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[实用新型]氢气作为还原剂的金属或非金属生产系统-CN202221977077.0有效
发明人：王体虎;宗冰;张宝顺;鲍守珍;王生红 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C01B33/023 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种氢气作为还原剂的金属或非金属生产系统，其包括可再生能源发电单元、电解水制氢单元、氢气储存单元、氢还原单元、氢气循环单元、水循环单元及氢能转化单元。上述生产系统仅以可再生能源作为驱动能源，以水和氧化物矿石为原料，在中间物料氢气的还原作用下，从氧化物矿石中获取单质金属或非金属，是一种创新的金属/非金属绿色提取技术；氢气作为储能载体，可克服可再生能源的波动性、间歇性和不可存储性难题，能够保障生产系统连续、稳定运行，是一项将可再生能源‑储能‑新型工业生产模式高度耦合使用的技术，符合当下社会发展需求；同时还能够实现水和氢气的循环利用，改善二氧化碳等污染气体的排放问题。
氢气作为还原剂金属非金属生产系统

[发明专利]一种硅材料的制备方法及装置-CN202210916057.0在审
发明人：王体虎 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2022-08-01 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C01B33/023 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅材料的制备方法及装置，属于多晶硅的生产技术领域。该制备方法包括以下步骤：将含有二氧化硅的硅源与过量的干燥氢气在反应装置中，于温度为600‑3000℃以及压力为0.3‑100MPa的条件下进行高温还原反应。该方法工艺链短、碳排放量少，环境友好，能够有效制备得到太阳能级硅。相应的制备装置结构简单，成本低，易操控。
一种材料制备方法装置

[实用新型]一种反应器-CN202123382266.1有效
发明人：宗冰;任长春;张宝顺;王生红;鲍守珍;王体虎 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： B01J19/12 文献下载
摘要：本实用新型涉及工业生产技术领域，具体涉及一种反应器。本实用新型提供的反应器包括反应器本体和红外反射组件，红外反射组件能够对电磁波进行反射，因此可以根据反应器不同空间区域对于温度的需求选择不同红外反射率的红外反射组件设置在对应位置的反应器本体的内壁上，这样就能够根据实际需求来选择设置不同形状、尺寸、曲率和红外反射率的红外反射组件，以对反应器本体内部不同空间区域的温度进行调整；进而满足不同反应对于反应器内部各个空间区域温度分布的调控。
一种反应器

[发明专利]硅基电子特气的制备方法及硅基电子特气的生产系统-CN202011474790.9有效
发明人：宗冰;王生红;张宝顺;陈海宝;刘建华;刘廷泽;王体虎 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-12-14 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： C01B33/107 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅基电子特气的制备方法及硅基电子特气的生产系统，该制备方法包括：将包括气态三氯氢硅和氢气在内的反应原料混合，反应得到固体硅和包含硅基电子特气SixClyHz在内的气态产物，其中，x、y、z均为整数，1≤x≤10，0≤y≤22，0≤z≤22；将所述气态产物进行分离处理。本发明通过采用包括气态三氯氢硅和氢气在内的反应原料混合反应，然后经过分离可一次性得到多种所需的高纯的硅基电子特气，且制备方法简单，绿色环保，节能降耗，成本低，适合大规模产业化生产。
电子制备方法生产系统

[实用新型]还原炉-CN202022494674.5有效
发明人：宗冰;张宝顺;任长春;苏明录;孟兵营 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-11-02 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C01B33/035 文献下载
摘要：本实用新型涉及生产技术领域，尤其是涉及一种还原炉，包括对可见及红外光具有反射作用的光反射层和对可见及红外光具有透射作用的光透射层，所述光反射层包括靠近反应物料一侧的反射端面和另一侧的贴合端面，所述光透射层设置在所述反射端面上。能够避免光反射层在还原炉的间歇性运行中与空气中的氧气结合而在表面生成金属氧化膜，使得光反射层的反射性能急剧下降，无法长时间维持高的反射率的情况。
还原

[实用新型]反应器-CN202022063903.8有效
发明人：史正斌;宗冰;鲍守珍;郭梅珍;冉胜国;王振荣;许保红 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C01B33/03 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反应器，所述反应器包括反应腔体，所述反应腔体的侧壁包括基层和设置于所述基层内侧的复合层，所述复合层能够将待填充于所述反应腔体内的反应物料与所述基层隔开，解决了现有技术中冷氢化反应器价格高昂的问题。
反应器

[发明专利]硅芯炉控制系统及方法-CN202010194425.6有效
发明人：王喆;郝晓琼;尹东林;宗冰;刘江;白银;崔圳 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G06T7/70 文献下载
摘要：本发明实施例提出一种硅芯炉控制系统及方法，涉及多晶硅生产领域。该系统包括摄像装置、图像处理装置及控制柜，摄像装置与图像处理装置电连接，图像处理装置与控制柜通信连接，摄像装置从硅芯炉的视镜位置采集硅芯炉内的硅芯熔接部的视频图像，并将视频图像传输至图像处理装置，图像处理装置根据视频图像获取硅芯熔接部的位置、高度、第一表面的直径和第二表面的直径，并将位置、高度、第一表面的直径和第二表面的直径传输至控制柜，控制柜在位置、高度、第一表面的直径和第二表面的直径中的至少一个出现异常时，调节硅芯炉对应的控制参数，以控制硅芯炉正常运行，有效提高了硅芯炉的生产效率，降低人工误操作的风险。
硅芯炉控制系统方法

[发明专利]多晶硅还原炉控制方法、装置及电子设备-CN202010570351.1有效
发明人：杨明财;宗冰;丁小海;施光明 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明提供了一种多晶硅还原炉控制方法、装置及电子设备，涉及多晶硅材料制备技术领域，该方法首先基于已启动的还原炉确定曲线集合，曲线集合包括：目标多晶硅沉积曲线、物料曲线和电流曲线；然后确定随时间变化的实际多晶硅沉积曲线，实际多晶硅沉积曲线包括多晶硅沉积的实际值，最后确定实际多晶硅沉积曲线与目标多晶硅沉积曲线的第一偏差，当第一偏差的绝对值大于第一阈值时，调节输入还原炉的物料的量，直至第一偏差的绝对值小于第一阈值。该方法通过及时调整输入还原炉的物料的量，从而控制多晶硅的生成过程，使多晶硅的还原过程不再过于依赖人工经验，简化了操作过程，提高了生产过程可重复性，保证了产品质量。
多晶还原控制方法装置电子设备

[发明专利]多晶硅还原炉自动化控制方法-CN202010541113.8有效
发明人：丁小海;宗冰;吉红平;杨明财;王体虎 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： C01B33/027 文献下载
摘要：本发明涉及多晶硅生产技术领域，尤其是涉及一种多晶硅还原炉自动化控制方法，包括以下步骤：在还原炉运行之前，将电流曲线以及还原炉的运行周期内的理想温度曲线输入至还原炉的控制系统中；将还原炉的运行周期划分为第一阶段和第二阶段，分别包括多个时间点，在各个时间点对硅棒的温度进行实时测量；在第一阶段，根据所测量的硅棒在某一时间点的实际温度与该时间点在理想温度曲线上对应的理想温度之间的差值以及该时间点在电流曲线上对应的电流值计算第一补偿电流，以使硅棒表面的温度维持在设定温度范围；在第二阶段，控制系统根据辐射功率变化计算第二补偿电流。本发明提供的控制方法能够保证对还原炉整个生产过程中的温度进行准确控制。
多晶还原自动化控制方法

[发明专利]硅棒制备方法、硅芯及硅棒制备装置-CN202010740661.3有效
发明人：施光明;李宇辰;王琳;韩玲;郭光伟;吉红平;何乃栋;陈宏博 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-07-27 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： B24B5/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅棒制备方法、硅芯及硅棒制备装置，涉及多晶硅生产技术领域，该硅芯沿其轴向设有多个间隔设置的凹陷部，凹陷部沿垂直于硅芯的轴向向内形成周向凹陷部。该硅棒制备装置包括还原炉和硅芯，硅芯安装在还原炉内。该硅棒制备方法包括沿硅芯的轴向量取所需长度并设置标记点；在标记点处构建多个凹陷部；将硅芯安装在还原炉内生长，待硅棒生长到一定直径后停炉；取出生长到一定直径的硅棒，通过敲击的方式获得所需尺寸的硅棒。解决了现有技术中存在的硅棒在人工敲砸时容易直接敲成碎块，进而造成浪费的技术问题。
制备方法装置

[发明专利]一种淋洗设备及淋洗方法-CN202010188501.2有效
发明人：王体虎;毛建伟;文祯;星盛煜;冉胜国 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-03-17 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： B01D47/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种淋洗设备及淋洗方法，属于化工生产环保技术领域。其所含的净化吸收装置包括第一筒体、进气管以及排气管；进气管的进气部用于接入废气，进气管的出气部位于第一筒体内，排气管的进气端与第一筒体连通，排气管的排气端用于排气。水雾发生装置包括进雾管以及水雾分布装置，进雾管的一端与水雾分布装置连通，水雾分布装置位于第一筒体内且设置于进气管的上方。上述设备可对接入的废气进行有效净化吸收，明显降低排放至大气的气体中的粉尘含量。采用上述淋洗设备淋洗后能有效降低化工生产过程中产生的废气和污染物。
一种淋洗设备方法

[发明专利]多晶硅还原炉的涂层及其制备方法、多晶硅还原炉及其用途-CN202010275300.6有效
发明人：张宝顺;王体虎;宗冰 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种多晶硅还原炉的涂层及其制备方法、多晶硅还原炉及其用途，涉及多晶硅生产技术装备领域，多晶硅还原炉的涂层的制备方法包括：利用第一冷气体动力喷涂在所述多晶硅还原炉与物料接触的表面喷涂第一颗粒形成基层；利用第二冷气体动力喷涂在所述基层远离所述多晶硅还原炉的表面喷涂第二颗粒形成面层，其中，所述第一冷气体动力喷涂的第一颗粒的速度和所述第二冷气体动力喷涂的第二颗粒的速度均为超音速，且所述第一颗粒的速度大于所述第二颗粒的速度；所述基层和所述面层适于反射红外辐射。形成基层的第一颗粒的喷涂速度较高，基层与多晶硅还原炉的表面结合强度较强，形成面层的第二颗粒的喷涂速度较低，利于降低涂层喷涂成本。
多晶还原涂层及其制备方法用途

[实用新型]多晶硅还原炉及多晶硅生产系统-CN202021481982.8有效
发明人：施光明;李宇辰;王琳;韩玲;杨月龙;童占忠;郭光伟;何乃栋;陈宏博 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-07-23 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C01B33/03 文献下载
摘要：本实用新型提供一种多晶硅还原炉及多晶硅生产系统，涉及多晶硅还原炉结构技术领域，为解决现有技术中存在多晶硅还原炉仅能够位于固定位置进行装载、反应以及卸料等步骤，导致产料、原料以及废料之间不能够充分隔离，容易出现相互掺杂污染的问题而设计。本实用新型提供的多晶硅还原炉，包括钟罩、底盘、电极以及滚轮。钟罩罩设于底盘，并形成用于生产多晶硅的反应腔，电极的一端穿入底盘并延伸至反应腔，且电极由外部电源供电；滚轮转动连接于底盘的底部。本实用新型还提供一种多晶硅生产系统，包括上述的多晶硅还原炉。
多晶还原生产系统

[实用新型]还原炉-CN202021461467.3有效
发明人：施光明;李宇辰;王琳;杨月龙;童占忠;陈宏博;吉红平;郭光伟;蒲泽军 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C01B33/035 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种还原炉，涉及多晶硅生产技术领域，该还原炉包括底盘以及设置于底盘的喷料组件；喷料组件包括进料环管，进料环管上设有多个用于向上喷出混合气体的进料喷嘴，多个进料喷嘴沿进料环管的周向设置，进料喷嘴包括喷嘴出口段，喷嘴出口段与竖直面之间呈夹角设置。通过该还原炉，解决了现有技术中存在的还原炉内的气场分布不均，导致多晶硅棒的生长环境不适宜，进而使产品质量较差的技术问题。
还原

[发明专利]喷涂设备-CN202010264328.X有效
发明人：张宝顺;王志权;冉胜国;任长春;孟兵营;宗冰;王体虎 -专利权人： 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： B05B13/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种喷涂设备，涉及喷涂多晶硅生产装备的技术领域。喷涂设备用于向还原炉的钟罩内壁喷涂涂料；喷涂设备包括：旋转装置和喷涂装置；旋转装置用于与钟罩开口处的法兰盘固定连接，且带动钟罩径向旋转；喷涂装置用于向钟罩的内壁喷涂涂料。由于旋转装置与钟罩开口处的法兰盘固定连接，无需触碰钟罩外壁，因此不需要拆除钟罩外部的保温层，免去保温层拆除和再安装的步骤，从而简化操作流程，提高喷涂效率。另外，上述设备适用于开口向下放置的钟罩，能够令钟罩在旋转时受力均匀。并且，喷涂设备处于常固定状态，无需经常移动或拆装，这样不仅能够简化作业流程，提高喷涂效率，还能够保障自身的稳定性，从而保障喷涂质量。
喷涂设备

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