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[发明专利]光掩模的制造方法、光掩模及显示装置用器件的制造方法-CN202310618401.2在审
发明人： 中山憲治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-07-29 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：提供光掩模的制造方法、光掩模及显示装置用器件的制造方法。即使在利用相移作用的光掩模中产生缺陷，也能够进行精密的修正。一种光掩模的制造方法，该光掩模具有转印用图案，该转印用图案包含将在透明基板上形成的半透光膜图案化而成的半透光部，所述光掩模的制造方法包括如下工序：在所述半透光部产生了缺陷的情况下，确定要实施修正的所述缺陷，决定形成用于修正所述缺陷的修正膜的修正区域的工序；以及修正膜形成工序，在所述修正区域形成所述修正膜，在所述修正膜形成工序中，依次层叠第1膜和第2膜，所述第1膜具有比所述半透光膜高的透射率，所述第2膜具有用于调整所述修正膜的透射率的透射率。
光掩模制造方法显示装置器件

[发明专利]光掩模、其修正方法、制造方法、显示装置用器件的制造方法-CN201910689040.4有效
发明人： 中山憲治 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-07-29 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：提供光掩模、其修正方法、制造方法、显示装置用器件的制造方法。即使在利用相移作用的光掩模中产生缺陷，也能够进行精密的修正。一种光掩模修正方法，对具有在透明基板(1)上将半透光膜(2)图案化而形成的转印用图案的光掩模中产生的缺陷(20)进行修正，包括确定缺陷(20)的工序；形成修正膜(4)的修正膜形成工序。半透光部(12)具有对于曝光光的代表波长的光的透射率Tm(％)(Tm＞25)和相移量φm(度)(160≤φm≤200)。在修正膜形成工序，按任意的顺序层叠组成彼此不同的第1膜4a和第2膜4b。第1膜4a包含Cr及O，第2膜4b包含Cr、O及C。第1膜不包含C，或包含含量小于第2膜的含量的C，第2膜包含含量小于第1膜的含量的O。
光掩模修正方法制造显示装置器件