专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多级磁场直管磁过滤与脉冲偏压复合的电弧离子镀方法-CN201310226754.4有效
  • 魏永强;宗晓亚;蒋志强;文振华;陈良骥 - 魏永强
  • 2013-06-08 - 2013-09-04 - C23C14/34
  • 多级磁场直管磁过滤与脉冲偏压复合的电弧离子镀方法,属于材料表面处理技术领域,本发明为解决弧源上施加磁过滤引起等离子体传输效率低和脉冲偏压不能彻底清除大颗粒的问题。本发明方法包括:一、将工件接脉冲偏压电源,电弧离子镀靶源接靶电源,在靶源前接多级磁场直管磁过滤装置;二、薄膜沉积:待真空室内气压小于10-2Pa时,通入工作气体至0.01~10Pa;开启脉冲偏压电源,调节脉冲偏压幅值、频率和占空比;开启靶电源,产生等离子体;开启多级磁场直管磁过滤装置,实现大颗粒的清除和等离子体在磁过滤装置中的高效传输;调节工艺参数,快速制备无大颗粒缺陷的薄膜;三、采用单级磁场结合直流/脉冲偏压,获得一定厚度的薄膜
  • 多级磁场直管磁过滤脉冲偏压复合电弧离子镀方法
  • [发明专利]存储器装置及其操作方法-CN200910137115.4有效
  • 陈逸舟;林昱佑 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2009-05-07 - 2009-11-11 - G11C11/56
  • 本发明公开了一种存储器装置及其操作方法,该方法包含:向存储单元施加复位偏压配置,以使电阻状态自较低电阻状态改变至较高电阻状态;所述复位偏压配置包括第一电压脉冲;所述方法更包含向所述存储单元施加设定偏压配置,以使电阻状态自较高电阻状态改变至较低电阻状态;所述设定偏压配置包括第二电压脉冲,所述第二电压脉冲具有与所述第一电压脉冲的电压极性不同的电压极性。
  • 存储器装置及其操作方法
  • [实用新型]一种脉冲偏压控制系统-CN202122864157.7有效
  • 吴如切 - 吴如切
  • 2021-11-22 - 2022-04-26 - H02M7/06
  • 本实用新型公开了一种脉冲偏压控制系统,涉及偏压电源技术领域,包含DSP控制器、脉冲合成电路、第一功率放大电路、第二功率放大电路、第一整流电路、第二整流电路、PWM芯片。其选取高速DSP数字处理芯片实现脉冲束流基值,峰值向偏压基值、峰值的转化,根据输入脉冲频率、占空比,可以调节脉冲束流的输出,并通过PWM发生芯片,输出100kHz以上的基波,由DSP输出脉冲合成的模式,再经由大功率运放、基值、峰值串联整流电路可以获得脉冲偏压输出,继而实现对脉冲束流输出的调控,从而获得一熔滴一脉冲的熔丝成形效果。
  • 一种脉冲偏压控制系统
  • [发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN202111247505.4在审
  • 大下辰郎;永海幸一 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-10-26 - 2022-05-06 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法,其利用施加到偏压电极的电压脉冲来控制冲击基片的离子的能量。公开的等离子体处理装置包括腔室、基片支承器、等离子体生成部和偏压电源。基片支承器设置在腔室内,包含偏压电极。等离子体生成部构成为能够在腔室内从气体生成等离子体。偏压电源构成为与偏压电极电连接,能够生成施加到偏压电极的多个电压脉冲的序列。多个电压脉冲分别具有从基准电压电平转变为脉冲电压电平的前沿期间和从脉冲电压电平转变为基准电压电平的后沿期间,前沿期间的时间长度和后沿期间的时间长度中的至少一者比0秒长,且为0.5μ秒以下。
  • 等离子体处理装置方法

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