专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件-CN202310355840.9在审
  • 大西彻;青井佐智子;浦上泰 - 丰田自动车株式会社;株式会社电装
  • 2017-10-30 - 2023-07-25 - H01L29/423
  • 提供一种半导体器件,其中在沟槽(6)的端部中,露出沟槽的端部(10)的开口(22)被形成在引出电极(20)中,半导体基板的表面侧上的沟槽栅电极(14)的侧表面与沟槽侧表面(12)间隔开,并且与位于半导体基板的表面在沟槽的直线部中,沟槽栅电极表面与半导体基板的表面对准,并且层间绝缘膜不进入沟槽,其中,在沟槽的端部中,沟槽栅电极表面被刻蚀,从而在沟槽的端部中的沟槽栅电极表面的高度低于半导体基板的表面和在沟槽的直线部中沟槽栅电极表面两者
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体内连接结构的金属线上的保护结构及其形成方法-CN200610078791.5无效
  • 郭衣玲 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2006-05-11 - 2006-12-20 - H01L21/768
  • 本发明是有关一种半导体内连接结构的金属线上的保护结构及其形成方法,其揭露了在一内连接结构的一金属线上形成一保护结构,特别是一种形成保护结构在一内连接结构的金属线上的方法,该方法至少包括以下步骤:提供一保护层于该金属线上;提供一电极开口或一连接垫于该金属线上的一保护层中;以及形成一贵重金属层的保护电极于该金属线上的该电极开口中。本发明结构在该金属线上的该保护层中提供一电极开口,以及在该金属线上的该电极开口中形成一保护电极,而可以排除经常存在于习知铝焊垫中的高浓度氟,因此可避免焊垫结晶缺陷以及后续晶片封装过程中接合失败。
  • 半导体连接结构金属线上保护及其形成方法
  • [发明专利]磁存储器件-CN202010391513.5在审
  • 权倍成;金容才;南坰兑;郑求训 - 三星电子株式会社
  • 2020-05-11 - 2020-12-11 - H01L27/22
  • 一种磁存储器件包括:在基板上的下接触插塞;在下接触插塞上的磁隧道结图案;底电极,在下接触插塞和磁隧道结图案之间并与磁隧道结图案的底表面接触;以及电极,在磁隧道结图案的表面上。底电极、磁隧道结图案和电极中的每个在垂直于基板的表面的第一方向上具有厚度。底电极的第一厚度是磁隧道结图案的第二厚度的约0.6至1.1倍。
  • 磁存储器
  • [发明专利]一种薄膜体声波器件及其制备方法-CN202010188672.5在审
  • 张秀全;朱厚彬;李真宇;刘桂银 - 济南晶正电子科技有限公司
  • 2020-03-17 - 2021-09-17 - H03H9/02
  • 本申请提供一种薄膜体声波器件及其制备方法,所述薄膜体声波器件包括:带有空腔的薄膜体、电极层和底电极层;所述带有空腔的薄膜体包括第一衬底层和压电薄膜层,所述空腔贯穿所述第一衬底层;所述底电极层沉积于所述空腔内裸露的压电薄膜层下,所述电极层沉积于所述压电薄膜层上、与所述底电极层相对。由于体声波产生区域为底电极层与电极层所覆盖区域,因此,本申请实施例提供的薄膜体声波器件,相对有现有技术中,在整个压电膜层的两面完全覆盖底电极层和电极层的方案,可以降低驱动电压,减少声波滤波器的耗能。
  • 一种薄膜声波器件及其制备方法

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