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[实用新型]基底支撑组件和基底传送装置-CN201120078987.0有效
发明人：陈万海;樊海洋;刘远宏 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-03-23 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基底支撑组件和基底传送装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底支撑组件成本较高或不能为基底提供稳定、可靠的支撑的问题。本实用新型的基底支撑组件包括：固定部；与所述固定部连接的支撑部，所述支撑部具有用于与基底接触的支撑面，且所述支撑面与基底的接触面积能随基底压力的作用而增大。本实用新型的基底传送装置包括上述基底支撑组件，以及用于驱动上述基底支撑组件的驱动单元。本实用新型可用于在真空环境下传送基底。
基底支撑组件传送装置

[发明专利]基底支撑装置和使用该基底支撑装置抛光基底的方法-CN201911058079.2在审
发明人：秋秉权;姜胜培;裵俊和;姜奉求;朴廷敏;梁熙星;曹雨辰 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：提供了一种基底支撑装置和使用其抛光基底的方法。所述基底支撑装置可以包括设置在框架中的多孔吸盘、设置在多孔吸盘上的吸附垫以及设置在多孔吸盘与吸附垫之间的粘合剂层。
基底支撑装置使用抛光方法

[发明专利]基底传送装置和用在该基底传送装置中的基底引导单元-CN200810093868.5有效
发明人：扈顺奎 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2008-04-30 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： B65G13/00 文献下载
摘要：一种基底传送装置，包括多个成排布置的轴和安装在各个所述轴上以随所述轴一起旋转的传送辊。引导单元被设置成这样：当基底通过所述传送辊的旋转而传送时，所述引导单元防止基底在侧向上摇动。所述外环的外周面与基底的底部边缘接触从而支撑基底，并且所述引导件的侧面与基底的侧部接触从而防止基底在侧向上运动。所述内环随所述轴一起运动，并且所述外环通过与基底的摩擦力而旋转。
基底传送装置中的引导单元

[发明专利]基底切割装置-CN201910129395.8在审
发明人：金雄;姜景元;金范俊;金志勳;金台东;卢成镐;沈儁皓;沈亨辅;李熙硕;韩在求 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：提供一种基底切割装置。所述基底切割装置包括：基体部分；台，位于基体部分上；分隔构件，与台间隔开；以及排气结构，在单元基底下方并被构造为排出气态物质。台具有被构造为支撑单元基底的顶表面和垂直于顶表面的连接表面，分隔构件面向连接表面并被构造为支撑单元基底。
基底切割装置分隔构件支撑单元顶表面连接表面面向连接排气结构气态物质排出垂直

[发明专利]基底分离装置-CN201410076306.5有效
发明人：李承俊;李荣佑;金俊亨 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-03-04 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： B32B38/10 文献下载
摘要：一种分离彼此接触的第一基底和第二基底的基底分离装置，该装置包括固定第一基底并沿由彼此垂直相交的X轴和Y轴组成的XY坐标系中的正X轴方向传送第一基底的上传送部件以及被设置在上传送部件下方并且其间具有间隙并固定和传送第二基底的下传送部件，其中下传送部件包括沿正X轴方向传送第二基底的第一传送部分以及沿正X轴方向和负Y轴方向传送第二基底的第二传送部分。
基底分离装置

[发明专利]基底装载装置-CN201410050919.1有效
发明人：韩京熙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-02-14 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：基底装载装置包括框架部分、主支撑件和副支撑件，框架部分形成多个基底被装载在其中的装载空间，并具有基底被插入在其中的入口表面以及与入口表面相对的后表面，主支撑件从框架部分的后表面伸出，以支撑装载后的基底的后侧，副支撑件被安装在框架部分的入口表面并从入口表面伸出，以支撑装载后的基底的与后侧相对的前侧。
基底入口表面装载副支撑件主支撑件装载装置后表面伸出装载空间支撑

[实用新型]基底传送装置-CN201820144368.9有效
发明人：张海陆;黄志凯;颜廷彪 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-01-26 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种基底传送装置，包括底座、用于承载和传送基底的基底承载传送结构、以及至少一个连接所述底座和基底承载传送结构的连接臂，所述基底传送装置还包括用于对所述整个基底进行扫描的扫描感应器，所述扫描感应器设置于所述连接臂上，当所述基底传送装置承载基底之后，所述扫描感应器对所述基底进行扫描，从而能够及时发现破损的基底，防止破损基底进入机台，避免机台不必要的报警及停机，并且有利于减少基底的返工，提高产量。
基底基底传送装置扫描感应机台基底承载传送连接臂底座破损扫描承载本实用新型返工停机报警发现

[实用新型]基底校正装置-CN201120086248.6有效
发明人：周贺;刘还平;潘梦霄;常有军 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-03-29 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基底校正装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底校正装置不能既保证校正操作容易进行又避免基底滑动的问题。本实用新型的基底校正装置包括：第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。
基底校正装置

[实用新型]基底传输装置-CN201822173873.9有效
发明人：朱俊宇;唐文力;陶洪建;吴钱忠;祝玥华;李田田 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基底传输装置，包括存储模块、升降模块、控制模块及对称设置的第一传感器模块和第二传感器模块，升降模块连接存储模块以驱动存储模块沿竖直方向移动，存储模块内沿竖直方向设置有若干基底，第一传感器模块及第二传感器模块等高设置并在对准基底时触发检测动作，控制模块通过获取第一传感器模块及第二传感器模块之间的触发间隔以判断出基底的状态。本实用新型有利于提高基底状态的检测效率，降低基底传输装置的故障率；进而通过第三传感器模块与机械手模块之间的自动标定，缩短了标定时间，提高了响应速率。
基底存储模块第二传感器第一传感器传输装置本实用新型控制模块升降模块竖直方向移动传感器模块机械手模块触发检测等高设置对称设置方向设置基底状态自动标定故障率标定触发竖直对准驱动响应检测

[发明专利]基底制程装置-CN200880113565.3有效
发明人：尹松根;宋炳奎;李在镐;金劲勳 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2008-09-04 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种基底制程装置，包括：一个腔室，其限定一内部空间，在该内部空间中相对于一个基底实施一个制程；一个支撑构件，其排布在腔室中用于支撑基底；以及一个引导管，其排布在支撑构件上方，用于将在所述内部空间中生成的等离子体引导至支撑构件上的基底所述引导管被配置为柱面的形状，该柱面具有的截面形状基本相应于基底的形状，以及该引导管将通过其一端引入的等离子体通过其另一端排出到支撑构件。
基底装置

[发明专利]基底加工装置以及基底加工方法-CN201910132969.7在审
发明人：森幸博 -专利权人： ASMIP控股有限公司
申请日： 2019-02-22 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：基底加工装置的示例包括：台板；外周缘环，其围绕所述台板，同时在所述台板的侧表面与所述外周缘环之间设置有间隙；供气单元，其构造为将气体从所述间隙的下侧供应至所述间隙的上侧；以及上电极，其设置在所述台板上方
台板基底加工装置外周缘供气单元基底加工侧表面电极

[发明专利]光刻装置以及光刻装置的基底调整方法-CN202011412052.1在审
发明人：陈雄;宋光辉;李新振 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻装置以及光刻装置的基底调整方法，所述光刻装置包括工件台和辊轮台，所述辊轮台用于传送基底至所述工件台上，所述工件台包括基底调整装置，所述基底调整装置用于调整基底在基底工位上的Rz方向位置，所述基底调整装置包括若干个吸附旋转模块、若干个夹持模块以及若干个驱动模块，当基底发生Rz方向偏移时，所述吸附旋转模块支撑若干个基底，所述夹持模块夹持基底，并带动基底绕所述吸附旋转模块转动，以此可以调整基底在基底工位上的
光刻装置以及基底调整方法

[发明专利]基底位置检测方法、基底处理方法和基底处理装置-CN200810004753.4无效
发明人：成乐范 -专利权人： PSK有限公司
申请日： 2008-01-28 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明披露了基底位置检测方法、基底处理方法和基底处理装置，具体披露了一种对放置在支撑板上的基底的位置进行检测的方法，其中，通过测量支撑板的温度来检测放置在支撑板上的基底的位置。将基底放置在支撑板上之后，测量支撑板的温度并且将它与参考温度进行比较。如果测量温度处于参考温度范围之内，则判定基底是放置在支撑板上的适当位置处。另一方面，如果测量温度处于参考温度范围之外，则判定基底不在支撑板上的适当位置处。当基底不是放置在支撑板上的适当位置处时，就产生警报，或者中止对基底的处理。
基底位置检测方法处理装置

[发明专利]一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机-CN201711046776.7有效
发明人：田翠侠;孙伟旺;杜荣 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-10-31 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，所述基底预对准方法包括选取基准基底，获取所述基准基底的图像；获取待预对准基底的图像；将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准，得出完成配准的预对准基底的图像的偏移参数；根据所述偏移参数调整所述待预对准基底的角度，完成基底预对准；所述基底预对准装置包括定位装置，图像采集分析装置以及控制装置。使用本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，无需在基底上进行特定的标记便可实现对基底的预对准操作，通用性更强，有利于提高生产效率。
一种基底对准方法装置以及光刻

[发明专利]基底处理装置以及使用该基底处理装置输送基底的方法-CN200810172584.5有效
发明人：金德植;李俊宰 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2008-10-30 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了基底处理装置和输送基底的方法。该基底处理装置包括：具有双层结构的第一处理单元，在该第一处理单元中，沿垂直方向布置有进行涂敷过程的第一处理部和进行显影过程的第二处理部；第一缓冲单元，其提供让已在所述第一处理部中处理过的基底等待的位置；第二缓冲单元，其提供让将要在所述第二处理部中进行处理的基底等待的位置；用于进行曝光过程的第二处理单元；以及交接单元，其使基底在所述第一缓冲单元和所述第二缓冲单元与所述第二处理单元之间输送。该交接单元包括：被设成与所述第一处理单元相邻的框架；和设置在所述框架中的第一基底接收部，其用于接收已在所述第一缓冲单元中接收到的并且将要输送至所述第二处理单元的基底。
基底处理装置以及使用输送方法

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