专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基座、基座偏压的调整方法和等离子体发生装置-CN201910189726.7在审
  • 张超 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2019-03-13 - 2020-09-22 - H05H1/46
  • 本发明属于半导体加工技术领域,具体涉及基座、基座偏压的调整方法和等离子体发生装置。该基座包括金属盘,该金属盘包括互相绝缘设置的至少两个子盘,每一子盘均与射频源和偏压连接,基座还设置有偏压的调整电路,所有子盘均与调整电路连接,调整电路用于:以所有子盘中绝对值最小的偏压的直流偏压值为基准电压值,将施加至其他子盘的偏压的直流偏压值调节至与基准电压值相比在一设定范围内。其通过对基座上的电场分布进行调整,即通过自动检测并比较偏压的直流偏压值来调整各子盘所施加偏压的直流偏压值的大小,对基座上的偏压分区进行自动调整,从而实现整个基座区域刻蚀的均匀性调整,改善对晶圆刻蚀的均匀性
  • 基座偏压调整方法等离子体发生装置
  • [发明专利]干蚀刻设备及干蚀刻方法-CN201110159714.3无效
  • 高桥秀治 - 富士胶片株式会社
  • 2011-06-09 - 2011-12-14 - H01J37/32
  • 干蚀刻设备包括:真空室,其中包括固定待蚀刻部件的载物台;工艺气体提供装置,用于向真空室中提供工艺气体;等离子体产生装置,其包括用于在真空室中产生等离子体的电极;等离子体产生电源,其向等离子体产生装置的电极提供用于进行等离子体产生的高频电源偏压,其为单偏压,用于控制载物台的自偏压位,并且其输出频率可变;匹配箱,其为电连接在载物台与偏压之间的单匹配箱,并且对偏压的负载与偏压之间的阻抗进行匹配;频率设置装置,用于设置偏压的输出频率;以及控制装置,用于根据所设置的偏压的输出频率来控制匹配箱的阻抗。
  • 蚀刻设备方法
  • [发明专利]图像形成装置-CN201410458846.X有效
  • 坂户伸吾 - 京瓷办公信息系统株式会社
  • 2014-09-10 - 2017-03-29 - G03G15/02
  • 带电偏压对带电部件施加直流电压的带电偏压。显影部件与像载体的表面相向设置,在像载体的表面显影调色剂像。显影偏压对显影部件施加重叠有交流电压与直流电压的显影偏压。控制装置控制带电偏压以及显影偏压。在将显影于像载体表面的调色剂像转印在被转印体上的图像形成处理开始以前,控制装置控制带电偏压,执行使像载体表面带电的前带电控制。在图形成处理开始以后,控制装置控制带电偏压以及显影偏压,执行后带电控制,以使像载体的表面电位与显影偏压之间的电位差成为能够防止发生图像不良的有效电位差。
  • 图像形成装置
  • [实用新型]一种激光接收系统、激光雷达系统以及机器人设备-CN202020949420.5有效
  • 冉银春;金超;李通;唐旋来 - 上海擎朗智能科技有限公司
  • 2020-05-29 - 2021-02-26 - G01S17/08
  • 本实用新型公开了一种激光接收系统、激光雷达系统以及机器人设备,其中,激光接收系统包括:光电接收阵列、I/V转换电路、信号处理电路、控制器和偏压路;光电接收阵列包括多个光电接收单元,以将激光信号转换为电信号;I/V转换电路将电信号由电流信号转换为电压信号;信号处理电路将电压信号进行放大和整形处理;偏压路包括多路偏压单元,每路偏压单元可与至少一个光电接收单元连接,为光电接收单元提供供电偏压;控制器还包括与多路偏压单元一一对应连接的偏压调制端,以输出调制信号以调节对应偏压单元输出的电压值。本方案,可解决现有的单个偏压路只能为对应APD进行偏压补充,无法兼容不同数量的APD进行偏压补偿的问题。
  • 一种激光接收系统激光雷达以及机器人设备

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