专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置-CN202110020961.9在审
  • 佐野努;丸山一哉;高久悟;铃谷信人 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-01-06 - 2021-09-14 - H01L25/065
  • 实施方式的半导体装置具有:衬底,设置着第1端子、第2端子、及多个第3端子;1个以上的半导体存储芯片,具有多个第1垫、多个第2垫、及多个第3垫;第1线,将第1端子与多个第1垫电连接;第2线,将第2端子与多个第2垫电连接;多条第3线,将多个第3端子与多个第3垫电连接;第4线,跨多条第3线中的至少1条,在多个第1垫上与第1线连接;或/及第5线,跨多条第3线中的至少1条,在多个第2垫上与第2线连接
  • 半导体装置
  • [发明专利]一种铜带的车用功率模块-CN202211718390.7在审
  • 凌曦;陈烨;姚礼军;刘志红;沈莉;俞张平;周智阳 - 嘉兴斯达微电子有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-06-13 - H01L23/492
  • 本发明涉及电力电子技术领域,具体涉及一种铜带的车用功率模块,包括一壳体,壳体内设有,散热铜基板;陶瓷覆铜板,设于散热铜基板上;功率芯片,设于陶瓷覆铜板上,功率芯片正面的功率极通过银浆烧结工艺连接有铜箔,铜箔通过设置的铜带与陶瓷覆铜板正面的功率电路区域连接电阻,功率芯片正面的信号极和电阻通过设置的金属线连接电阻通过设置的金属线与陶瓷覆铜板正面的信号电路区域连接。本发明通过采用铜带的方式连接功率电路,增大了模块的过电流能力,并且有效提高了机械强度。
  • 一种铜带键合用功模块
  • [发明专利]一种三维集成芯片-CN202111026951.2在审
  • 任奇伟;左丰国;周骏;郭一欣;江喜平 - 西安紫光国芯半导体有限公司
  • 2021-09-02 - 2021-12-14 - H01L25/065
  • 本发明提供一种三维集成芯片,其中三维集成芯片包括:第一可编程阵列组件,包括第一区域;第一存储阵列组件,包括第二区域;第二存储阵列组件,包括第三区域;其中,第一区域与第二区域连接,第二区域与第三区域连接,以将第一可编程阵列组件、第一存储阵列组件以及第二存储阵列组件。以此拓展第一可编程阵列组件的存储空间,并通过三维技术将第一可编程阵列组件、第一存储阵列组件以及第二存储阵列组件,降低互连距离,实现存储访问的高带宽、低功耗,解决现有技术中存在的存储墙问题。
  • 一种三维集成芯片
  • [发明专利]一种结构及其制造方法-CN201911185772.6在审
  • 李乔伟;梁斐;胡胜 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2019-11-27 - 2020-03-06 - H01L21/50
  • 本申请实施例提供了一种结构及其制造方法,在待芯片中形成有互连结构以及与互连结构电连接的封装垫层,封装垫层暴露于待芯片的侧边缘,在待晶圆上形成有阵列排布的裸片,裸片表面上形成有互连结构以及与互连结构电连接的封装垫层时,利用待芯片中的封装垫层,将待芯片从侧边缘至裸片表面的封装垫层,以获得晶圆结构。该方法利用封装垫层将待芯片与待晶圆上的裸片形成晶圆结构,待芯片可以选择没有缺陷的产品,相较于晶圆与晶圆的,避免晶圆上有缺陷的芯片间的,提高产品的良率,进而降低制造成本。
  • 一种结构及其制造方法
  • [发明专利]基于局域加热技术的圆片级低温系统及装置-CN201110343625.4有效
  • 毛旭;方志强;杨晋玲;杨富华 - 中国科学院半导体研究所
  • 2011-11-03 - 2012-06-20 - B81C3/00
  • 本发明公开了一种基于局域加热技术的圆片级低温系统及装置,该系统包括真空腔室、支架平台、装置、电流源和真空泵组,其中:真空腔室,用于提供所需的真空或惰性气氛;装置,位于真空腔室内部的支架平台上,用于对待圆片提供压力,并向外部电流源和待圆片提供电气连接通路;电流源,通过真空腔室侧壁上的电学穿通件与装置相连,为待圆片区域的电阻丝提供电流,实现局域电阻加热;真空泵组,连接于真空腔室底部本发明提供的系统及装置,结构紧凑,制作和组装简单,在高真空或可控惰性气体中完成,可避免过程中氧化物的形成及其对质量产生的不良影响。
  • 基于局域加热技术圆片级低温系统装置
  • [实用新型]半导体结构、显示器件及发光装置-CN202320887629.7有效
  • 姜建兴;毛学 - 深圳市思坦科技有限公司
  • 2023-04-18 - 2023-08-18 - H01L25/16
  • 本申请提供一种半导体结构、显示器件及发光装置,涉及半导体技术领域。半导体结构包括第一芯片和第二芯片,第一芯片设置有第一面,第二芯片设置有第二面,所述第一面和所述第二面中至少有一个设置有凹陷部,所述凹陷部内设置有层,所述层与所述第一面和所述第二面分别连接,以实现所述第一芯片和所述第二芯片。本申请提供的半导体结构能够改善芯片焊接过程中,对焊机定位精度要求较高的问题。
  • 半导体结构显示器件发光装置
  • [发明专利]一种固相连接方法-CN202011547883.X在审
  • 范金虎;徐鹏;姚育成;吕辉 - 湖北工业大学
  • 2020-12-24 - 2021-04-16 - H01L21/50
  • 本发明涉及微电子封装技术领域,具体涉及一种固相连接方法,对基体待表面进行表面处理后沉积一层厚度为5μm~20μm的钝化膜;将两个沉积有钝化膜的基材相向堆叠后加载机械压力,在压力状态下引燃钝化膜,引发钝化膜的自蔓延反应,利用反应的瞬时高温高热加速界面扩散在较低温度下实现良好的固相。本发明提供的固相连接方法,既能实现可靠的低温又能在空气中直接,既能合同种材料也适合于异种材料的连接,使得人们在得到可靠的的同时,降低生产成本、提高生产效率、简化工艺。
  • 一种固相键合连接方法
  • [发明专利]晶片结构及其制作方法-CN202111003008.X在审
  • 王涛;胡思平;王家文;黄诗琪;朱继锋;陈俊;华子群 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-03-29 - 2021-12-24 - H01L23/485
  • 本申请公开了晶片结构及其制作方法。该晶片结构的第一层和第二层彼此接触以提供第一晶片和第二晶片彼此键,第一层和第二层的接触面为面,第一晶片的第一导电通道和第二晶片的金属图案彼此连接以提供所述第一晶片和所述第二晶片之间的电连接,第一晶片的第一伪通道和第二晶片的金属图案彼此接触以提供所述第一晶片和所述第二晶片之间的机械连接,所述第一导电通道的横向尺寸大于所述第一伪通道的横向尺寸。该晶片结构在第一晶片形成的伪通道可以改善第一晶片和第二晶片之间面的图案分布,从而提高强度和可靠性。
  • 晶片结构及其制作方法
  • [发明专利]晶片结构及其制作方法-CN201910250069.2有效
  • 王涛;胡思平;王家文;黄诗琪;朱继锋;陈俊;华子群 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2019-03-29 - 2021-07-16 - H01L23/485
  • 本申请公开了晶片结构及其制作方法。该晶片结构的第一层和第二层彼此接触以提供第一晶片和第二晶片彼此键,第一层和第二层的接触面为面,第一晶片的第一导电通道和第二晶片的金属图案彼此连接以提供所述第一晶片和所述第二晶片之间的电连接,第一晶片的第一伪通道和第二晶片的金属图案彼此接触以提供所述第一晶片和所述第二晶片之间的机械连接,所述第一导电通道的横向尺寸大于所述第一伪通道的横向尺寸。该晶片结构在第一晶片形成的伪通道可以改善第一晶片和第二晶片之间面的图案分布,从而提高强度和可靠性。
  • 晶片结构及其制作方法

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