
发明人：刘志宏;梁沐旺;吴胜斌;沈添沐 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2013-12-19 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体产生装置、应用其的表面处理方法与生物组织表面处理方法。该等离子体产生装置包括：等离子体导管、反应源导管、第一电极及第二电极。等离子体导管具有等离子体出口。反应源导管设于等离子体导管内，且具有反应物出口。第一电极及第二电极设于等离子体导管上，其中第二电极比第一电极邻近于等离子体出口。反应源导管的反应物出口不突出超过第一电极的下缘。
等离子体产生装置应用表面处理方法

[发明专利]磁化等离子体聚变点火装置及其局部快速加速加热点火方法-CN201710365114.X有效
发明人：贾月松 -专利权人：中国工程物理研究院流体物理研究所
申请日： 2017-05-22 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G21B1/15 文献下载
摘要：本发明提供一种磁化等离子体聚变点火装置及其局部快速加速加热点火方法。该磁化等离子体聚变点火装置具备：产生反场构形等离子体的形成系统，对所述反场构形等离子体进行加速的多级加速系统，以及使所述反场构形等离子体达到局部聚变点火条件的压缩喷射系统。根据本发明所产生的等离子体具有强磁化特征，增加能量沉积减少粒子损失，同时其特殊的磁场结构有助于等离子体自身的约束及稳定，更满足聚变等离子体点火要求。
磁化等离子体聚变点火装置及其局部快速加速加热点火方法

[实用新型]一种等离子体被褥消毒柜-CN201520843490.1有效
发明人：李强 -专利权人：北京昊天盛通科技有限公司
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： A61L2/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种等离子体被褥消毒柜，包括有消毒柜体，消毒柜体内设有等离子体消毒腔体，消毒柜体内安装有等离子体消毒装置，等离子体消毒装置包括有机体，机体上开有进气口和排气口，机体内位于进气口和排气口之间依次安装有风循环装置和等离子体消毒装置，所述进气口和排气口部位分别设有过滤装置，等离子体消毒装置包括有等离子体发生装置以及为等离子体发生装置供电的等离子体电源装置。
一种等离子体被褥消毒柜

[实用新型]一种等离子体腔室及用于物理气相沉积的预清洗设备-CN201720712790.5有效
发明人：张彦召;陈鹏 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型提供一种等离子体腔室和用于物理气相沉积的预清洗设备。本实用新型公开的等离子体腔室包括腔体、等离子体发生器、以及设置于腔体内用于支撑被加工工件的基座；还包括等离子体调节装置，等离子体调节装置设置在基座上方；且当工艺时，等离子体调节装置的表面形成有鞘层，等离子体中的离子密度大的区域中的部分离子被鞘层中的电子中和为中性粒子，从而使到达被加工工件表面的等离子体中的离子密度趋于均匀。本实用新型公开的用于物理气相沉积的预清洗设备包括本实用新型的等离子体腔室。本实用新型的等离子体腔室及预清洗设备内的等离子体的密度分布均匀，对被加工工件的加工质量高。
一种等离子体腔用于物理沉积清洗设备

[发明专利]等离子体滤筛装置、等离子体滤筛方法及其等离子体设备-CN200910160471.8无效
发明人：陈庆昌 -专利权人：陈庆昌
申请日： 2009-07-23 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种等离子体滤筛装置、等离子体滤筛方法及其等离子体设备，该等离子体滤筛装置包括：一滤筛结构体，其具有多个孔洞，其中该滤筛结构体包含：导体结构与绝缘结构，以及一控制电路系统，其耦接于该导体结构；更含有旁侧磁力模块通过应用上述等离子体滤筛装置于等离子体反应室(PlasmaChamber)设备中，等离子体滤筛装置可对离子(含质子)与电子的数量与能量的控制与筛选，以达到工艺的最佳化。
等离子体装置方法及其设备

[发明专利]等离子体约束装置及等离子体处理装置-CN200710176174.3有效
发明人：南建辉;宋巧丽 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2007-10-22 - 公布日： 2009-04-29 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体约束装置及等离子体处理装置，等离子体约束装置为空心柱状，侧壁上设有多个通孔，通孔的深度大于等离子体中带电粒子的平均自由程，通孔为圆孔或长条形孔。等离子体约束装置设于等离子体处理装置的上电极与下电极之间，并可以上下移动。当进行传片时，等离子约束装置升起；当传片结束时，等离子体约束装置降到合适位置，准备开始工艺。可以有效地把等离子体约束在上、下电极之间的工艺区域，减少反应室的颗粒污染以及延长非工艺区域部件的使用寿命。
等离子体约束装置处理

[发明专利]等离子体清洁装置-CN201110050682.3有效
发明人：车正辈;郑在皓;河京斗;李元镛;尹甫惠 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2011-03-03 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子体清洁装置，该等离子体清洁装置等离子体清洁可再充电电池及其构成元件。根据本发明示范性实施例的等离子体清洁装置包括：腔室，形成大气压力空间；等离子体头，形成在腔室中，产生大气压力等离子体，并通过将大气压力等离子体发射到设置在腔室中的可再充电电池来清洁可再充电电池的至少一部分；间隙控制单元，安装在等离子体头处并控制可再充电电池的该部分与等离子体头之间的间隙；以及排气管，形成在等离子体头的一侧，连接到腔室的外部并将清洁期间产生的气体排出。
等离子体清洁装置

[发明专利]用于使用大气压等离子体处理生物表面的装置-CN202180051995.2在审
发明人：格雷瓜尔·沙罗;马蒂厄·雅各布;蒂博·莱斯塔韦尔;西尔万·鲁兰;纳森·奥尔夫 -专利权人：欧莱雅
申请日： 2021-09-06 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： A61B18/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于使用大气压等离子体处理生物表面的装置，该装置包括：‑用于生成大气压等离子体的设备(DGP)，以及‑控制设备(DC)，该控制设备被配置为控制所述等离子体生成设备(DGP)在给定时间段内生成的等离子体量，并且限制所述等离子体生成设备(DGP)生成该等离子体，使得在该给定时间段内生成的等离子体量不超过最大阈值。
用于使用大气压等离子体处理生物表面装置