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[发明专利]一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法-CN201510644692.8有效
发明人：王占山;沈正祥;王晓强;徐旭东;马彬 -专利权人：同济大学
申请日： 2015-10-09 - 公布日： 2015-12-23 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种利用高纯气体混合搅拌的微米亚微米抛光液精选方法，特别适用于超光滑表面古典法抛光用的微米亚微米级氧化铈、氧化铁、氧化铝抛光液的筛选，具体步骤为：将抛光粉和高纯去离子水放入洁净容器中，通入洁净气体混合5～8分钟后静置3～5分钟，抛光粉颗粒在重力、浮力和液体阻力的共同作用下出现分层现象，利用虹吸管将上层1/2～2/3体积的溶液吸出；在吸出的溶液中加入等量水后再通入气体混合5～8分钟后静置3～5分钟，利用虹吸管吸出上层1/3～1/2体积的溶液，得到微粒粒径分布均匀的抛光液。该方法筛选的溶液粒径更小，粒度分布更均匀，用于超光滑表面抛光，不容易产生划痕，是超光滑表面抛光工艺中的关键技术。
一种利用高纯气体混合搅拌微米抛光精选方法

[发明专利]一种抛光和氧化铜表面的方法-CN201910038016.4有效
发明人：张儒静;何利民;许振华;李娜;汤智慧 -专利权人：中国航发北京航空材料研究院
申请日： 2019-01-15 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C25F3/22 文献下载
摘要：本发明是一种抛光和氧化铜表面的方法，该方法采用弱酸电解液，采用循环伏安法，通过扫描电压、扫描速度和循环次数的相互匹配调控铜表面粗糙度，通过停止电位调控铜表面氧化膜的厚度，实现抛光和氧化铜表面的过程结合，本发明方法操作简单、便利，抛光后的铜表面光滑，粗糙度降低，同步在铜表面制备氧化层。另外可通过扫描电压、扫描速度和循环次数调控铜表面粗糙度，通过停止电位调控铜表面氧化膜的厚度。
一种抛光氧化铜表面方法

[发明专利]抛光组合物和抛光方法-CN200410092531.4有效
发明人：大桥圭吾;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-11-04 - 公布日： 2005-06-15 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明的抛光组合物含有二氧化硅、酸和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。该抛光组合物的pH值优选在0.5～6范围内。该抛光组合物非常适用于抛光玻璃基片。
抛光组合方法

[发明专利]一种用于数控抛光叶片型面的抛光轨迹确定方法-CN201110257831.3无效
发明人：蔺小军;史耀耀;杨阔;张军锋;李小彪;段继豪;董婷 -专利权人：西北工业大学
申请日： 2011-09-01 - 公布日： 2012-01-04 - 主分类号： G05B19/4097 文献下载
摘要：本发明提出了一种用于数控抛光叶片型面的抛光轨迹确定方法，首先建立叶片型面的参数化模型，在叶片型面上插入β条等分线，然后建立每一段参数化后的叶片型面的拟合直纹面，在拟合直纹面的等距面上插入P条等距线，在等距线上确定加工点坐标和加工轴法向本发明提出的方法采用直纹面拟合逼近叶片型面，有效地保证了数控加工过程中，能够精确控制抛光轮与叶片型面的加工点，提高了加工精度和叶片质量的一致性，能够应用于对叶片型面的数控抛光工艺中。
一种用于数控抛光叶片轨迹确定方法

[发明专利]一种铜/石墨烯复合材料的制备方法-CN201710718421.1有效
发明人：张柯;宋瑞利;刘平;李伟;陈小红;马凤仓;何代华;刘新宽 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2017-08-21 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： C01B32/186 文献下载
摘要：首先，采用化学气相沉积法在清洗、抛光后的压延铜箔上制备石墨烯薄膜，利用磁控溅射镀膜仪在SiO
铜膜石墨烯薄膜制备化学气相沉积石墨烯样品表面石墨烯复合材料磁控溅射镀膜复合材料表面夹层复合材料磁控溅射压延铜箔抛光层厚度铜薄膜基底溅射三层清洗腐蚀应用

[发明专利]单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液-CN201210590477.0无效
发明人：高如山 -专利权人：天津西美半导体材料有限公司
申请日： 2012-12-27 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液是专门针对单面抛光机使用，涉及单面抛光机用蓝宝石衬底抛光液制备方法。该抛光液是一种含有几种不同粒径大小二氧化硅的抛光液，含有二氧化硅、碱性组合物、阴离子型表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。本发明根据单面抛光机的抛光特点，将含有几种粒径规格二氧化硅作为磨料，可以降低抛光中的摩擦阻力并取得更佳的润滑作用，在提高抛光效率的同时有更佳抛光效果，并且可以降低生产成本。
单面抛光机蓝宝石衬底抛光

[发明专利]覆铜板用离型钢板的制作方法-CN201510980048.8有效
发明人：霍国洋;张记明 -专利权人：陕西生益科技有限公司
申请日： 2015-12-23 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： B05D5/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种覆铜板用离型钢板的制作方法，采用热风源对表面处理过的钢板进行加热，使钢板表面保持恒定涂覆温度，然后采用覆压滚动制膜法或覆压平涂制膜法将离型材料涂覆在钢板上，使钢板表面形成一层离型膜后对其进行固化，然后用抛光棉对膜面进行抛光整平，即得。本发明采用覆压滚动制膜法或覆压平涂制膜法在钢板表面涂覆离型液并成膜，经固化后得到离型钢板，使离型材料与钢板合为一体，解决了铺放式离型膜易滑动、褶皱、破损、高温熔膜现象及铝箔基离型膜中离型材料易迁移的问题
铜板型钢制作方法

[发明专利]一种凹印版辊的制备工艺-CN201711036877.6在审
发明人：张利明 -专利权人：桐城运城制版有限公司
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： B41F13/11 文献下载
摘要：包括如下步骤生产标准尺寸的基辊，将基辊置于清洗设备中进行清洁处理；根据印刷机所用版辊的图纸，对基辊进行切割、焊接法兰、车倒角、研磨版辊表面加工处理；用3％的稀硫酸冲洗版辊的版面；用金属净洗剂洗版辊；釆用硫酸盐镀铜法，再经过车磨联合机切削或研磨机研磨抛光机抛光工序处理；对版辊的图纸扫描，结合凹印印刷的特点使用专业处理软件对图像、文字、渐变色进行制作处理；印版图像电子雕刻制作；采用电镀法，对版辊表面镀铬处理，并经过清洗、脱脂、镀铬和抛光工序处理。
一种凹印版辊制备工艺

[发明专利]一种外延基底用硅晶片之背面膜层及制造方法-CN202010258596.0在审
发明人：李小艳;张俊宝;陈猛 -专利权人：重庆超硅半导体有限公司;上海超硅半导体股份有限公司
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：所述外延基底用硅晶片之背面膜层包括：双层膜，所述双层膜包括直接覆盖在硅晶片背面上的第一层，以及第一层上覆盖的第二层；所述外延基底用硅晶片之背面膜层的制造方法包括：步骤1，待处理硅晶片正面（抛光面）向上、背面向下置于炉内晶舟中，采用低压化学气相沉积法分两步生长第一层膜；步骤2，翻转步骤1后的硅晶片，正面（抛光面）向下、背面朝上置于炉内托盘上，采用低温高速化学气相沉积法继续在第一层上生长第二层膜。本发明的优势在于：提高了背面双层膜的膜厚均匀性，解决了因硅晶片背面膜厚不均匀、晶舟印、颗粒等问题导致的抛光不良。
一种外延基底晶片面膜制造方法

[发明专利]一种PECVD法沉积非晶硅的控制爆膜的方法-CN202111508441.9在审
发明人：何秋霞;朱军;谈锦彪;马擎天 -专利权人：环晟光伏（江苏）有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： H01L31/20 文献下载
摘要：本发明提供一种PECVD法沉积非晶硅的控制爆膜的方法，包括：对N型晶体硅基体的背表面进行抛光处理，形成抛光面；在所述抛光面上沉积氧化硅遂穿层；在所述氧化硅遂穿层表面采用PECVD法沉积非晶硅层，在PECVD
一种 pecvd 沉积非晶硅控制方法

[发明专利]一种钢基耦合仿生自清洁表面及其制备方法-CN201510975181.4有效
发明人：李晶;杜锋;王晶东;王永华;李红;李强;赵世才 -专利权人：长春理工大学
申请日： 2015-12-23 - 公布日： 2017-07-07 - 主分类号： C25D5/12 文献下载
摘要：该方法包括将基体表面预磨处理；将预磨处理的基体置于金相金属抛光机上抛光至表面光洁；将抛光后的基体置于酒精中超声波清洗；对清洗后的基体表面喷砂处理；对喷砂后的基体表面利用电沉积技术进行Ni沉积处理；将电沉积后的基体置于酒精中超声波清洗本发明制备出具有疏水性能的自清洁表面，采用机械微加工法和电沉积法耦合的方法使表面具有疏水性的自清洁功能，该方法操作简单、方便。
一种耦合仿生清洁表面及其制备方法

[发明专利]一种氧化铈磨料制备方法及其CMP抛光应用-CN201510995356.8有效
发明人：尹先升;贾长征;王雨春 -专利权人：安集微电子科技（上海）股份有限公司
申请日： 2015-12-25 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种氧化铈磨料的制备方法及其在CMP中的应用，该制备方法主要包括，首先通过机械球磨法处理氧化铈前驱体，进一步在高温、高压条件下水热处理上述球磨氧化铈前驱体。本发明首次将球磨分散和水热法相结合，合成氧化铈纳米材料，并将其应用于CMP抛光中，表现出良好的抛光特性。
一种氧化磨料制备方法及其 cmp 抛光应用

[发明专利]制造高DOI/高光泽多功能热塑性薄膜的方法-CN01808511.3有效
发明人： B·S·米恩图斯;M·汉宁顿;L·V·迪卡罗 -专利权人：艾弗里·丹尼森公司
申请日： 2001-03-23 - 公布日： 2003-06-25 - 主分类号： B32B27/32 文献下载
摘要：通过将各层共挤出到镜面抛光的抛光压延辊(112)上来制造高光泽多层聚烯烃薄膜(12)的方法，该膜的特征在于不存在聚氯乙烯。由这一方法生产的多层聚烯烃薄膜(12)具有高光泽饰面和在1.3∶1到1.0∶1范围内的在横向上的图像清晰度，和至少40的在机器方向和横向两方向上的20度光泽。
制造 doi 光泽多功能塑性薄膜方法

[发明专利]能降低NO₂烟害的铝材二步化学抛光法-CN200610034224.X无效
发明人：周国斌;李国有 -专利权人：周国斌;李国有
申请日： 2006-03-13 - 公布日： 2006-08-23 - 主分类号： C23F3/03 文献下载
摘要：本发明公开了一种能降低NO₂烟害的铝材二步化学抛光法，属于铝材表面处理技术，是将铝材三酸化学抛光表面处理过程分为两步进行，第一步采取抑制NO₂产生，除去铝材表面的Al₂O₃膜层及表面整平；第二步进一步抛光出光泽。本发明通过调整调整槽液组份和控制反应速度来到达不同的目的，从而既可以保证大大降低铝材处理过程中的NO₂黄烟危害，又使铝材具有良好的抛光光泽效果，本发明主要用于铝型材表面处理。
降低 no sub 铝材二步化学抛光

[实用新型]一种抛光轮及抛光轮组件-CN202121719038.6有效
发明人：朱文彪;张思凡;肖昌洪;罗齐全;张孟霞 -专利权人：成工重工（遂宁）机械有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24D13/20 文献下载
摘要：本申请提供一种抛光轮，轮盘开设有相互连通的矩形孔以及圆柱孔，圆柱孔的中心位于矩形孔任一侧边的中垂线延长线上，圆柱孔的直径大于矩形孔的边长，矩形孔的中心线与轮盘的轴线同轴。圆柱孔的侧壁开设有导向孔，导向孔的中心线沿轮盘的法向设置，且导向孔的中心线与圆柱孔的中心线相交。导向孔内沿中心线方向滑动设有压块，轮盘的一侧穿设有压紧螺钉，用于压紧压块。一种抛光轮组件，包括连接轴以及上述的轮盘。可有效防止抛光轮与连接轴之间发生相对转动，提高抛光质量。
一种抛光轮组件