专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种铜柱凸点结构的制作方法及其结构-CN201310307081.5无效
  • 戴风伟;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2013-07-22 - 2013-10-02 - H01L21/60
  • 本发明提供了一种铜柱凸点结构及制作方法,简化了工艺制程,降低了生产成本,同时提高了产品的良品率,其包括以下步骤:(1)在IC晶圆上制作多层RDL金属互连结构,当完成最后一层RDL金属互连层的电镀后,剥离光刻胶,但不腐蚀其种子层;(2)在最后一层RDL金属连层及其种子层上直接涂覆光刻胶,用于制作铜柱凸点;(3)对光刻胶图形化,裸露出RDL金属互连层,以确定铜柱凸点的大小和节距;(4)电镀铜柱和SnAg焊料;(5)剥离光刻胶;(6)刻蚀最后一层RDL金属互连层的种子层,也是用于电镀铜柱凸点的种子层;(7)SnAg焊料回流;本发明同时还供了一种铜柱凸点结构。
  • 一种铜柱微凸点结构制作方法及其
  • [发明专利]铜柱的制造方法-CN201710735809.2有效
  • 王福亮;王峰;赵志鹏;聂南天;任鑫宇;曾鹏;朱文辉 - 中南大学
  • 2017-08-24 - 2019-11-05 - H01L21/60
  • 本发明公开了一种铜柱的制造方法,包括:步骤一、在绝缘衬底上完成多层RDL金属互连结构,在最后一层金属互连结构外对应导电通道位置处设置焊盘;步骤二、制作阳极,阳极的直径与铜柱的直径相匹配;步骤三、制作阳极夹具盘,将制作好的阳极安装于阳极夹具盘上对应焊盘的区域,并将各阳极连通;步骤四、将装有阳极的阳极夹具盘放置在芯片上方,使阳极与焊盘一一对应,将阳极夹具盘连接至电镀电源的正极,芯片连接至电镀电源的负极;步骤五、采用局部电化学沉积方法,在焊盘上电镀沉积出需要的铜柱。对设备的要求较低,制备过程简单,降低了制作成本;并且可通过多焊盘和多阳极同时制备多个铜柱,生产效率较高。
  • 微铜柱制造方法
  • [实用新型]双球转动型发热电流按摩仪-CN201920700016.1有效
  • 石晓东 - 深圳市四季电子有限公司
  • 2019-05-15 - 2020-09-04 - A61H15/02
  • 本实用新型公开一种双球转动型发热电流按摩仪,包括手持主体部以及按摩头部;该手持主体部内设置有电源、第一PCB板、用于产生电流的第二PCB板,该按摩头部包括有用于按摩的转动圆球,该转动圆球内设置有铜柱、轴承、导热件、发热板;该铜柱电性连接于第一PCB板、第二PCB板,该轴承套设于铜柱外,该发热板安装于铜柱内,该导热件连接于铜柱上端并位于轴承上方;该转动圆球内还设置有用于传递电流的弹针;借此,通过由第一PCB板控制第二PCB板产生的电流传递到转动圆球上,并控制发热板使转动圆球发热的结构设计,使其同时具备转动、发热、电流等按摩方式,提高了按摩理疗的效果,增加了用户的体验效果,解决了按摩方式单一性的问题
  • 转动发热电流按摩
  • [发明专利]测量TSV铜柱中残余应力的方法-CN201310261083.5有效
  • 王珺;翟歆铎;张兆强;肖斐 - 复旦大学
  • 2013-06-26 - 2013-12-11 - G01N19/00
  • 本发明涉及微电子领域,公开了一种测量TSV铜柱中残余应力的方法。本发明中,在待测的TSV铜柱表面确定一个测试原点;在所述测试原点的三个方向上,分别制备相同的一组标记,三组标记与所述测试原点的位置关系相同;在所述测试原点处打微孔;检测所述打微孔前后,三组所述标记的位置变化;根据所述三组标记的位置变化,结合弹性力学,计算得到所述测试原点处的残余应力。使得TSV铜柱中残余应力的测试无需应变片,也无需测定样品TSV铜柱的粗糙度,降低了测试要求,同时也保证了测量的残余应力的高精度。
  • 测量tsv铜柱中残余应力方法
  • [发明专利]一种铜柱凸块结构的制作方法-CN201510738820.5在审
  • 林正忠;蔡奇风 - 中芯长电半导体(江阴)有限公司
  • 2015-11-03 - 2016-01-06 - H01L21/60
  • 本发明提供一种铜柱凸块结构的制作方法,包括以下步骤:S1:提供一晶圆级芯片基体,在其表面形成凸块下金属层;S2:形成一光阻层,并形成若干光阻层开口;S3:形成塑封层;S4:采用压印方法在所述塑封层中形成若干塑封层开口;S5:在所述塑封层开口内自下而上依次形成铜柱及锡基金属合金柱;S6:去除所述光阻层及所述塑封层;S7:去除所述铜柱周围多余的所述凸块下金属层,并进行回流工艺使所述锡基金属合金柱形成锡基金属合金帽。本发明采用塑封层材料代替了厚光阻层,并采用压印方法在所述塑封层中形成铜柱凸块图形,其中,压印方法形成图形与光学问题无关,从而可以显著减小特征尺寸偏移,使得特征尺寸更加精确,并降低了工艺复杂性。
  • 一种铜柱凸块结构制作方法
  • [发明专利]铜柱凸点结构及成型方法-CN201410135780.0有效
  • 李昭强;戴风伟;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2014-04-04 - 2017-01-04 - H01L23/485
  • 本发明涉及一种半导体结构及方法,尤其是一种铜柱凸点结构及成型方法,属于半导体制造的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述铜柱凸点结构,包括基底及位于所述基底上的绝缘层;所述绝缘层上设有金属焊盘,所述金属焊盘的外圈设有介质层,所述介质层覆盖在绝缘层上,并覆盖在金属焊盘的外圈边缘;金属焊盘的正上方设有铜柱,所述铜柱的底部通过种子层与金属焊盘及介质层接触,且种子层覆盖铜柱的外侧壁;在铜柱的顶端设有焊料凸点。本发明采用在光刻胶上形成种子层的方法,避免了侧向钻蚀的现象,并且铜柱侧壁表面具有种子层,对铜柱形成保护作用,提高了凸点加工制造的可靠性和良品率。
  • 铜柱凸点结构成型方法

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