专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]线基板的方法及配线基板-CN200880018333.X有效
  • 根本广次;菱沼凉平;太田阳介;福原邦昭 - 日本美克特隆股份有限公司;索马龙株式会社
  • 2008-05-29 - 2010-03-31 - H05K3/18
  • 本发明为一种配线基板的方法及使用该方法的配线基板,其特征在于,为了对在绝缘基板上形成有凹凸为25μm以上的电路图案的配线基板的对象部位进行选择性,将该对象部位以外的部位掩盖时,使用在聚对苯二甲酸丁二醇酯膜的单面依次层积粘着剂层及脱膜片后的掩盖膜,将该掩盖膜的脱膜片剥离后,将掩盖膜的粘着剂层面,在常温环境下粘贴于配线基板的既定处后,通过热压接合而粘贴,然后对对象部位。即使是电路图案的凹凸较大的配线基板,也不会有非部位因液浸入而被的情况。另外,掩盖膜的打穿加工性良好,特别是可防止发生毛边或无法开孔等。
  • 配线基板方法
  • [发明专利]MI元件的制造方法及MI元件-CN201880079165.9在审
  • 山本正美;北野一彦;太田宪宏;坂井滋树;沼田清 - 日本电产理德股份有限公司
  • 2018-11-26 - 2020-07-24 - H01L43/00
  • MI元件1的制造方法包括:绝缘步骤,在非晶线2的外周形成绝缘体层3;无电解步骤,在绝缘体层3的外周面形成无电解层4;电解步骤,在无电解层4的外周面形成电解层5;抗蚀剂步骤,在电解层5的外周面形成抗蚀剂层R;曝光步骤,以激光对抗蚀剂层R进行曝光,而在抗蚀剂层R的外周面形成螺旋状的沟道部GR;以及蚀刻步骤,将抗蚀剂层R作为遮盖材而进行蚀刻,去除沟道部GR中的无电解层4及电解层5,从而由残存的无电解层4及电解层5形成线圈6。
  • mi元件制造方法
  • [发明专利]金属钢管的制造方法及制造系统-CN200980161111.8有效
  • 中村慎市郎;玉村忠义 - 大和钢管工业株式会社
  • 2009-08-28 - 2012-05-30 - C23C2/38
  • 本发明提供一种在连续钢管生产线中能够容易地调整浸渍时间的系统及制造方法。为一种用来从带钢由连续生产线制造在内外表面或任一方的表面实施了金属热浸的钢管的钢管制造系统,其特征在于,具有内表面实施部、钢管形成部、以及外表面实施部;该内表面实施部在与钢管的内表面相当的那一侧的带钢上侧注涂熔融金属而实施金属热浸;该钢管形成部用于将被实施了内表面的带钢连续地冷态成形为管状,对被成形为了该钢管的带钢的纵向端面接合部进行滚焊而获得连续钢管;该外表面实施部使上述钢管外表面被熔融金属浸渍而实施金属热浸;其中,能够对上述内表面实施部及/或外表面实施部中的、熔融金属浸渍长度进行调整。
  • 金属钢管制造方法系统
  • [发明专利]熔融软钎料线的制造方法-CN201110056627.5有效
  • 青山正义;鹫见亨;泽畠胜宪;纪本国明;冈田良平;山本哲弘 - 日立金属株式会社
  • 2011-03-02 - 2017-08-25 - H01B13/00
  • 本发明提供一种熔融软钎料线的制造方法,与使用无氧铜(OFC)的情况相比,在制造软质铜线的过程中能够更短时间地进行在软钎料槽中的浸渍,而且能够进一步实现生产线的增速化。该熔融软钎料线的制造方法具有对于在含有不可避免的杂质的纯铜中含有2~12mass ppm的硫和超过2但为30mass ppm以下的氧以及4~55mass ppm的钛的低浓度铜合金材料,实施拔丝加工至最终线径,制作拔丝材料的工序;通过将该拔丝材料浸渍于熔融软钎料槽中在拔丝材料的表面上形成熔融软钎料镀层的熔融软钎料工序;通过熔融软钎料工序的热量,使得拔丝材料改性为软质铜线。
  • 熔融软钎料镀线制造方法
  • [发明专利]装置及方法-CN202010532732.0有效
  • 细川孝夫 - 株式会社村田制作所
  • 2020-06-11 - 2023-06-30 - C25D17/16
  • 提供一种装置及方法,装置具备槽和部。部具备:隔壁,其是使液通过而不使被物通过的隔壁,构成被物在其内侧通过的被物通过区域;喷射部,其向上方喷射液;混合部,其将液与被物混合;阳极,其配设在被物通过区域的外侧;阴极,其配设在被物通过区域的内侧,具有使液与被物的混合流体朝向上方通过的中空区域;第一遮挡壁,其用于将通过了中空区域的混合流体向下方引导;以及第二遮挡壁,其配设在第一遮挡壁的外侧。
  • 装置方法
  • [发明专利]多层配线基板及其制造方法-CN202080040000.8在审
  • 荒谷方生 - 凸版印刷株式会社
  • 2020-05-26 - 2022-01-28 - H05K1/11
  • 提供能够提高通路孔连接部的连接可靠性的多层配线基板及多层配线基板的制造方法。在隔着绝缘层(3)而依次层叠的多层金属配线层(21)之间经由通路孔层(61)电连接的多层配线基板中,由与上述金属配线层(21)不同的材料构成的异种金属层(51)介于上述通路孔底面侧的金属配线层(21)与上述通路孔层(61)之间,介于上述通路孔底面侧的金属配线层(21)与上述通路孔层(61)之间的异种金属层(51),沿在上述通路孔底面侧的金属配线形成的凹部的表面而以凹状配置。
  • 多层配线基板及其制造方法
  • [发明专利]一种用于电路板的铜-CN202111635637.4在审
  • 雷华山;段小龙;冼仕峰 - 广东利尔化学有限公司
  • 2021-12-29 - 2022-04-05 - C25D5/54
  • 本发明提供一种用于电路板的铜液,所述的铜液为具有“R‑N3”结构的特定化合物的铜液,所述的铜液还包括五水硫酸铜、硫酸、氯离子、光亮剂、抑制剂、整平剂本发明的铜液特别适合应用在垂直连续电镀设备线(VCP)电镀铜,在常规及大电流密度生产中,既能保证镀层的品质外观要求,也能使可溶性磷铜阳极在连续使用大电流密度作业时磷铜阳极膜不会脱落,大大减少了阳极泥的产生,延长了药水使用及保养周期;本发明含特定叠氮基化合物铜浴经过40ASF持续大电流密度生产10h后,磷铜球正面阳极膜仍结膜完整,无明显脱落及溶解迹象。
  • 一种用于电路板铜镀敷液

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