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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种DVL位置对准方法-CN202211424530.X在审
发明人：徐祥;程玉;陈帅 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种DVL位置对准方法，包括建立测量模型，并获取传感器数据；采用姿态分解对位置积分处理，利用终点位置近似替代，实现DVL动基座位置粗对准；通过迭代位置对准进行DVL动基座位置精对准；若位置对准时间达到设定值M，则完成位置对准，否则重复所述步骤，直至达到设定值M。本发明解决了DVL与惯导组合对准过程中无法获取准确位置的问题，可以实现姿态对准的同时，实现位置对准，在实时位置对准结束之后，还可以利用后处理位置对准，实现位置精度的进一步优化。
一种 dvl 位置对准方法

[发明专利]一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法-CN200810038123.9有效
发明人：杜聚有;徐荣伟;戈亚萍 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2008-05-27 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法。采用包含至少三组不同周期的光栅的对准标记，对准过程中只用三组光栅的±1级衍射光，三组光栅中两个大周期光栅用于粗对准，小周期光栅用于精对准，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。小周期光栅与大周期光栅空间错位排列，其相应的干涉像在像面上空间分开，有效解决信号的串扰问题，提高了光源的能量利用率，有利于提高对准信号强度和探测的动态范围。
一种用于光刻设备对准系统标记及其使用方法

[发明专利]基于机器视觉的光刻装置对准系统与对准方法-CN200810034477.6有效
发明人：李运锋 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-03-11 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于机器视觉的光刻装置对准系统与对准方法，其采用具有不同周期的光栅作为对准标记，通过光学照明系统和成像系统，可得到对准标记的±1级衍射光相干暗场图像，该图像由CCD摄像机和图像采集卡进行采集，并由图像处理模块进行图像信号处理和对准操作，最终获得精对准位置，实现晶圆与基底台之间的对准。本发明采用图像处理与对准标记的光栅相位信息相结合的方法，在获得较高对准精度的前提下，整个系统更为简单。
基于机器视觉光刻装置对准系统方法

[实用新型]一种晶体硅表面精磨装置-CN201820969998.X有效
发明人：孙勇 -专利权人：无锡中硅新材料股份有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：一种晶体硅表面精磨装置，包括传送带、精磨设备、清洗干燥装置；其中，所述传送带用于放置硅块；传送带的侧面沿着传送带的运行方向依次设置有精磨设备、清洗干燥装置；清洗干燥装置包括清洗机、烘干机，并设置在传送带的两侧；所述精磨设备为：在传送带宽度方向等宽度的排列均匀的精磨头，在硅块的宽度方向分布两排精磨头，但在两侧即最边缘处为一只精磨头，每排精磨头的相邻精磨头边缘的间隔低于每个精磨头的直径，第二排精磨头每个精磨头的中轴对准第一排精磨头的相邻精磨头边缘的间隔
精磨传送带清洗干燥装置精磨设备磨头排精晶体硅表面精磨装置硅块传送带宽度方向依次设置运行方向边缘处烘干机清洗机两排中轴对准侧面

[发明专利]光刻机的对准信号的周期测校方法-CN200910247635.0有效
发明人：李运锋;王海江;宋海军;韦学志 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-12-30 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种对准信号周期的测校方法，其中，通过调整拟合周期值，获得一系列的对应多重相关系数MCC值，建立拟合周期与MCC之间的关系曲线，从而可确定最大MCC处的拟合周期，该拟合周期即为对准信号的最佳拟合周期。在对准信号拟合时，利用该测校方法获得的最佳信号周期进行信号拟合，可以获得更好的拟合效果，进而提高粗对准和精对准精度。
光刻对准信号周期校方

[发明专利]用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记-CN200810039465.2有效
发明人：李运锋;韦学志;徐荣伟;宋海军 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-06-24 - 公布日： 2008-11-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记。利用所设计的特定对准标记结构，通过对准成像系统，获得对准标记的图像信号；然后通过傅立叶变换，将对准标记的图像信号转换到频域空间，以提取标记的不同级次频率的信息，并由傅立叶逆变换，获得相应的各级次频率的对准信号，这些信号包含对准标记的内在结构与相位信息；最后利用原始信号或获得的低级次频率对准信号做粗对准，利用高级次频率对准信号做精对准，提高对准的分辨率和对准精度。此外，本发明还提供了两种类型的增强型对准标记，增强特定级次频率成分的信号强度，提高该级次信号的信噪比，降低对准误差。
用于光刻设备对准系统方法增强标记

[发明专利]一种快速标定里程仪与惯导安装角和刻度系数的方法-CN201811066107.0有效
发明人：王芳 -专利权人：红色江山（湖北）导航技术有限公司
申请日： 2018-09-13 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G01C25/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种快速标定里程仪与惯导安装角和刻度系数的方法，其中，包括：惯导静态对准、粗标定以及精标定；静态对准完成之后，车辆开始行驶，行驶a米时，完成粗标定；粗标定进行里程仪刻度系数的粗略计算，粗标定完成后，车辆继续行驶，b米时，完成精标定，精标定计算精确的里程仪与惯导安装角和刻度系数。
一种快速标定里程安装刻度系数方法

[发明专利]一种晃动基座正向-正向回溯初始对准方法-CN201811151275.X有效
发明人：徐祥 -专利权人：苏州大学
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G01C25/00 文献下载
摘要：本发明涉捷联惯性导航系统初始对准领域，具体为一种晃动基座正向‑正向回溯原理的快速初始对准方法。首先获取传感器实时数据，利用传感器实时数据进行基于矢量观测的粗对准并存储中间变量，利用存储的中间变量，构建基于初始导航系的正向‑正向回溯初始对准，将正向‑正向回溯初始对准估计的初始姿态反馈，通过估计当前姿态角完成精对准本发明采用基于矢量观测器的粗对准方法，并保存对准过程中的有效数据，采用基于初始导航系的系统误差模型实现正向‑正向初始对准过程，减小了初始对准时间，从而实现了快速对准的目的。
一种晃动基座正向回溯初始对准方法

[发明专利]一种旋转式捷联惯导旋转数据同步策略-CN201710317800.X有效
发明人：赵云旭;侯斌;王东升;王兴全;范玮 -专利权人：中国船舶重工集团公司第七0七研究所
申请日： 2017-05-08 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： G01C21/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种旋转式捷联惯导旋转数据同步策略，其技术特点是包括以下步骤：步骤1、惯导设备上电初始化并粗对准；步骤2、双轴旋转调制精对准并进行数据同步调整；步骤3、获取旋转机构真实值并输出精对准结果。
一种旋转式捷联惯导数据同步策略

[发明专利]一种用于无人设备用的自动上下货柜的对接控制方法-CN201811208070.0有效
发明人：李睿;安向京 -专利权人：长沙行深智能科技有限公司
申请日： 2018-10-17 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： B65G1/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于无人设备用的自动上下货柜的对接控制方法，无人设备运载货柜在进入对准作业时，利用货柜的目标位置参数及无人设备自身位置和姿态参数，采用两级对准法，即先进行粗对准，然后进行精对准，直至完成无人设备与货柜之间的对接
一种用于无人备用自动上下货柜对接控制方法

[发明专利]一种复合光栅纳米光刻自动对准系统-CN201510100540.1有效
发明人：司新春;唐燕;胡松;魏嘉;刘俊伯;邓钦元;周毅 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2015-03-06 - 公布日： 2017-01-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合光栅纳米光刻自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、准直成像透镜、掩模板、硅片、掩模复合光栅、硅片复合光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光条纹图像可以分为两部分：粗对准部分和精对准部分，对这两部分进行处理进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，先后进行粗、精对准，通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可以在同一个光栅标记上进行粗、精度对准，易装调，精度高。
一种复合光栅纳米光刻自动对准系统

[发明专利]对准标记、标记搜索装置、标记搜索方法和光刻设备-CN201911206576.2有效
发明人：吴远焰 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种对准标记、标记搜索装置、标记搜索方法和光刻设备。对准标记置于光刻设备的衬底上和/或衬底台的基准板上，对准标记呈L型，包括垂直相交的第一分支和第二分支，第一分支由第一光栅结构并排构成，且第一光栅结构与第一分支的延伸方向具有第一夹角；第二分支由第二光栅结构并排构成所述标记搜索方法结合对准标记的形状，先通过螺旋式移动衬底台获取对准标记的粗搜索位置，再结合得到的粗搜索位置，通过对角式移动衬底台获取对准标记的精搜索位置。粗搜索扫描使得标记搜索方法耗时变短，提升了效率；精搜索提高了标记搜索方法的精准度。
对准标记搜索装置方法光刻设备

[发明专利]套刻曝光机及套刻曝光方法-CN202310139827.X在审
发明人：郑吉龙;曾凡贵;林生财;钟夏华;魏纯;洪彪 -专利权人：矽电半导体设备（深圳）股份有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种套刻曝光机及套刻曝光方法，套刻曝光机包括缓存站、工作站、曝光灯和上料组件，工作站设置有两个，工作站包括承片台、工作站驱动机构、掩膜版安装架，承片台用于承载晶圆，掩膜版安装架用于安装掩膜版；承片台能够运动至粗对准位置、精对准位置和曝光位置；上料组件包括两个机械手，一个机械手将晶圆从预对准台转移到粗对准位置的承片台，另一个机械手将晶圆从料盒转移到预对准台上；当其中一个工作站的承片台处于曝光位置，另一工作站的承片台处于粗对准位置或者精对准位置
曝光方法

[发明专利]一种基于外积补偿的AUV动基座对准方法及系统-CN202010069961.3有效
发明人：黄浩乾;刘聪 -专利权人：河海大学
申请日： 2020-01-21 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01C25/00 文献下载
摘要：本发明公开一种基于外积补偿的AUV动基座对准方法及系统，首先让AUV在起始点完成动基座的粗对准，完成粗对准后AUV直线行驶到一个已知位置，并进行船位推算，然后由船位推算的航迹信息和实际航迹构造位移向量，最后基于向量外积进行航向误差角的解算，将求得的航向误差角补偿到重力加速度上，用精确的重力加速度去校正转换矩阵，当航向误差角为0时，船位推算点和AUV的实际位置点重合，得到精确的捷联矩阵，即导航坐标系与真实的导航坐标系重合，完成动基座的精对准本发明实现了坐标系偏差对坐标转换矩阵的精确补偿，尤其解决了剧烈扰动下AUV动基座精对准问题，计算简单且精度高。
一种基于补偿 auv 基座对准方法系统

[发明专利]基于相控阵的混合扫描天线跟踪方法、系统、终端及介质-CN202111455954.8有效
发明人：黄健;杨其聪;何博 -专利权人：四川九洲电器集团有限责任公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H04B7/185 文献下载
摘要：确定理论调整方位角和理论调整俯仰角；理论调整方位角和理论调整俯仰角超出电扫描范围时，确定相控阵天线的补偿方位角和补偿俯仰角；根据补偿方位角和补偿俯仰角控制机械平台调节相控阵天线的位置，并控制相控阵波束指向以完成粗对准；接收到的卫星信号AGC电平值不大于门限值时，通过画框搜索算法进行对星，并控制机械平台来调节相控阵天线的位置完成精对准；精对准后通过圆锥扫描跟踪对目标卫星进行扫描跟踪。本发明使得相控阵天线能够快速对准和实时跟踪，且在完成实时跟踪的同时保证天线具有较优的阵面指标。
基于相控阵混合扫描天线跟踪方法系统终端介质

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