专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氮化物LED结构及其制备方法-CN201110095027.X有效
  • 于洪波 - 映瑞光电科技(上海)有限公司
  • 2011-04-15 - 2011-09-14 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种氮化物LED结构,其多量子阱有源层中的量子阱的宽度和/或的禁带宽度梯度变化,从而使空穴载流子更加易于输运到靠近N型电子注入层的量子阱中,提高了载流子在有源区中分布的均匀性,进一步提高了器件的内量子效率和发光效率;同时,还公开了一种氮化物LED结构的制备方法,通过梯度改变多量子阱有源层中的量子阱的宽度和/或的禁带宽度,使得靠近P型空穴注入层的宽度和/或的禁带宽度大,靠近N型电子注入层的宽度和/或的禁带宽度小,从而使空穴载流子更加易于输运到靠近N型电子注入层的量子阱中,提高了载流子在有源区中分布的均匀性,进一步提高了器件的内量子效率和发光效率。
  • 一种氮化物led结构及其制备方法
  • [发明专利]荧光淬火器件以及使用荧光淬火器件的显示器-CN200410028419.4有效
  • M·雷德克;J·费希尔 - 三星SDI株式会社
  • 2004-03-11 - 2004-12-01 - H05B33/22
  • 一种具有空穴层和/或电子层的显示器,借此空穴层和/或电子层设置在显示器的发射体层和第一电极层或第二电极层之间。空穴层的最高被占据的分子轨道的能量小于发射体层的最高被占据的分子轨道的能量,和/或电子层的最低未被占据的分子轨道的能量大于发射体层的最低未被占据的分子轨道的能量。通过安排空穴层和/或电子层的分子轨道的能级,可以产生势,阻止不期望的电荷载流子在显示器的再次发射模式操作期间沿相反方向的注入
  • 荧光淬火器件以及使用显示器
  • [发明专利]一种氮化物LED结构及其制备方法-CN201110112531.6无效
  • 于洪波;肖德元;程蒙召;张汝京 - 映瑞光电科技(上海)有限公司
  • 2011-05-03 - 2011-08-17 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种氮化物LED结构,其多量子阱有源层中的部分量子阱的进行了P型掺杂,利用势阱与组成的异质结结构具有的极化效应,可提高空穴浓度,降低P型空穴注入层的掺杂浓度,从而减少了掺杂原子向量子阱中扩散,提高了器件的内量子效率和发光效率;同时,还公开了一种氮化物LED结构的制备方法,通过选择性地对部分进行P型掺杂,提高了空穴浓度,降低了P型空穴注入层的掺杂浓度;并且量子阱的势阱与组成的结构具有极化效应,提高了的掺杂效率,降低了掺杂的杂质浓度;从而提高了器件的内量子效率和发光效率。
  • 一种氮化物led结构及其制备方法
  • [发明专利]一种具有单量子阱结构的深紫外LED及其制备方法-CN202210675845.5在审
  • 张毅;张骏;岳金顺 - 苏州紫灿科技有限公司
  • 2022-06-15 - 2022-09-09 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种具有单量子阱结构的深紫外LED及其制备方法,该深紫外LED包括依次层叠布置的蓝宝石衬底、AlN本征层、n型AlGaN电子注入层、电流扩展层、调制量子阱有源层、电子阻挡层、p型AlGaN空穴注入层和p型GaN接触层;沿电流扩展层至电子阻挡层的方向,调制量子阱有源层包括依次层叠布置的第一层、非掺杂层、势阱层和第二层,第一层与非掺杂层的Al组分百分数相同,第一层的Al组分百分数大于第二层的本发明通过对量子阱有源层进行调制设置,由第一层、非掺杂层、势阱层和第二层形成特定的单量子阱结构,改善了电子和空穴向量子阱中的注入效率,提高了器件的发光效率。
  • 一种具有量子结构深紫led及其制备方法
  • [发明专利]发光芯片的外延结构、发光芯片及显示背板-CN202110211462.8有效
  • 翟小林;杨顺贵 - 重庆康佳光电技术研究院有限公司
  • 2021-02-25 - 2022-12-16 - H01L33/06
  • 本发明涉及一种发光芯片的外延结构、发光芯片及显示背板,发光芯片的有源层包括多个交替生长的量子阱层和量子层,且量子层包括第三子层,以及分别位于第三子层上、下两侧的第一子层和第五子层,第一子层、第五子层与量子阱层的晶格常数之差,小于第三子层与所述量子阱层的晶格常数之差,使得因晶格失配导致的量子限制斯塔克效应得以遏制,减小能带弯曲,使电子和空穴的辐射复合效率得到提升;第三子层掺杂有P型杂质,注入到量子阱中的空穴数显著增加,空穴可尽可能均匀的分布在所有量子阱中,可进一步提升电子和空穴的辐射复合效率,从而提升内量子效率。
  • 发光芯片外延结构显示背板
  • [发明专利]具有渐变的量子层的发光二极管-CN201980039235.2在审
  • 李晓航 - 阿卜杜拉国王科技大学
  • 2019-06-10 - 2021-01-22 - H01L33/02
  • 一种发光二极管包括:形成在衬底上的n型氮化铝层,形成在该n型氮化铝层上的多量子阱,以及与该多量子阱相邻地形成的p型氮化铝空穴注入层。该多量子阱包括:第一氮化铝量子阱层,其具有固定组分并且由第一氮化铝量子层和第二氮化铝量子层包围,和第二氮化铝量子阱层,其具有固定组分并且由第二氮化铝量子层和第三氮化铝量子层包围。该第一氮化铝量子层、第二氮化铝量子层和第三氮化铝量子层中的至少一个具有渐变的铝组分。第一氮化铝量子层与n型氮化铝层相邻,并且第三氮化铝量子层与p型氮化铝空穴注入层相邻。
  • 具有渐变量子势垒层发光二极管
  • [实用新型]氮化镓晶体管-CN201922471991.2有效
  • 逯永建;贾利芳;肖金平;闻永祥;李东昇 - 杭州士兰集成电路有限公司
  • 2019-12-31 - 2021-01-29 - H01L29/778
  • 本申请公开了一种氮化镓晶体管,包括:位于衬底上的层;位于所述层上方第一区域的栅叠层,所述栅叠层包括栅极结构层以及位于所述栅极结构层和所述层之间的第一插入层;以及位于所述层上方第二区域的第一空穴注入层,所述第一区域和所述第二区域彼此隔开,其中,所述氮化镓晶体管的漏极电极与所述第一空穴注入层和所述层二者接触。该氮化镓晶体管采用第一空穴注入层向沟道层中注入电荷以释放陷阱能级捕获的电子,因而可以获得稳定的导通电阻。
  • 氮化晶体管
  • [发明专利]光电器件-CN202011634860.2在审
  • 杨一行;王天锋;周礼宽 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2020-12-31 - 2022-07-01 - H01L51/50
  • 本申请属于显示技术领域,尤其涉及一种光电器件,包括依次层叠设置的阳极、第二空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层和阴极,所述空穴传输层中空穴传输层材料的价带顶能级与所述第二空穴注入层中第二空穴注入材料的功函差值小于本申请提供的光电器件,通过在空穴传输层材料与第二空穴注入材料之间构筑小于‑0.2eV的注入,增大阳极向HIL的空穴注入,有效控制进入QLED器件内的空穴数量,使发光层中空穴电子注入速率平衡,提高载流子复合效率保证载流子在器件稳定工作状态下注入平衡的基础上,充分有效地利用器件中注入空穴,保证器件的发光效率,实现器件效率和寿命的同时提升。
  • 光电器件
  • [发明专利]III族氮化物半导体发光二极管-CN200810114715.4有效
  • 王海嵩;熊志军;张磊;鲍鹏 - 北京宇极科技发展有限公司
  • 2008-06-11 - 2008-10-22 - H01L33/00
  • III族氮化物半导体发光二极管,其活性层为存在内部电场的量子阱结构,所述量子阱结构活性层由位于p型区域一侧的第一层、量子阱层、和位于n型区域一侧的第二层所构成的,其特征在于:所述量子阱层中插入第三层,所述第三个层的厚度满足以下条件:(1)由p型区域注入空穴能被屏蔽在第三层与位于p型区域一侧的第一层之间;(2)由n型区域注入的电子能自由通过第三层,向能量最低的区域移动。本发明通过插入第三层,使电子和空穴的波动函数的空间重叠部分增大,发光复合效率增大,是插入第三层之前的2-3倍。
  • iii氮化物半导体发光二极管
  • [发明专利]光电器件-CN202011643638.9在审
  • 杨一行;周礼宽;王天锋 - TCL科技集团股份有限公司
  • 2020-12-31 - 2022-07-01 - H01L51/50
  • 本申请属于显示技术领域,尤其涉及一种光电器件,包括依次层叠设置的阳极、第一空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层和阴极,所述空穴传输层中空穴传输材料的价带顶能级与所述第一空穴注入层中第一空穴注入材料的功函差值的绝对值小于等于本申请提供的光电器件,通过限定|ΔEHTL‑HIL|小于等于0.2eV,使HTL与HIL之间的空穴注入能级能够显著降低,提高空穴从阳极的注入效率,有利于空穴从HIL向HTL的有效注入,消除及界面电荷,减小器件的整体电阻,从而避免在HIL和HTL之间界面处电荷积累造成不可逆破坏,降低器件驱动电压、提升器件寿命。
  • 光电器件
  • [发明专利]一种空穴传输层搭配的硅基OLED器件结构-CN202211713104.8在审
  • 刘腾飞;杨建兵;秦昌兵;张阳;唐宇;王玉珠 - 南京国兆光电科技有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-06-02 - H10K50/15
  • 一种空穴传输层搭配的硅基OLED器件结构,包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层组成的复合空穴传输层结构,空穴注入层结构由空穴传输主体材料以及P型掺杂材料组成,空穴传输层由空穴传输主体材料与空穴传输次主体材料组成,电子阻挡层由空穴传输次主体材料与电子阻挡材料组成,且构成空穴传输主体材料的HOMO能级与空穴传输次主体材料的HOMO能级不同。空穴传输次主体材料的HOMO能级大于电子阻挡材料的HOMO能级。本发明通过材料设计产生两个空穴传输通道,从而分别提升两个发光单元的空穴注入传输效率,降低由于材料HOMO能级不同导致的效应。通过降低空穴传输来降低热效应,从而实现OLED器件的高寿命表现。
  • 一种空穴传输搭配oled器件结构

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