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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于转移微电子器件的方法-CN201780005600.9在审
发明人：李圣经;孙世焕;李种根 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：其包括以下步骤：将形成在晶片的一个表面上的多个元件芯片转移至第一粘合膜的粘合层，所述第一粘合膜包括透光基底和形成在透光基底上的粘合层；通过第一粘合膜的透光基底对其上转移有多个元件芯片的粘合层的另一个表面进行选择性曝光；以及通过使第一粘合膜上的多个元件芯片与第二粘合膜的粘合层接触将第一粘合膜上的多个元件芯片选择性转移，所述第二粘合膜包括透光基底和形成在透光基底上的粘合层，其中第一粘合膜的粘合层的未曝光部分对元件芯片的粘合力大于第二粘合膜的粘合层对元件芯片的粘合力，并且第一粘合膜的粘合层的曝光部分对元件芯片的粘合力小于第二粘合膜的粘合层对元件芯片的粘合力。
粘合膜粘合层元件芯片透光基粘合力微电子器件选择性曝光选择性转移曝光晶片

[发明专利]一种智能防人脸过曝摄像机模组-CN202111550413.3在审
发明人：刘昱强;李光明;王文传;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人：深圳市安佳威视信息技术有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G06V40/20 文献下载
摘要：本发明适用于计算机领域，提供了一种智能防人脸过曝摄像机模组，包括：捕捉模块，用于捕捉视频图像中连续人物运动的轮廓图像；检测模块，基于连续人体运动的轮廓图像进行周期性运动检测；判断模块，当检测到轮廓图像中的人物呈现周期性运动状态，判断呈现周期性运动的人物是否进入指定区域；选择性曝光模块，当判断呈现周期性运动状态的人物进入指定区域，选择对该人物所在轮廓图像进行曝光配置，本发明的有益效果在于：保证在弱光情况下能够有更好的图像质量，
一种智能防人脸摄像机模组

[发明专利]通过曝光工艺在晶片上制造图案的方法-CN200910252946.6有效
发明人：梁铉祚 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2009-12-04 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种通过曝光工艺在晶片上制造图案的方法，包括：形成具有斜面的栅栏于该晶片的边缘部分中。该斜面指向该晶片的内侧。形成延伸以覆盖该栅栏的第一光致抗蚀剂层于该晶片上。通过对第一光致抗蚀剂层实施第一曝光及显影，来形成第一光致抗蚀剂图案。使用第一光致抗蚀剂图案及该栅栏作为蚀刻掩模，实施蚀刻工艺。通过使用光遮蔽片，选择性曝光负性抗蚀剂，来形成该栅栏，以及此时，该第一光致抗蚀剂层形成为包括正性抗蚀剂。
通过曝光工艺晶片制造图案方法

[实用新型]高选择性频率选择表面-CN201721130925.3有效
发明人：赵鹏;孙荣荣;王高峰 -专利权人：杭州泛利科技有限公司
申请日： 2017-09-05 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： H01Q15/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高选择性频率选择表面，属于电磁场与微波的技术领域。所述频率选择表面的金属层包含周期排列的多个金属单元，可作为天线罩、金属反射面等用于军事和民用领域；所述频率选择表面包括上下两层相同结构的频率选择表面金属层和中间的介质层；所述频率选择表面金属单元包括金属方环和四个金属等腰直角三角形本实用新型实现频率带通滤波特性，使用两层金属结构在通带两侧各引入一个传输零点，减少了通带与阻带之间的过渡带，实现带通两侧的陡降，实现了频率选择表面的高选择性。
选择性频率选择表面

[发明专利]铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液-CN201610046399.6在审
发明人：江月华 -专利权人：熙腾电子科技（上海）有限公司
申请日： 2016-01-25 - 公布日： 2016-05-25 - 主分类号： C23F1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜选择性蚀刻液，其由铜氧化液和铜螯合液组成，所述铜氧化液包括氧化剂和/或水，所述铜螯合液包括草酸盐、氨基羧酸和水，所述铜选择性蚀刻液pH值为6.0～8.5。所述铜选择性蚀刻液可对铜进行选择性和均匀性地蚀刻。本发明还公开了一种钛选择性蚀刻液，其由钛氧化液和钛螯合液组成，所述钛氧化液包括过氧化氢和/或水，所述钛螯合液包括亚磷酸螯合剂、铜防腐蚀剂、无机碱和水，所述钛选择性蚀刻液pH值为7～10。所述钛选择性蚀刻液可对钛进行选择性和均匀性地蚀刻。在无铅焊料凸块的制作过程中使用所述铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液进行蚀刻可在半导体基板上方便快捷地制造出尺寸重现性好的无铅焊料凸块。
选择性蚀刻

[发明专利]选择性催化还原方法及选择性催化还原系统-CN202080068794.9在审
发明人：蔡昊廷;金泰完;金英敏;金井郞;裵永圭 -专利权人：韩国化学研究院
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B01D53/94 文献下载
摘要：本发明涉及选择性催化还原方法及选择性还原系统，向包含一氧化氮(NO)的处理气体中注入氨还原剂和硝酸供应源并供应给选择性催化反应器，不仅可以极大提高脱氮效率，而且减小SO2
选择性催化还原方法系统

[发明专利]利用醇选择性还原和保护的选择性沉积-CN201580043803.8有效
发明人：刘风全;马伯方;艾华;吕疆;张镁;戴维·汤普森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：一种选择性沉积方法，其相对于电介质表面来将金属选择性地沉积在金属表面。所述方法包括下述步骤：将金属氧化物表面还原成金属表面；和保护电介质表面以最小化所述电介质表面上的沉积。
利用选择性还原保护沉积

[发明专利]曝光装置、曝光方法-CN201310228361.7无效
发明人：三宅健;高木俊博 -专利权人：三荣技研股份有限公司
申请日： 2013-06-08 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是提高曝光技术的生产性的曝光装置和曝光方法。曝光装置具备：第一移动部，其具备保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在第一待机位置与供基板以曝光面朝向第一方向的状态配置的第一曝光位置之间移动；第二移动部，其具备保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在第二待机位置与将保持在第二基板保持部的基板以曝光面朝向第一方向的状态且与第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的状态配置的第二曝光位置之间移动；曝光部，其具备能够沿着引导件在第一曝光位置与第二曝光位置之间移动的曝光头，并对配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板进行选择性曝光，该引导件沿着第二方向配置。
曝光装置方法

[发明专利]一种微波印制电路板上电阻集成方法-CN201610051085.5在审
发明人：廖根望 -专利权人：东莞联桥电子有限公司
申请日： 2016-01-25 - 公布日： 2016-04-20 - 主分类号： H05K1/16 文献下载
摘要：本发明涉及电路板生产加工技术领域，具体涉及一种微波印制电路板上电阻集成方法，采用埋置了电阻材料的基材，并通过二次光刻的方式，在聚四氟乙烯材料上实现集成电阻，包括如下步骤：(1)涂布光致抗蚀剂；(2)曝光后，进行显影操作；(3)选择性腐蚀铜，(4)选择性腐蚀不需要的电阻材料；(5)去除光致抗蚀剂；(6)二次涂布光致抗蚀剂，并再次进行曝光和显影工序；(7)腐蚀电阻上面的铜；(8)去除二次涂布的光致抗蚀剂，本发明采用埋置了电阻材料的基材来实现印制电路板上电阻集成
一种微波印制电路板电阻集成方法

[实用新型]一种光波导和显示设备-CN202321175700.5有效
发明人：杨娟;杨鑫;蒙道杨;宋强;马国斌 -专利权人：深圳珑璟光电科技有限公司
申请日： 2023-05-15 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：由于面全息光栅的厚度很薄，对目标光束丧失波长和角度选择性，即在目标光束的角度和波长可以和曝光时采用的角度和波长不一样，因此，可采用转折面光栅作为光波导的转折光栅对光路进行转折，因转折面光栅制备时不需要考虑角度选择性，无需采用耦合棱镜参与曝光，降低光波导的制作成本，且可提高质量。
一种波导显示设备

[发明专利]部分水解缩合物、拒墨剂、负型感光性树脂组合物、固化膜、分隔壁和光学元件-CN201380022370.9有效
发明人：高桥秀幸;川岛正行 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-04-23 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C08G77/28 文献下载
摘要：提供水解性硅烷化合物的部分水解缩合物；可以选择性地对分隔壁上表面赋予良好的拒墨性的拒墨剂；即使以低曝光量进行曝光也可以选择性地对分隔壁上表面赋予良好的拒墨性、不易在点内残留拒墨剂的负型感光性树脂组合物；即使经UV/O₃照射处理也可以良好地保持拒墨性的固化膜和分隔壁；以及可以在点内均匀地涂布墨的光学元件。一种混合物的部分水解缩合物，其包含第一水解性硅烷化合物和第二水解性硅烷化合物，所述第一水解性硅烷化合物具有氟代亚烷基和/或氟代烷基、和水解性基团，且不具有巯基，所述第二水解性硅烷化合物具有巯基和水解性基团
部分水解缩合拒墨剂感光性树脂组合固化隔壁光学元件

[发明专利]显示器基板和液晶盒的制作方法-CN200810091672.2有效
发明人：颜泽宇;陈丁振;吴雅婷;陈健龙 -专利权人：台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院;统宝光电股份有限公司
申请日： 2008-04-11 - 公布日： 2009-10-14 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：接着，选择性在光反应型单体材料层的部分区域进行紫外光照射，然后将未曝光区域的单体材料移除，可使液晶分子在曝光区域与未曝光区域表面的排列具有不同的预倾角。本发明还公开了一种液晶盒的制作方法。
显示器液晶制作方法

[发明专利]选择性涂布方法-CN201710696680.9在审
发明人：吴长锦;林知本;章承轩 -专利权人：英属开曼群岛商正一特殊材料股份有限公司
申请日： 2017-08-15 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： C25D13/12 文献下载
摘要：本发明提供一种选择性涂布方法，其包括：提供一工件，该工件包括金属部及与该金属部结合在一起的非金属部；使用具有低表面张力的电泳涂料对所述工件进行电泳涂布，以在工件的金属部的表面形成低表面张力涂膜；使用具有高表面张力的涂料对所述形成有低表面张力涂膜的工件进行涂布本发明的选择性涂布方法制得的低表面张力涂膜仅形成在金属部的表面，且可以将金属部完全覆盖，低表面张力涂膜在金属部与非金属部的交界处不会出现毛边；高表面张力涂膜仅形成在非金属部的表面，且可以完全将非金属部覆盖
金属部涂膜选择性涂布表面形成交界处毛边电泳涂布电泳涂料涂料覆盖

[发明专利]烃选择性电极-CN201880074424.9在审
发明人： N·马蒂克;C·瑞勒;G·施米德;B·施米德;D·赖尼施 -专利权人：西门子股份公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： C25B11/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种电极，该电极包含四方晶系结晶的至少一种化合物，这些化合物含有选自Cu和Ag的至少一种元素，其中化合物的晶格属于空间群I41/amd。
选择性电极

[发明专利]相选择性消泡剂-CN201880064447.1在审
发明人： J·特罗皮施 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2018-10-04 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： C11D3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种发泡水性组合物，其包含至少100ppm的通式(I)R1OOC‑Z‑COOR2(I)的化合物形式的洗涤剂，其中R1和R2互相独立地选自C1‑C20支化烷基、C5‑C10环烷基或C5‑C14芳基或杂芳基并且可以不同或相同，后者是优选的，连接基Z选自二价脂族或芳族基团，如n＝1‑20的‑(CH2)n‑、结构式(I)、结构式(II)、结构式(III)、结构式(IV)、结构式(V)或结构式(VI)，其中洗涤剂与消泡剂之间的比率在19:1至35:1的范围内，以及使用所述发泡水性组合物的洗涤方法及衣物洗涤剂。
选择性消泡剂

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