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[发明专利]基板处理装置以及抗蚀剂剥离装置-CN201510121582.3在审
发明人：小林贤一;关本雅彦;横山俊夫;赤泽贤一;仓科敬一;三谷隆 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-03-19 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置以及抗蚀剂剥离装置。本发明的课题在于抑制药液气氛向处理槽的周围扩散。本发明的基板处理装置具有：处理槽，其收纳保持在基板保持架的基板，并用于对上述基板进行处理；升降器，其支承基板保持架基板，将保持架收纳于处理槽或者从处理槽中取出保持架；以及护罩，其覆盖通过升降器从处理槽中取出的基板保持架的周围。
处理装置以及抗蚀剂剥离

[发明专利]衬底抛光设备和方法-CN201110119250.3有效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2007-10-08 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
衬底抛光设备方法

[发明专利]衬底抛光设备和方法-CN201010271684.0有效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2007-10-08 - 公布日： 2011-03-16 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
衬底抛光设备方法

[发明专利]电镀设备和电镀方法-CN200910004366.5无效
发明人： 关本雅彦;远藤泰彦;斯蒂芬·斯特劳塞尔;竹村隆;斋藤信利;栗山文夫;吉冈润一郎;堀江邦明;南吉夫;鸭田宪二 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-05-25 - 公布日： 2009-08-12 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种电镀设备具有灰化单元(300)，将其构成为在施加于形成在衬底(W)上的籽晶层(500)的表面上的抗蚀剂(502)上进行灰化处理；以及预润湿部件(26)，将其构成为在灰化处理之后为衬底表面提供亲水性。该电镀设备包括预浸泡部件(28)，将其构成为使衬底表面与处理液接触，从而清洗或激活形成在衬底上的籽晶层的表面。该电镀设备还包括电镀单元(34)，将其构成为将衬底表面浸在电镀槽中的电镀液中，同时使用抗蚀剂作为掩模，以便在形成在衬底上的籽晶层的表面上形成镀膜(504)。
电镀设备方法

[发明专利]基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元以及基板电镀设备-CN200680026891.1无效
发明人： 关本雅彦;横山俊夫;渡边辉行;铃木宪一;小林贤一;加藤亮 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2006-08-25 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供了基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元和基板电镀设备，使得诸如机器人臂的基板载入机构在载入基板之后快速释放保持在基板上，从而缩短保持所述基板的时间并提高流通量。所述基板处理单元(10)包括用于将所述基板(11)保持在特定的保持位置的基板保持机构(10)，以及处理机构(32)，用于将规定的处理施加至由所述基板保持机构所述保持的所述基板，其中基板引导机构(20)设有引导销(15)，用于将所述基板引导至保持位置附近。所述基板引导机构具有位于保持位置的所述基板的外周上的多个辊(14)，而所述多个辊适于通过从所述基板的侧部将所述基板的周边支承在所述保持位置的附近而支承所述基板，所述辊具有一体的结构，所述一体的结构包括大直径部分以及形成在所述大直径部分上方的小直径部分，而大直径部分的上侧部分具有肩部，以便所述基板在传送中临时地支承在其上，并且所述肩部形成有朝向其外周向下倾斜的倾斜表面。
处理单元传送方法洗净以及电镀设备

[发明专利]衬底抛光设备和方法-CN200710162207.9有效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2007-10-08 - 公布日： 2008-04-09 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
衬底抛光设备方法

[发明专利]基板处理单元及基板处理装置-CN200580013155.8无效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;渡边辉行;加藤亮;横山俊夫;铃木宪一;小林贤一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2005-04-27 - 公布日： 2007-04-11 - 主分类号： B05C9/06 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理单元，通过用一个基板处理单元进行使用不同处理液的处理，能够实现基板处理整个工艺的空间的削减及基板搬运所需的能量的削减。该基板处理单元具有：上下移动自如的基板保持部(72)，保持基板(W)；外槽(70)，包围该基板保持部(72)的周围；内槽(74)，位于基板保持部(72)的下方，配置在外槽(70)的内部，内部具有药液处理部(84)；喷射处理用盖(76)，自如地闭塞内槽(74)的上端开口部，具有分别喷雾至少2种以上的处理液的多个喷射嘴(116、118)；外槽(70)及内槽(74)具有分别的排液线路(78、92)。
处理单元装置

[发明专利]基板夹持装置、基板夹持方法及基板处理装置-CN200480037939.X有效
发明人： 关本雅彦;胜冈诚司;大直树;渡边辉行;小川贵弘;铃木宪一;小林贤一;本岛靖之;加藤亮 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-12-22 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板夹持装置，其能够符合小尺寸紧凑装置的要求，同时还确保基板在处理液中足够的浸入深度。该基板夹持装置包括：基板夹持器(84)，用于通过把基板(W)表面的边缘部分与第一密封组件(92)相接触来支撑基板(W)；及基板按压部分(85)，其相对于基板夹持器(84)降低，以便向下按压通过基板夹持器(84)所夹持的基板(W)，从而使得第一密封组件(92)与基板(W)压力接触；其中基板按压部分(85)装备有第二环形密封组件(170)，第二环形密封组件与基板夹持器(84)的环形夹持部分的上表面压力接触，从而密封基板按压部分(85)的周边区域。
夹持装置方法处理

[发明专利]电镀设备和电镀方法-CN200480010700.3有效
发明人： 关本雅彦;远藤泰彦;斯蒂芬·斯特劳塞尔;竹村隆;斋藤信利;栗山文夫;吉冈润一郎;堀江邦明;南吉夫;鸭田宪二 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-05-25 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： H01L21/288 文献下载
摘要：一种电镀设备具有灰化单元(300)，将其构成为在施加于形成在衬底(W)上的籽晶层(500)的表面上的抗蚀剂(502)上进行灰化处理；以及预润湿部件(26)，将其构成为在灰化处理之后为衬底表面提供亲水性。该电镀设备包括预浸泡部件(28)，将其构成为使衬底表面与处理液接触，从而清洗或激活形成在衬底上的籽晶层的表面。该电镀设备还包括电镀单元(34)，将其构成为将衬底表面浸在电镀槽中的电镀液中，同时使用抗蚀剂作为掩模，以便在形成在衬底上的籽晶层的表面上形成镀膜(504)。
电镀设备方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN200380100012.1有效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;横山俊夫;渡边辉行;小川贵弘;小林贤一;宫崎充;本岛靖之;尾渡晃;大直树 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2003-11-14 - 公布日： 2005-10-19 - 主分类号： C23C18/04 文献下载
摘要：本发明涉及适合于对基板进行镀敷处理或者把基板浸入到处理液中进行处理的基板处理装置。本发明的基板处理装置(1)，具有：放入和取出基板(W)用的装卸区(100)、用于清洗基板的清洗区(200)、及进行基板镀敷处理的镀敷处理区(300)，在上述装卸区(100)内布置了：具有干式的多个手(137、139)的基板传送机械手(130)、安放基板收纳架的装料口(110)、以及把基板从正面朝上切换到正面朝下的干式翻转机(150)。
处理装置方法

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN03812994.9有效
发明人：胜冈诚司;关本雅彦;渡边辉行;小川贵弘;小林贤一;宫崎充;本岛靖之;横山俊夫 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2003-05-30 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种衬底处理设备，具有处理槽(10)、罩(40)、喷嘴(60)和衬底头(80)。处理槽(10)用于在容纳于其中的镀液(Q)中对衬底(W)进行镀膜；罩(40)用于有选择地打开和关闭该处理槽(10)的开口(11)；喷嘴(60)安装在罩(40)的上表面；衬底头(80)用于吸引衬底(W)的背面以夹持衬底(W)。随着罩(40)从处理槽(10)的开口(11)移开，衬底头(80)降低以把衬底(W)浸在镀液(Q)内，用于对衬底(W)进行镀膜。当衬底头(80)提升同时处理槽(10)开口(11)由罩(40)关闭时，衬底(W)通过喷嘴(60)清洁。
衬底处理设备方法

[发明专利]用于镀敷基片的装置和方法-CN200410043155.X有效
发明人： 关本雅彦;栗山文夫;远藤泰彦;斯蒂芬·斯特劳塞尔 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-05-12 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明涉及镀敷装置和方法，通过该装置和方法可以容易地去除形成在镀敷表面上的气泡并且可以改善镀敷表面上的镀敷薄膜的厚度的均匀性。镀敷装置包括用于装载其中装有具有镀敷表面基片的盒的盒台。还设置有用于使基片对准的对准器、用于冲洗和干燥基片的冲洗器－干燥器；以及用于镀敷基片的镀敷单元。镀敷单元包括容纳镀敷液的镀敷器皿、和用于夹持基片以浸入镀敷器皿内的镀敷液中的夹持器。镀敷表面暴露于向镀敷表面喷射镀敷液的喷嘴。
用于镀敷基片装置方法

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