专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]2-芳氨基-5-甲酰-嘧啶的制备方法-CN202010273474.9在审
  • 陆雪根;李宏林;顾耿峰 - 安徽昊帆生物有限公司
  • 2020-04-08 - 2020-06-16 - C07D239/42
  • 本发明提供一种2‑芳氨基‑5‑甲酰‑嘧啶的制备方法,使用胍盐与六氟磷酸阿诺德盐反应,生成所述2‑芳氨基‑5‑甲酰‑嘧啶。根据本发明实施例的2‑芳氨基‑5‑甲酰‑嘧啶的制备方法,使用阿诺德盐可以有效地制备嘧啶环,副产物易于去除,且通过选用六氟磷酸阿诺德盐,性能稳定且不易吸湿,因此对于制备条件要求低且得到的产品稳定性也高,另外,通过选择原料胍和六氟磷酸阿诺德盐来合成2‑芳氨基‑5‑甲酰‑嘧啶,该方法具有合成路线简短、操作简便、成本低、产率高、易于工业化生产的优点。
  • 氨基甲酰基嘧啶制备方法
  • [发明专利]一种抛光减薄装置和抛光减薄方法-CN202010101837.0在审
  • 汪宁 - 中国科学院微电子研究所
  • 2020-02-19 - 2020-06-19 - B24B37/10
  • 本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,包括:托盘,用于固定待加工部件,所述待加工部件包括InP晶圆;喷头,用于向所述待加工部件的待加工表面喷涂抛光液,以对所述待加工表面进行抛光;磁转子,放置在所述待加工部件的待加工表面上由于减薄过程中待加工部件如InP晶圆本身不旋转,因此,可以大大降低抛光减薄过程中对待加工部件如InP晶圆的挤压应力,大大降低待加工部件如InP晶圆的机械加工损伤。
  • 一种抛光装置方法

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