专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种在线气相色谱分离检测装置-CN202020191189.8有效
  • 童孟;戴博森;李悦;兰洁;兰琳 - 陕西煤田地质化验测试有限公司
  • 2020-02-21 - 2020-11-10 - G01N30/02
  • 提供一种在线气相色谱分离检测装置,用于硅烷组分及其杂质甲基二硅烷在线气相色谱分离检测。设置的大气平衡装置,可保证良好的进样重复性;设置的硅烷组分、甲基二硅烷的进样管路采用并行设计,实现了硅烷组分、甲基二硅烷相对独立的在线分离检测,可单独运行,不互相影响;设置的三个十通阀、两根填充柱、两根金属毛细管柱、三个热导检测器、一个氢火焰离子化检测器,可对硅烷组分及其杂质甲基二硅烷同时进行分离测定,甲基二硅烷的分离测定通过两根金属毛细管色谱柱的分离并结合热导检测器测定及十通阀的切割,有效保证干扰甲基二硅烷检测的硅烷主要组分三氢硅、四氯化硅不进入氢火焰离子化检测器,仅目标物甲基二硅烷进入氢火焰离子化检测器,避免三氢硅、四氯化硅进入氢火焰离子化检测器后造成管路堵塞和检测器损坏。
  • 一种在线色谱分离检测装置
  • [发明专利]生产硅烷、一硅烷、二硅烷和六硅烷的系统-CN202011623031.4有效
  • 陶刚义 - 内蒙古兴洋科技股份有限公司
  • 2020-12-31 - 2022-09-20 - C01B33/04
  • 本发明公开了一种生产硅烷、一硅烷、二硅烷和六硅烷的系统,包括:原料合成系统、硅烷合成系统、一硅烷合成系统、二硅烷合成系统和六硅烷合成系统;其中,原料合成系统包括氢化系统、歧化塔一、歧化塔二、冷凝器一和冷凝器二;冷凝器一固定在歧化塔一的顶端,并与歧化塔一连通;冷凝器二固定在歧化塔二的顶端,并与歧化塔二连通;氢化系统的入口与六硅烷合成系统连通;顶端出口与歧化塔一的入口连通;歧化塔一的顶端出口与歧化塔二的入口连通,底端出口与六硅烷合成系统的入口连通;歧化塔二的底端出口与歧化塔一的入口连通,顶端出口与硅烷合成系统的入口连通。
  • 生产硅烷六氯乙系统
  • [发明专利]一种液体核磁定量分析硅烷的方法-CN202310709154.7在审
  • 叶凡凡;李鑫;张榆春;翟倩;成敏;刘宏超;米茜;王亚萍 - 四川永祥能源科技有限公司
  • 2023-06-15 - 2023-09-29 - G01N24/08
  • 本发明提供了一种液体核磁定量分析硅烷的方法,涉及硅烷的分析检测技术领域,其包括:步骤S1、取硅烷混合样品到溶剂中溶解后,取预定量溶解后的硅烷混合样品到核磁管中;步骤S2、将核磁管放置到液体核磁共振谱仪中在常温下进行测试,根据核磁氢谱标准图谱确定硅烷混合样品各组分的氢谱化学位移和氢谱强度;步骤S3、定量计算硅烷混合样品各组分的相对含量比例。不同类型硅烷中氢的化学环境不同在核磁氢谱标准图谱中表现为不同化学位移;不同浓度硅烷对应核磁氢谱表现出不同强度。由于硅烷每个氢原子的核磁效应一定,因而根据不同浓度硅烷的对应氢谱强度可以定量混合样品中各组分的相对含量。
  • 一种液体定量分析硅烷方法
  • [发明专利]电子级六硅烷萃取提纯的方法及萃取精馏系统-CN201810182085.8有效
  • 李金金 - 李金金
  • 2018-03-06 - 2021-05-07 - C01B33/107
  • 本发明公开了电子级六硅烷萃取提纯的方法及萃取精馏系统,所述提纯获取电子级六硅烷包括3N、4N、5N级,通过低密度萃取剂A和高密度萃取剂B进行萃取以及精馏提纯,具体经过脱去六硅烷中低沸点杂质、脱去六硅烷中低密度杂质、脱去六硅烷中萃取剂A杂质、脱去六硅烷中高沸点杂质、脱去六硅烷中高密度杂质、脱去六硅烷中萃取剂B杂质、产出电子级六硅烷步骤,并对萃取剂进行精馏回收获取萃取剂A和萃取剂B;与常规精馏吸附过程相比,本发明的萃取精馏方法提纯能耗小,提纯成本大约仅为传统精馏方法成本的12%~25%,消耗相同能耗生产出的产品质量品级高,提纯过程中损失更小,提纯六硅烷产品收率更高
  • 电子级六氯乙硅烷萃取提纯方法精馏系统
  • [发明专利]半导体装置的形成方法-CN201910921640.9在审
  • 林资敬;林建智;朱峯庆;吴卓斌 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-09-27 - 2020-04-03 - H01L21/336
  • 在一实施例中,方法包括:形成第一栅极堆叠与第二栅极堆叠于鳍状物上;蚀刻鳍状物以形成凹陷于第一栅极堆叠与第二栅极堆叠之间的鳍状物中;以及形成外延的源极/漏极区于凹陷中,包括:配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢于凹陷中,以成长第一层衬垫凹陷的侧部与底部,以及在成长第一层之后,配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢于凹陷中,以成长第二层于第一层上,其中成长第一层时以第一流速配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢的每一者,而成长第二层时以第二流速配送硅烷、二硅烷、三硅烷、与氯化氢的每一者。
  • 半导体装置形成方法

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