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[发明专利]射频线圈及电感耦合等离子体设备-CN202310930951.8在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种射频线圈及电感耦合等离子体设备。射频线圈包括线圈主体；线圈主体包括至少两个移动段与至少一个伸缩段，任意相邻的两个移动段通过伸缩段连接，移动段与伸缩段交替设置，以使线圈主体呈线型；伸缩段能够伸缩而长度改变，至少两个移动段的相对位置能够改变，以使线圈主体的形状改变。电感耦合等离子体设备包括气源组件、腔体与上述射频线圈。上述线圈主体通入电流后产生高频电磁场。在针对不同的待镀膜产品或不同批次的待镀膜产品对镀膜的不同要求，可以将相应的移动段进行位置调节，伸缩段可根据相邻两个移动段之间的位置改变以进行伸缩，从而改变线圈主体形成的电磁场，以得到分布状态符合要求的等离子体。
射频线圈电感耦合等离子体设备

[实用新型]加工设备-CN202222551127.5有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种加工设备，包括管体及挡板。管体设置于内腔。管体沿第一预定平面分布。管体的端口连接于能够提供冷却介质的供应组件。挡板设置于第一预定平面的一侧。挡板与第一预定平面之间的距离小于或等于预设值。在管体沿第一预定平面分布的同时，挡板设置于第一预定平面的一侧，且与第一预定平面之间的距离小于预设值，能使挡板的热量均匀传递至管体，使挡板的温度下降。内腔中的杂质气体遇到温度较低的挡板时，会凝结成液态并附着在挡板的表面。在挡板具有较充分的表面积以及挡板的温度足够低的情况下，内腔中的大部分杂质气体会凝结并附着在挡板表面，从而有效减少内腔中的杂质气体，避免工艺处理的质量受到影响。
加工设备

[实用新型]一种全自动数字化螺丝拧紧机-CN202222627204.0有效
发明人：张敬;何文豪;欧辉煌;邬文波;杨兴;廖咏晴 -专利权人：长沙奕皇智能科技有限公司;湖南奕控教育科技有限公司
申请日： 2022-10-08 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： B23P19/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动数字化螺丝拧紧机，涉及螺丝拧紧机技术领域，包括多工位机架，所述多工位机架的上端外表面设置有运行报警灯；所述多工位机架的一侧外表面设置有防护端盖，所述防护端盖的上端挖表面设置有风琴防护罩，所述风琴防护罩的一侧外表面设置有载板，所述载板位于供料底板的上端外表面，所述供料底板的上端设置有供料支撑杆，所述供料支撑杆的上端外表面设置有供料顶板。本实用新型的一种全自动数字化螺丝拧紧机，设置的供料顶板、气缸与输送架，便于供料，旋转盘，用于传送加工件，同时配合扫描结构进行螺丝拧紧，螺丝拧紧机包括多个工位，通过各工位之间的互相配合以及相机进行实时监测，实现人工智能。
一种全自动数字化螺丝拧紧

[实用新型]ICP处理设备-CN202222621504.8有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种ICP处理设备包括：箱体装置、离子发生装置及连接架。箱体装置设有内腔及输入口。内腔能够容纳待加工件。离子发生装置用于产生电感耦合等离子体，且离子发生装置可转动地连接于箱体装置。离子发生装置设有出射口。连接架连接于离子发生装置与箱体装置之间，连接架在出射口与输入口之间形成对接通道。由于离子发生装置可转动地连接于箱体装置，使离子发生装置能够相对箱体装置处于不同的相对角度。在不同的相对角度下，能够到达待加工件的电感耦合等离子体的数量存在差异，从而能够改变作用于待加工件的电感耦合等离子体的能量强度，让ICP处理设备能够满足不同类型的待加工件的能量强度要求。
icp 处理设备

[发明专利]基片加工设备-CN202211172158.8在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： F28D21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种基片加工设备，基片加工设备设有内腔，基片加工设备包括：壁板及外板。壁板用于形成内腔的边界；外板设置于壁板背向内腔的一侧；外板与壁板之间设有间隙，以形成用于通过第一冷却流体的流通空间。由于壁板形成了内腔的边界面，当基片接受加工处理时，在内腔中所产生的一部分热量传递至壁板。第一冷却流体通入流通空间时，第一冷却流体能与壁板朝向于外板的一侧产生热传递。由于第一冷却流体通过壁板与外板之间的间隙流动，从而使第一冷却流体与壁板之间具有较大的接触面积，有效提升了第一冷却流体吸收热量的效率及内腔冷却的效率，使内腔不容易上升至较高的温度，保证基片的工艺处理稳定运行，防止基片的加工受到影响。
加工设备

[发明专利]等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置-CN202211180908.6在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻挂板用于装载待镀膜产品，其包括主体以及吸热结构，主体具有抵接面，待镀膜产品具有镀膜面及背离镀膜面的安装面，抵接面与安装面相贴合。吸热结构设置于主体，吸热结构用于对主体进行散热。在对待镀膜产品进行等离子体刻蚀镀膜时，将待镀膜产品安装至主体，且将待镀膜产品的安装面与抵接面贴合。通过在主体上设置吸热结构将主体及待镀膜产品所汇聚的热量吸收，从而对主体及待镀膜产品进行降温。产品温度降低可以使得等离子体较快地沉积在镀膜面，从而形成较为稳定的膜层，提高膜层质量。尤其是等离子体形成温度较高的镀膜场景下，采用该等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置可以较好地保护待镀膜产品。
等离子体蚀刻装置

[发明专利]大尺寸ICP供气模组与ICP设备-CN202211212108.8在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种大尺寸ICP供气模组与ICP设备。大尺寸ICP供气模组包括供气模块与区域供气管。供气模块用于环形设置于线圈周侧，供气模块包括多个供气分块，供气分块具有供气通道，供气通道具有出气口，多个供气分块首尾可拆卸连接；供气模块包括多个供气区域，供气区域内设置有至少一个供气分块。区域供气管的数量与供气区域的数量相同，且一一对应，区域供气管用于向对应供气区域内的所有供气分块供气。将大尺寸供气模块转化为小尺寸的供气分块，可以降低制作成本且提高供气分块的通用性。通过调节不同的区域供气管实现对供气气体的调控，从而即时调控供气气体的均匀性，从而提高膜层质量。
尺寸 icp 供气模组设备

[实用新型]偏压装置及基片处理设备-CN202222597197.4有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种偏压装置及基片处理设备，偏压装置包括主腔组件、偏压板及传导组件。主腔组件设有内腔；内腔的一部分空间形成能够容纳载具的处理工位。偏压板连接于主腔组件且设置于处理工位的一侧。传导组件电连接于偏压板与偏压电源之间。由于偏压板设置于处理工位的一侧，从而在基片的一侧形成电场的一个电极。在电场的另一个电极处于处理工位背向偏压板的一侧的情况下，能引导等离子体或其他粒子移动至与基片接触，对基片产生相应的工艺处理。由于偏压板连接于主腔组件，偏压板的位置相对主腔组件保持稳定，因而电场的状态不会因载具的移动而发生变化，从而提高了电场的稳定性，保证了对基片的工艺处理质量。
偏压装置处理设备

[实用新型]腔体装置及基片加工设备-CN202222621469.X有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种腔体装置及基片加工设备，腔体装置包括：壁体组件及密封件。壁体组件用于形成内腔的边界。壁体组件设有连通于内腔的通口。壁体组件还设有冷却流道。密封件连接于壁体组件。密封件具有柔性并围绕于通口的边缘。密封件设置于冷却流道背向内腔的一侧。在相关器件与通口对接时，密封件能对通口边缘外侧的间隙进行填充。由于冷却流体在冷却流道中流动，在内腔向壁体组件传导热量时，冷却流体在沿冷却流道流动的过程中持续地吸收向密封件方向传递的热量，从而减少密封件对热量的吸收，降低密封件的温度，防止高温加剧密封件的老化，延长密封件的使用寿命，让内腔能始终维持稳定的真空状态，因而可对基片进行可靠的工艺处理。
装置加工设备

[实用新型]运载装置及基片处理设备-CN202222504388.1有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种运载装置及基片处理设备，运载装置包括：机台、导杆、主绝缘块及载具。机台具有多个可转动的导轮及多个具有磁性的磁导件。多个导轮沿第一方向呈线性分布。导杆承载于多个导轮上，且能够沿第一方向相对机台移动。主绝缘块连接于导杆。载具与主绝缘块连接。载具包括主框及连接于主框的导向条。导向条的移动路径的两侧均设置有磁导件。导向条具有磁性，磁导件以同名磁极朝向于导向条。由于载具通过主绝缘块连接导杆，从而使载具与导轮之间处于绝缘状态，如此，当载具在不同的工艺环节之间进行转移的过程中，载具能够与机台保持绝缘，进而确保承载于主框内的基片与机台保持绝缘。
运载装置处理设备

[实用新型]检测装置及处理设备-CN202222510142.5有效
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-21 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G01V8/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种检测装置及处理设备，检测装置包括：发射件、第一反射件、第二反射件及接收件。发射件用于产生检测光线。第一反射件用于反射检测光线。第二反射件与第一反射件之间设有间隙。接收件与发射件处于预定平面的一侧。第一反射件及第二反射件处于预定平面的另一侧。接收件用于接收至少经第一反射件及第二反射件反射的检测光线。通过接收件与发射件处于预定平面的一侧，第一反射件及第二反射件处于预定平面的另一侧，第一反射件及第二反射件的反射，避免发射件及接收件需要分别连接至呈相对关系的不同壁体，让发射件及接收件能够同时连接靠近载架边缘的壁体上，从而能方便减小发射件与接收件之间的安装距离，利于提高装配效率。
检测装置处理设备

[发明专利]ICP设备-CN202211197682.0在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种ICP设备。ICP设备包括具有工件位与电感位的腔体以及排气筏板，排气筏板活动设置于腔体内，排气筏板内部设置供气通道，供气通道具有多个出气口；排气筏板可相对腔体平移，以改变排气筏板的各出气口与工件位、电感位之间的距离；排气筏板可沿其长度方向转动，以改变排气筏板的各出气口与工件位、电感位之间的角度。排气筏板在相对腔体平移或转动后，可以调整工艺气体与工件位或电感位之间的距离及角度，从而调整工件位处或电感位处的工艺气体分布，以及对应的工艺气体流速、流量等因素，进而调整工件位处或电感位处的等离子体的分布以及能量，以改变薄膜沉积与表面刻蚀的占比，提高膜层质量。
icp 设备

[发明专利]等离子体蚀刻治具和等离子体蚀刻设备-CN202211180433.0在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体蚀刻治具和等离子体蚀刻设备。等离子体蚀刻治具包括：主体，包括曲面部以及与曲面部相连接的连接部；曲面部具有抵接面；第一连接件，设于主体；第一连接件与3D玻璃可拆卸连接，以使3D玻璃的轮廓面紧贴抵接面；用于与载具可拆卸连接的第二连接件，第二连接件与连接部可拆卸连接。在针对不同尺寸、曲度、型号的3D玻璃进行真空镀膜时，可以将原主体与第二连接件拆卸后，将抵接面形状符合另一3D玻璃的主体安装至第二连接件，实现更换等离子体蚀刻治具的局部即可获得不同的等离子体蚀刻治具，以减少等离子体蚀刻治具的制作成本，从而降低镀膜成本。
等离子体蚀刻设备

[发明专利]偏压装置及基片处理设备-CN202211190740.7在审
发明人：赵成伟;邬文波 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种偏压装置及基片处理设备，偏压装置包括偏压电源及偏压装置。偏压电源设有电极。偏压装置用于向电连接于偏压电源的电极，并将偏压电源电极的电势传导至通电对象。具体地，通电对象为基片或载具。进一步地，偏压装置容置于内腔，以便于与处于处理工位的通电对象接触。更具体地，偏压电源具有正电极及负电极，偏压装置将负电极的电势传导至通电对象。活动导体在弹性件的弹力作用下对轮体组件产生顶推，从而将轮体组件顶推至通电对象的表面，使活动导体、轮体组件及通电对象表面之间保持稳定接触，从而能使通电对象始终作为整体电极的一部分，确保针对基片的处理工艺保持稳定。
偏压装置处理设备

[发明专利]防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法-CN202111258313.3在审
发明人： 邬文波;赵成伟 -专利权人：西实显示高新材料（沈阳）有限公司
申请日： 2021-10-27 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法，加工设备包括控制器、工艺室、转台、转架、等离子产生装置、偏压装置以及真空装置；工艺室的侧壁外设置有安装法兰，安装法兰设置有贯通侧壁的安装孔；等离子产生装置包括相互连接的射频源和离子源本体，射频源安装于安装法兰，离子源本体穿过安装孔伸入工艺室内，其气源出口朝向所述转架，可连通清洗气源或者蚀刻气源，清洗气源包括第一惰性气体源，蚀刻气源包括第二惰性气体源和含氟气体源。本发明能够高效率、无污染地完成大面积玻璃基板的表面防眩光处理使玻璃基板在保留防眩晕功能的同时具有更清晰的视觉效果和更加细腻的触摸手感。
眩光玻璃加工设备方法

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