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[发明专利]一种3D结构件上的3D图形的加工方法-CN202010669648.3在审
发明人：田秋国;徐晓;田泽铭 -专利权人：深圳市国铭达科技有限公司
申请日： 2020-07-13 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种3D结构件上的3D图形的加工方法，包括在暗室内将3D结构件整体表面涂覆感光物质，之后选择性地用平行光对3D结构件上的感光层进行曝光显影而得到3D图形轨迹，接着在暗室中将经过选择性曝光的3D，在电镀时镍层仅附在3D图形轨迹上，故而得到镍层3D图形，之后再在镍层3D图形进行电镀而得到最终的3D图形，采用本发明方法具有工序步骤少，周期短，有利于降低工艺成本，适合批量生产；且由于采用平行光进行选择性曝光
一种结构件图形加工方法

[发明专利]利用微机电系统制造集成电路的可重构掩模的方法和器件-CN200510110313.3无效
发明人：邱慈云 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2005-11-07 - 公布日： 2007-05-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用镜器件阵列照射目标物以对位于目标物之上的光敏材料进行选择性图案化的方法。该方法包括将利用泛光光束的电磁辐射施加到镜器件阵列上。所述镜器件中的每一个与待要曝光到光敏材料上的图案的像素相关联。该方法还包括选择性地致动所述阵列上的一个或多个镜，以将光束中的相应部分偏转到光敏材料的相应部分上，来对目标物上的光敏材料的所述部分进行曝光。该方法使一个或多个其他的镜保持在选定的位置，以使所述光敏材料的相应其他部分保持不被曝光。优选地，曝光的部分和未曝光的部分形成被曝光到光敏材料上的图案。
利用微机系统制造集成电路可重构掩模方法器件

[发明专利]图像传感器的曝光控制-CN201480011384.5有效
发明人： A·K·沙玛;范晓峰;李向利;温宗晋;C·李;T·L·吉尔腾 -专利权人：苹果公司
申请日： 2014-02-19 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： H04N5/3745 文献下载
摘要：可以响应于第一控制信号在存储节点中选择性地存储在第一子曝光期间在光电二极管中累积的电荷。可以响应于第二控制信号选择性地释放在第一重置周期期间在光电二极管中累积的电荷。可以响应于第一控制信号选择性地存储在第二子曝光期间在光电二极管中累积的电荷。可以响应于第三控制信号向浮置扩散节点传输来自第一子曝光和第二子曝光的存储在存储节点中的电荷。
电荷光电二极管响应第一控制信号存储节点曝光期间存储第二控制信号浮置扩散节点图像传感器曝光操作图像控制信号曝光控制重置周期传感器传输释放

[发明专利]抗辐射功率MOSFET的工艺制备方法-CN201910038040.8在审
发明人：赵建坤;罗志勇;赵丽新 -专利权人：无锡浩真微电子有限公司
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：所述方法包括：氧化圆晶片的有源区的第一区域形成二氧化硅掩蔽层，对二氧化硅掩蔽层选择性蚀刻后通过硼离子注入形成P+型P阱；氧化晶圆片表面形成二氧化硅层，对二氧化硅层选择性蚀刻后，通过磷离子注入形成N型JFET；在圆晶片表面涂覆光刻胶并进行选择性曝光产生图形窗口，通过硼离子注入形成P型P阱；在圆晶片表面涂覆光刻胶并进行选择性曝光产生图形窗口，通过砷和磷离子注入形成N型Source；清洗圆晶片表面，并对清洗后的圆晶片表面进行热氧化生成二氧化硅作为栅介质层
圆晶片抗辐射二氧化硅掩蔽层表面涂覆光二氧化硅层功率MOSFET 选择性曝光选择性蚀刻工艺制备图形窗口栅介质层磷离子硼离子源区清洗晶圆片表面第一区域二氧化硅制备过程热氧化后置制备

[发明专利]抗蚀材料以及利用该材料形成图案的方法-CN200510063016.8无效
发明人：远藤政孝;屉子胜 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-04-01 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：在基材上形成包含氧化钛的抗蚀膜后，利用波长小于或等400nm的光或者电子束选择性照射抗蚀膜进行图案曝光。图案曝光后，抗蚀膜被显影形成由抗蚀膜构成的抗蚀图案。
材料以及利用形成图案方法

[发明专利]一种DBC基板选择性化学沉银的表面处理方法-CN201911065119.6有效
发明人：徐节召;贺贤汉;阳强俊;戴洪兴 -专利权人：上海申和热磁电子有限公司
申请日： 2019-11-04 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： H05K3/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种DBC基板选择性化学沉银的表面处理方法，所述选择性化学沉银是指在DBC图形形成后，通过二次干膜把需要沉银的区域显现出来，不需要沉银的区域用干膜覆盖住；所述二次干膜包含如下步骤：第二次干膜，曝光，显影，沉银和去膜；在所述第二次干膜步骤后，曝光步骤前，对间距开窗；所述间距开窗是指：所述间距开窗是指：若两相邻铜箔图形之间的间距上的干膜存在孔隙，则开窗；若两相邻铜箔图形之间的间距上的干膜处于完全封闭状态通过二次干膜曝光时在原干膜覆盖的间距处开窗及控制沉银厚度和化学沉银之后清洗流程来解决DBC基板选择性化学沉银时出现的板面污染、铜面氧化及银层脱落不良问题。
一种 dbc 选择性化学表面处理方法

[发明专利]激光干涉技术辅助电化学技术制备纳米栅极的方法-CN201010101489.3有效
发明人：翁占坤;王作斌;宋正勋;胡贞;徐佳;张锦;刘水庆;龚太全 -专利权人：长春理工大学;中国科学院光电技术研究所;星火机电设备工程有限公司
申请日： 2010-01-27 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明包括如下步骤：a)在形成的p-n结衬底片表面或半导体衬底片表面旋涂光刻胶并烘干；b)然后经过双光束激光干涉技术曝光；c)经选择性溶液除去曝光的光刻胶，并经电化学技术沉积金属栅极；d)最后经选择性溶液移除未曝光的光刻胶本发明实现的亚微米/纳米栅极，具有大面积、高效、廉价、简便、可在大气环境下进行和可控性等优点，便于推广和商业化。
激光干涉技术辅助电化学制备纳米栅极方法

[发明专利]一种PCB曝光机灯箱的复位调距方法-CN201710413864.X有效
发明人：蔡长韬;古小平;冉林;马晓茜;谢焕;何晓容;周延;向奎伟 -专利权人：西华大学
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明一种PCB曝光机灯箱、PCB曝光机及复位调距方法，PCB曝光机灯箱，包括灯板箱、灯板组件、驱动组件、遮光组件以及联动组件，灯板组件包括第一灯板与第二灯板，第一灯板与第二灯板相对设置，第一灯板与第二灯板均设置于灯板箱内，并与联动组件连接，驱动组件和联动组件均与灯板箱固定连接，遮光组件与联动组件连接，遮光组件被配置为驱动组件驱动联动组件带动第一灯板与第二灯板选择性的相对或相背运动的状态下，选择性地下降或上升。本发明能提高曝光机设备集成度并降低曝光机整机高度，能够提高工作效率，能避免工作过程中的光污染，还提高曝光质量；本发明还提供复位调距方法，可以很好地提高曝光效率。
一种 pcb 曝光灯箱复位方法

[发明专利]智能相机闪光灯-CN201310418701.2在审
发明人：约阿夫·格劳尔;奥弗·戴维;埃亚尔·莱维 -专利权人：莱威视觉有限公司
申请日： 2013-09-13 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明涉及智能相机闪光灯，具体提供了一种用于对象选择性的相机闪光灯的系统和方法。该方法的步骤可包括：使用获取装置获取场景的图像；通过指示所获取的图像上的至少一个点来选择所述场景内的体积；生成导向所述场景的具有特定参数的闪光脉冲；当来自所选择的体积的所述闪光脉冲的反射光到达所述获取装置时，同步执行所述获取装置的曝光；以及在单个图像上通过所述曝光蓄积所述反射光，以产生选通图像。实施前述方法的系统可包括选通成像装置，被配置为用于选择性的视场且也可在可见光中操作。
智能相机闪光灯

[发明专利]一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法-CN200810050860.0有效
发明人：韩艳春;邢汝博;丁艳 -专利权人：中国科学院长春应用化学研究所
申请日： 2008-06-23 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种有机发光显示器件阴极隔离柱的加工方法，采用微转移图案化的方法在正性光刻胶薄膜上形成聚合物薄膜图案，然后以该聚合物薄膜选择性吸附催化剂后进行化学镀金属以形成金属薄膜。最后以金属薄膜作为掩模对下层正性光刻胶薄膜进行选择性紫外曝光并溶解除去。紫外光在掩模图形边缘的衍射可以造成非曝光区域边缘的部分曝光，使剩余的光刻胶薄膜可以和上层的金属薄膜共同组成具有T型截面的结构，该结构可以作为有机发光显示中阴极的隔离柱。由于层叠结构T型截面的隔离柱上层金属薄膜不受紫外曝光和显影的影响，因此对正性光刻胶的曝光剂量和显影时间超过最佳条件的情况下仍然得到与掩模板尺寸相符的目标层图案。
一种有机发光显示器件阴极隔离加工方法

[发明专利]一种PCB曝光机灯箱及PCB曝光机-CN201710414520.0有效
发明人：蔡长韬;冉林;何晓容;谢焕;古小平;马晓茜;周延;杨韬 -专利权人：西华大学
申请日： 2017-06-05 - 公布日： 2018-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明一种PCB曝光机灯箱、PCB曝光机，包括灯板箱、灯板组件、驱动组件、遮光组件以及联动组件，灯板组件包括第一灯板与第二灯板，第一灯板与第二灯板相对设置，第一灯板与第二灯板均设置于灯板箱内，并与联动组件连接，驱动组件和联动组件均与灯板箱固定连接，遮光组件与联动组件连接，遮光组件被配置为驱动组件驱动联动组件带动第一灯板与第二灯板选择性的相对或相背运动的状态下，选择性地下降或上升；本发明还提供PCB曝光机，不仅能够提高工作效率还能避免工作过程中的光污染，还提高曝光质量。
一种 pcb 曝光灯箱

[发明专利]一种基于电聚合技术在线路板阻焊油墨选择性印刷中的应用-CN201910303634.7有效
发明人：朱晓群;芦国强;聂俊;赵彬丞;李三保 -专利权人：安庆北化大科技园有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明公开一种基于电聚合技术在线路板阻焊油墨选择性印刷中的应用，涉及线路板阻焊油墨印刷技术领域，基于传统线路板阻焊油墨采用整版涂装带来的油墨不必要损耗浪费、以及需要掩膜曝光而提出，本发明包括以下步骤：(1)线路板及金属铜线表面预处理；(2)电聚合体系的制备；(3)选择性电聚合过程。本发明的有益效果在于：利用电聚合方法对线路板表面的金属铜线表面进行阻焊油墨选择性印刷，无需掩膜曝光以及可以消除由掩膜未精确对准而丧失图案精度的问题，赋予金属铜线表面阻焊性能，方便线路版后续的焊锡等步骤；
一种基于聚合技术线路板油墨选择性印刷中的应用

[发明专利]基于注视的曝光-CN202010996006.4有效
发明人： R·摩尔霍尔姆 -专利权人：苹果公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H04N13/344 文献下载
摘要：本发明涉及基于注视的曝光。公开了一种用于混合现实系统的处理流水线和方法，所述处理流水线和方法基于注视针对场景中的感兴趣区域利用选择性自动曝光，并且基于所述场景的环境照明信息来补偿所述场景的所述其余部分的曝光。图像可生成以用于显示，其为用户提供经曝光补偿的、中央凹高动态范围(HDR)体验。
基于注视曝光

[发明专利]保持预期曝光水平的方法和设备-CN90103994.2无效
发明人：尤斯塔西奥斯·瓦西里欧 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 1990-05-31 - 公布日： 1990-12-19 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：一个用于使一个表面选择性曝光的射束，借助于两个围绕相互垂直的轴振动的振荡反光镜，沿一条螺旋路线移动。通过保持振荡频率和旋转振荡反光镜偏转的恒定乘积，使曝光水平能达到基本上恒定。
保持预期曝光水平方法设备

[实用新型]一种涂布装置-CN201320406572.0有效
发明人：庞立斌;吴东起;高雪松;张海虎 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-07-09 - 公布日： 2014-02-19 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种涂布装置，包括：本体、喷头和喷嘴，所述本体与喷头相连接，用于向喷头提供光刻胶；所述喷头上设有多个喷嘴，所述本体选择性控制一个或者多个喷嘴进行喷胶工作。本实用新型通过选择性控制一个或者多个喷嘴进行喷胶工作，可根据需要在玻璃基板上选择性进行光刻胶或彩膜滤光单元材料的涂布，省去曝光显影等步骤，提高了显示基板的制作效率，降低了生产成本。
一种装置