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[发明专利]图形曝光装置用的试样台-CN99102830.9无效
发明人：相崎尚昭 -专利权人：日本电气株式会社
申请日： 1999-03-05 - 公布日： 1999-11-03 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：一种曝光装置用的试样台将在掩模上形成的电路图形复制在试样上,没有放大倍数偏差、检测部件和位置偏移计量部件而引起的精度降低,另外,也不会使掩模本身或掩模支持的基片受到损伤。即使在掩模图形小的情况下,也可以在短时间内,将试样硅基片伸长或缩短。图形曝光装置用的试样台,被分为中央部和周围部,分别设有吸附试样硅基片21的吸盘机构,周围的一部分或全部可以从试样台的中心沿半径方向移动。
图形曝光装置试样

[发明专利]制造金属掩模的方法及使用该方法形成的金属掩模-CN201410448981.6有效
发明人：李忠浩;朴东真;李道炯;尹盛湜;郑茶姬;赵俊豪 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-09-04 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：公开了一种制造金属掩模的方法及使用该方法形成的金属掩模。根据本发明示例性实施方式的制造金属掩模的方法包括：通过在板的顺序变小的、重叠的部分上用激光进行扫描来使用激光在板中形成通孔。
制造金属方法使用形成

[发明专利]铝材着色物的制造方法、着色方法-CN201410213790.1有效
发明人：中村纪和;田林勲;大西胜 -专利权人：株式会社御牧工程
申请日： 2014-05-20 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： B05D5/06 文献下载
摘要：本发明提供一种铝材着色物的制造方法、着色方法，所述铝材着色物的制造方法是对铝材进行着色而成的铝材着色物的制造方法，包括：掩模形成步骤(S104)，在铝材上形成对预先设定的区域进行覆盖的设定区域被覆掩模；着色步骤(S106)，对于铝材上未被设定区域被覆掩模覆盖的区域，利用染料进行着色；及掩模剥离步骤(S108)，在着色步骤(S106)之后将设定区域被覆掩模从铝材剥离；在掩模形成步骤(S104)中，使用以喷墨方式喷出液体的液体喷头，由所述液体喷头将用于形成设定区域被覆掩模的液体即掩模形成用液体，喷出至铝材上。
着色制造方法

[发明专利]掩模清洗装置以及掩模清洗方法-CN201780056058.X有效
发明人：朴善淳;李海龙;朴南奎;金东训;池成勋;洪沅义;朴永一 -专利权人：株式会社达文希斯
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩模清洗装置以及掩模清洗方法，其能够清洗残留在有机发光装置用金属掩模表面上的有机物。所述掩模清洗装置可以包括：真空腔室，在内部形成有能够收纳掩模的收纳空间，并且在内部形成真空环境，从而易于去除残留在所述掩模上的有机物；第一清洗光照射装置，能够向收纳于所述真空腔室中的所述掩模照射清洗光，从而在所述真空环境下对所述有机物施加光能，以便能够从所述掩模分解并分离所述有机物以进行去除；以及控制部，能够向所述第一清洗光照射装置提供脉冲波电源。
清洗装置以及方法

[发明专利]显示装置的制造方法-CN201810842483.8在审
发明人：徐硕焄;文炳禄;李济镐 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-02-12 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：提供包括显示区域和第一周边区域及第二周边区域的基板，第一周边区域及第二周边区域界定在显示区域的外侧并且隔着显示区域彼此相对；在基板上形成电路层；在显示区域上形成元件层；以及以覆盖元件层的方式形成封装层，形成封装层的步骤包括：将第一沉积用掩模配置为与第一周边区域的一部分重叠，第一沉积用掩模包括第一中心部及从第一中心部沿第一方向延伸的第一分支部；将第二沉积用掩模配置为与第二周边区域的一部分重叠，第二沉积用掩模包括第二中心部及从第二中心部沿与第一方向相反的方向延伸的第二分支部；以及利用第一沉积用掩模及第二沉积用掩模，在元件层上沉积第一封装膜。
周边区域沉积掩模显示区域中心部方向延伸显示装置分支部封装层元件层基板彼此相对方向相反覆盖元件电路层封装膜界定配置制造

[发明专利]掩模板用基板、掩模板以及光掩模-CN201080007529.6有效
发明人：丸山修;原田和明;赤川裕之 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2010-02-09 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模板用基板、掩模板以及光掩模。该掩模板用基板是由正反两个主表面和四个端面构成的薄板，在端面与主表面之间设置倒角面。主表面的一条边的长度为500mm以上。
模板用基板以及光掩模

[发明专利]硬掩模及制造硬掩模的方法-CN201780066724.8在审
发明人：户岛宏至;古川真司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-01 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明的一个实施方式的硬掩模是在含硅膜上形成的等离子蚀刻用的硬掩模。该硬掩模包含钨和硅、且为非晶膜。硬掩模表面中的钨浓度与硅浓度之比可以处于以钨浓度35at.％与硅浓度65at.
硬掩模等离子蚀刻硬掩模表面非晶膜含硅膜制造

[发明专利]一种掩模板的照明设备-CN201410501845.9在审
发明人：魏志凌;张璞;孙杰 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2014-09-27 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板的照明设备，包括灯箱、灯箱升降机构、灯箱保护机构以及支撑机构，通过灯箱升降机构调整灯箱上升或下降，灯箱保护机构包括卷帘以及卷帘拉动机构，卷帘拉动机构可以拉动卷帘在灯箱的上方遮盖或暴露灯箱，当激光切割掩模板开口时卷帘遮盖在灯箱的上方，防止激光切割或焊接过程中产生的温度较高的金属碎屑掉落在灯箱上，从而起到保护灯箱的作用。本发明提供的用于OLED蒸镀用掩模板的照明设备，在OLED蒸镀用掩模板开口制作、掩模板开口检测以及掩模板组装等工序中可以自动控制灯箱的上升或下降、自动控制卷帘在灯箱上方遮盖或暴露灯箱，从而增加灯箱的使用寿命
一种模板照明设备

[发明专利]反射型光掩模坯和反射型光掩模-CN202080082067.8在审
发明人：中野秀亮;合田步美;市川显二郎 -专利权人：凸版光掩模有限公司
申请日： 2020-11-25 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够抑制或减轻以极端紫外区域的波长的光为光源的图案化转印用的反射型光掩模的投影效应、且对氢自由基具有耐性的反射型光掩模坯和反射型光掩模。本实施方式涉及的反射型光掩模坯(10)是用于制作以极端紫外线为光源的图案转印用的反射型光掩模的反射型光掩模坯，具有：基板(1)、在基板(1)上形成的包含多层膜的反射层(2)、以及形成在反射层(2)上的吸收层
反射型光掩模坯型光掩模

[发明专利]反射型光掩模坯和反射型光掩模-CN202180029440.8在审
发明人：中野秀亮;合田步美;市川显二郎 -专利权人：凸版光掩模有限公司
申请日： 2021-04-28 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够抑制或减轻以极端紫外区域的波长的光为光源的图案化转印用的反射型光掩模的投影效应、且对氢自由基具有耐性的反射型光掩模坯和反射型光掩模。本实施方式涉及的反射型光掩模坯(10)是用于制作以极端紫外线为光源的图案转印用的反射型光掩模的反射型光掩模坯，具有：基板(1)、在基板(1)上形成的包含多层膜的反射层(2)、以及在反射层(2)上形成的吸收层
反射型光掩模坯型光掩模

[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模及显示装置用器件的制造方法-CN202310618401.2在审
发明人：中山憲治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-07-29 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：提供光掩模的制造方法、光掩模及显示装置用器件的制造方法。即使在利用相移作用的光掩模中产生缺陷，也能够进行精密的修正。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有转印用图案，该转印用图案包含将在透明基板上形成的半透光膜图案化而成的半透光部，所述光掩模的制造方法包括如下工序：在所述半透光部产生了缺陷的情况下，确定要实施修正的所述缺陷
光掩模制造方法显示装置器件

[发明专利]印刷用金属掩模-CN202180058448.7在审
发明人：油井忍;市川隆二 -专利权人：奔马有限公司
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B41N1/24 文献下载
摘要：得到一种印刷用金属掩模，其使在印刷图案的外周部排列的1～3列网孔的面积比中央部的网孔的面积小，减少了鞍状现象。印刷用金属掩模具备：掩模主体部；凹部，其形成于掩模主体部下表面，且向掩模主体部的上表面凹陷；以及菱形的多个网孔，其形成于掩模主体部的印刷图案区域内，多个网孔包括：大型的菱形网孔，其配置于印刷图案区域的中央部
印刷金属

[发明专利]一种四层掩模图案化磁性隧道结的方法-CN201610284008.4有效
发明人：张云森;肖荣福 -专利权人：上海磁宇信息科技有限公司
申请日： 2016-04-29 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H01L43/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种四层掩模图案化磁性隧道结的方法，包括以下步骤：步骤1：在基底上形成磁性隧道结膜层单元；步骤2：在磁性隧道结膜层单元上形成四层掩模膜层单元；步骤3：在四层掩模膜层单元上形成光刻胶单元；步骤4：通过光刻将光刻胶单元图案化；步骤5：将四层掩模膜层单元图案化；步骤6：将磁性隧道结膜层单元图案化；步骤7：用离子束刻蚀对被破坏的图案化磁性隧道结膜层单元侧壁进行修整；步骤8：用氮化硅层包覆图案化后的磁性隧道结膜层单元本发明有效地改善了钽掩模刻蚀过后的图案和轮廓，以及消除了钽掩模在磁性隧道结刻蚀之前的消耗，降低了磁性随机存储器电路位线和磁性隧道结单元短路的风险。
一种四层掩模图案磁性隧道方法

[发明专利]制造半导体器件的方法-CN97103039.1无效
发明人：林濬熙 -专利权人： LG半导体株式会社
申请日： 1997-03-17 - 公布日： 2003-05-28 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：制造半导体器件的方法，包括在第一导电类型的衬底的第一第二区上形成多个栅极，第一第二区高度不同，栅极上有绝缘盖层；栅极作掩模，以低浓度向所述衬底注入第二导电类型的杂质，在栅极两侧上形成侧壁；以高浓度只向所述衬底的第二区注入第二导电类型的杂质，形成源和漏区；在衬底整个表面上形成绝缘层，在绝缘层上形成第一掩模图形，用第一掩模图形形成接触孔，暴露第一区的源和漏区及第二区上的栅极上的绝缘盖层；除去第一掩模图形，在绝缘上形成第二掩模图形，用第二掩模图形暴露形成于第一区上的栅极表面
制造半导体器件方法

[实用新型]一种掩模板的照明设备-CN201420559201.0有效
发明人：魏志凌;张璞;孙杰 -专利权人：昆山允升吉光电科技有限公司
申请日： 2014-09-27 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩模板的照明设备，包括灯箱、灯箱升降机构、灯箱保护机构以及支撑机构，通过灯箱升降机构调整灯箱上升或下降，灯箱保护机构包括卷帘以及卷帘拉动机构，卷帘拉动机构可以拉动卷帘在灯箱的上方遮盖或暴露灯箱，当激光切割掩模板开口时卷帘遮盖在灯箱的上方，防止激光切割或焊接过程中产生的温度较高的金属碎屑掉落在灯箱上，从而起到保护灯箱的作用。本实用新型提供的用于OLED蒸镀用掩模板的照明设备，在OLED蒸镀用掩模板开口制作、掩模板开口检测以及掩模板组装等工序中可以自动控制灯箱的上升或下降、自动控制卷帘在灯箱上方遮盖或暴露灯箱，从而增加灯箱的使用寿命
一种模板照明设备