专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果120369个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种硅基径向同质异质太阳电池及其制备方法-CN201310278007.5有效
  • 沈文忠;钟思华;韩旭根 - 上海交通大学
  • 2013-07-03 - 2013-10-09 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种硅基径向同质异质太阳电池及其制备方法。本发明提供的硅基径向同质异质太阳电池,包括:硅衬底和所述硅衬底上的硅线阵列;所述硅线阵列中的各个硅线皆包括内层、中间层和外壳层,在各个所述硅线的所述内层和所述中间层之间形成径向PN,在各个所述硅线的所述中间层和所述外壳层之间形成径向异质;所述PN结为同质,所述同质结为晶体硅PN、PP+或NN+浓度,所述异质结为晶体硅/非晶硅PP+、P+P++、N+N++、NN+浓度或NI、PI。这种电池充分结合了径向PN电池和同质异质电池的优势,因此可在低质量硅材料上实现较高的光电转换效率,同时能提高电池性能的稳定性。
  • 一种径向同质异质结太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]锗衬底-砷化镓/锗异质薄膜复合结构及其制法和应用-CN202110274722.6有效
  • 张建军;黄鼎铭 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-03-15 - 2023-07-21 - H01L31/109
  • 本发明提供一种锗衬底‑砷化镓/锗异质薄膜复合结构,其包括具有图形结构的锗衬底、位于所述锗衬底上的具有无原子台阶锗表面的锗层,以及位于所述锗层上的砷化镓层。本发明还提供一种制备本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质薄膜复合结构的方法。本发明还提供本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质薄膜复合结构或本发明的方法制得的锗衬底‑砷化镓/锗异质薄膜复合结构在锗基III‑V族半导体光电器件中的应用。本发明的锗衬底‑砷化镓/锗异质薄膜复合结构能够完全避免砷化镓/锗异质结构中反向畤的产生,进而实现无缺陷的异质薄膜。本发明的制备方法简单,且能够实现大规模阵列式可控生长。
  • 衬底砷化镓锗异质结薄膜复合结构及其制法应用
  • [实用新型]一种晶体硅异质太阳电池-CN201621054544.7有效
  • 高超;黄海宾;周浪;岳之浩 - 南昌大学
  • 2016-09-14 - 2017-06-20 - H01L31/0264
  • 一种晶体硅异质太阳电池,其结构从迎光面开始依次为前电极、TiOx层、晶体硅吸收层、本征非晶硅钝化层、p型非晶硅重掺杂层、背电极。迎光面使用n型掺杂的TiOx与晶体硅形成异质,而背面使用传统的非晶硅/晶体硅异质结结构。另外,TiOx可良好钝化硅片表面且与硅形成良好异质,有助于增加异质电池的开路电压。因此,本实用新型所提出晶体硅异质太阳电池可同时实现高的开路电压和短路电流,提高晶体硅异质太阳电池的光电转换效率。
  • 一种晶体硅异质结太阳电池
  • [发明专利]一种半导体器件及其制造方法-CN202010288188.X在审
  • 黎子兰 - 广东致能科技有限公司
  • 2020-04-13 - 2020-10-23 - H01L29/778
  • 本发明涉及一种半导体器件及其制造方法;其中半导体器件,包括:第一沟道层;第一势垒层,其中在第一沟道层与第一势垒层之间形成具有垂直界面的第一异质,在所述第一异质内形成垂直的2DEG或2DHG;第一电极,其位于所述第一异质的上侧,经配置以与所述第一异质内的2DEG或2DHG电接触,其中所述第一电极与所述第一异质结上方的第一外部电压连接;以及第二电极,其位于所述第一异质的下侧,经配置以与所述第一异质内的2DEG或2DHG电接触,其中所述第二电极与所述第一异质结下方的第二外部电压连接。
  • 一种半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]一种具有异质的碳纳米管垂直阵列结构的制备方法-CN201210345378.6有效
  • 侯鹏翔;宋曼;刘畅;成会明 - 中国科学院金属研究所
  • 2012-09-17 - 2013-01-09 - C01B31/02
  • 本发明涉及异质碳纳米管垂直阵列结构的可控制备领域,具体为一种具有异质碳(氮掺杂/未掺杂)的碳纳米管垂直阵列结构的可控制备方法。异质也指分子内节,是由两种不同类型的碳纳米管即氮掺杂和未掺杂碳纳米管在连接处形成。以沉积在Si基片或SiOX/Si基片上的铁为催化剂,利用化学气相沉积法,在碳纳米管垂直阵列生长过程中,适时加入氮源,获得氮掺杂/未掺杂的碳纳米管异质垂直阵列,并可对异质的长度、个数和结构等进行有效、本发明提供的可控制备异质垂直阵列结构的方法简单,异质结结构明显,且异质结过渡区窄、结构均一,可望在二极管、纳米开关、放大器等领域获得应用。
  • 一种具有异质结纳米垂直阵列结构制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top