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[发明专利]基于中性酵素的布料染色抛光一浴法-CN202011082999.0在审
发明人：卢国栋;李维莉 -专利权人：浙江美欣达纺织印染科技有限公司
申请日： 2020-10-12 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： D06P1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于中性酵素的布料染色抛光一浴法,包括以下步骤：将布料浸水后，依次向布料中加入酵素助剂和染料，然后将布料加热至50～60℃后保温，再将布料至常温后水洗，再调节布料的pH值后加入皂洗助剂，本发明通过对酵素助剂的配方优化以及相应的工艺优化，使得本发明在将抛光和染色工艺一浴完成的条件下，能够使布料能够达到现有酸性酵素的抛光效果，进而同时具有处理效率高、抛光效果好的特点。
基于中性酵素布料染色抛光一浴法

[发明专利]一种微型凹透镜的生产方法-CN200810196766.6无效
发明人：赵云峰 -专利权人：赵云峰
申请日： 2008-10-13 - 公布日： 2010-06-30 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种微型凹透镜的生产方法，包括用备料、铣磨、精磨、细磨、抛光、用洗酒精清洗液擦，最后检验成品，其特征是：所述抛光采用光滑加工工艺，成品用激光扫描检验。光滑加工艺为把细磨好的成品置在环境温度在10℃-15℃中，用筛选法把抛光液中大小颗粒进行分离，然后再用上层的抛光液细抛；所述激光扫描检验是在数字干涉仪上进行面形光圈质量检测；发明的有益效果是：表面质量高
一种微型凹透镜生产方法

[发明专利]硅晶圆的精抛光方法以及使用该抛光方法抛光的硅晶圆-CN201580039703.8有效
发明人：佐藤三千登 -专利权人：信越半导体株式会社
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种精抛光方法，包括使用抛光剂与抛光布而进行精抛光，抛光剂含有硅酸胶、氨以及羟乙基纤维素，硅酸胶借由BET法所量测出的一次粒径为20nm以上且未满30nm，羟乙基纤维素的重量平均分子量在40万以上且70万以下，在将存在于抛光剂中的粒子的累积体积比例在95％的粒径予以设为D₁，并且将硅酸胶分散在水中而使得与抛光剂中的硅酸胶的浓度相同时的硅酸胶的累积体积比例在95％的粒径予以设为D₂之时，D₁/D₂在1.5以上且2.5以下，以及抛光布的使用，为将抛光布风干后进行干燥，且该滴下后经过100秒后的接触角在60°以上。因此，提供了一种硅晶圆的精抛光方法，由此得到的硅晶圆具有整体上优秀的雾度等级，在外围部分有很小的雾度不均和很少的微小缺陷。
硅晶圆抛光方法以及使用

[发明专利]一种高耐磨性化学机械抛光垫及其制备方法和应用-CN202211035655.3在审
发明人：相红旗;陈浩聪;姚力军 -专利权人：宁波赢伟泰科新材料有限公司;宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种高耐磨性化学机械抛光垫及其制备方法和应用，涉及的是化学机械抛光垫的制备领域。本发明通过用超声波和分散剂处理氧化石墨烯，再加入到聚氨酯树脂溶液中，涂布于透明薄膜基材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，随后经后处理制备成抛光垫，具有优异的耐磨性、抛光性和稳定性。通过超声波分散，使氧化石墨烯分散成单层结构，同时分散剂使单片层结构均匀分散在聚氨酯树脂溶液中，氧化石墨烯表面的含氧官能团与聚氨酯官能团之间可以形成氢键交联点，从而使凝结形成的聚氨酯膜物理机械性能得到提升，可延长抛光垫使用寿命，提高抛光性能稳定性。
一种耐磨性化学机械抛光及其制备方法应用

[发明专利]一种在锡青铜中获得高比例特殊晶界的加工方法-CN201610392219.X有效
发明人：柴林江;李志均;王姝俨;杨绪盛;黄伟九 -专利权人：重庆理工大学
申请日： 2016-06-06 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： C22F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种在锡青铜中获得高比例特殊晶界的加工方法，利用线切割工具将锡青铜，沿轧向、横向、法向分别切取20、9和3毫米工件数块，然后将所述工件置于400~800℃环境中保温0.5~5h，再将其水淬至室温；再用200~2500#金相砂纸逐级打磨，再经过机械抛光；然后在抛光液中进行电解抛光，抛光温度为‑20~‑30°C，抛光电压为9 V，抛光时间为90s。
一种青铜获得比例特殊加工方法

[实用新型]一种喷砂抛光机用布袋除尘器-CN201820399036.5有效
发明人：孙木清 -专利权人：江苏群达机械制造有限公司
申请日： 2018-03-22 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： B01D46/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种喷砂抛光机用布袋除尘器，属于空气净化设备领域，旨在提供一种能够对抛光砂进行回收的喷砂抛光机用布袋除尘器，其技术方案要点如下，一种喷砂抛光机用布袋除尘器，包括除尘器本体，所述除尘器本体内设置有花板所述花板下方为下箱体，所述上箱体的上端面设有出气口，所述花板上设有若干安装孔，所述安装孔内向下设置有布袋，所述下箱体上端圆周外切有进风口，所述下箱体的下端固定连接有引导斗，所述引导斗的下端设有用于回收抛光砂的过滤件本实用新型适用于V法铸件用喷砂抛光机的除尘。
喷砂抛光机袋除尘器花板下箱体下端本实用新型除尘器本体安装孔过滤件抛光砂上箱体技术方案要点空气净化设备回收出气口进风口上端面上端除尘布袋灰斗外切铸件

[发明专利]碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液及制备方法-CN202011433027.1在审
发明人：付存;付春淞;刘丹丹;王松娟;王泳;汪静 -专利权人：河南联合精密材料股份有限公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光液及制备方法，包括以下重量百分比的组分：金刚石磨料0.1‑1%、油性剂3‑10%、分散剂0.1‑0.4%、改性脲溶液0.1‑0.5%、活化剂0.1‑0.5%、余量为基础溶剂采用本发明中磨料两步处理法可有效提高多晶金刚石粉体利用率，同时有效的减少抛光液中超尺寸颗粒以及硬团聚体存在导致的划伤问题；本发明采用改性脲溶液作为有机悬浮剂，抛光液长期放置无明显分层现象，与无机悬浮剂，如疏水改性气相法白炭黑，有机膨润土相比，抛光废屑不易粘附在抛光盘上，易清洗。
碳化硅晶片粗抛用金刚石抛光制备方法

[发明专利]一种化学机械抛光液-CN201110178411.6无效
发明人：何华锋;王晨 -专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
申请日： 2011-06-29 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有水、比表面积(用BET比表面积测试法测得)范围为120～300m2/g的研磨剂、质量百分比为0.1～0.2％的能产生银离子的化合物、质量百分比为0.1～0.3％能产生硫酸根离子的化合物和过氧化物本发明的抛光液在保证非常高的钨的抛光速度的同时，通过优化研磨剂的比表面积的范围，银离子的质量百分比和硫酸根离子的质量百分比，从而显著降低抛光液在硅片表面的残留颗粒和降低抛光液的生产成本。
一种化学机械抛光

[发明专利]研磨片及其生产方法-CN96122677.3无效
发明人：臼井璋;吉田幸雄 -专利权人：柯帕克斯株式会社
申请日： 1996-10-29 - 公布日： 2002-02-13 - 主分类号： B24D3/28 文献下载
摘要：本发明的研磨片在抛光操作中可提供较高的抛光效率，并且可将表面上的痕迹或任何不平处或桔皮抛光。因此，本发明的研磨片可有效用作取代目前用于汽车修理业中的细磨料抛光法的抛光工具。
研磨及其生产方法

[实用新型]一种不锈钢管内表面电化学抛光装置-CN00226324.6无效
发明人：杨建桥;齐香君;杨建兵 -专利权人：西北轻工业学院
申请日： 2000-04-25 - 公布日： 2001-02-14 - 主分类号： B23H3/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于不锈钢管内表面电化学抛光装置。目前人们常用机械法和电化学法来解决用作输送管线的不锈钢管内表面粗糙问题,但存在着设备要求高、难度大、效果不佳等弊端,本实用新型由内装电解液的电解槽、电化学抛光电源、辅助阳极、辅助阴极和不锈钢管(即工件)构成,辅助阳极的一端连接电化学抛光电源,另一端设置在电解液中,辅助阴极的一端连接着电化学抛光电源,另一端设置在不锈钢管内。当接通电源后,即可实现只对工件的内表面进行抛光,简易、安全、快速、可靠。
一种不锈钢管表面电化学抛光装置

[发明专利]一种单晶硅片刻蚀抛光设备-CN202211741410.2有效
发明人：严循成;何迎辉 -专利权人：江苏福旭科技有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请公开了应用于硅片刻蚀领域的一种单晶硅片刻蚀抛光设备，该刻蚀抛光设备通过抛光装置、负压固片机构的设置，使得负压固片机构可在固片筒、密封抵片环等的作用下利用负压对单晶硅片进行固定，即使单晶硅片较薄，也可对单晶硅片进行有效固定，可大大减少单晶硅片掉落现象的发生，且抛光装置可通过化学－机械抛光法同时对多个单晶硅片进行抛光处理，可有效提高抛光效率，另外，通过加强固片机构的设置，使得对单晶硅片进行固定时，固片筒内气压的变化会引发加强固片机构的变化调节
一种单晶硅刻蚀抛光设备

[发明专利]金属膜厚测量方法、膜厚测量装置和化学机械抛光设备-CN202210206383.2有效
发明人：王成鑫;王同庆;田芳鑫;侯映红;路新春 -专利权人：清华大学;华海清科股份有限公司
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属膜厚测量方法、膜厚测量装置和化学机械抛光设备，方法包括：基于幅值法或相位法测量晶圆表面金属薄膜的膜厚时，计算幅值法或相位法对应的极值点；根据所述极值点、测量量程和/或测量灵敏度来调节激励频率本发明利用极值点，可以得到幅值法和相位法中最优的测量量程和测量灵敏度。
金属膜测量方法测量装置化学机械抛光设备

[发明专利]用于钨和钛的化学机械平坦化的研磨剂和组合物-CN200510062471.6无效
发明人： B·L·穆勒;C·余 -专利权人： CMP罗姆和哈斯电子材料控股公司
申请日： 2005-03-28 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供了制造用于抛光半导体晶片上的钨和钛的气相法氧化硅的方法。该方法包括提供预定体积的水和提供预定浓度的气相法氧化硅的过程，其中该气相法氧化硅的浓度至少为该体积的水的35wt％。此外，本发明提供了向该体积的水中混入酸以便将水酸化，其中酸的浓度是气相法氧化硅浓度的0.0010至0.5wt％，然后将气相法氧化硅分散到酸化水中的过程。此外，本发明提供了稀释该气相法氧化硅的浓度，其中该水具有1至7的pH和收集该气相法氧化硅。
用于化学机械平坦研磨剂组合

[发明专利]制备浮法高铝超薄玻璃的装置和方法-CN202310081365.0在审
发明人：许平西;王明忠;崔秀珍;钟波;王世超;梁新辉 -专利权人：咸宁南玻光电玻璃有限公司;清远南玻节能新材料有限公司;中国南玻集团股份有限公司
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C03B18/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种制备浮法高铝超薄玻璃的装置和方法。该制备浮法高铝超薄玻璃的装置，该装置包括浮托介质槽、加热器和冷却器；浮托介质槽用于承装浮托介质，浮托介质槽具有入口和出口，在入口到出口的方向上，浮托介质槽依次包括抛光段、成形段和成形后段；加热器用于向高铝玻璃液提供热量而使得高铝玻璃液在流经抛光段时的温度为采用上述制备浮法高铝超薄玻璃的装置制备高铝超薄玻璃时合格率高。
制备浮法高铝超薄玻璃装置方法

[发明专利]抛光垫修整器及其制造方法-CN201710291237.3有效
发明人：陈盈同 -专利权人：咏巨科技有限公司
申请日： 2017-04-28 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：抛光垫修整器及其制造方法。抛光垫修整器包括金属基座、微波吸收层以及至少一研磨层。金属基座具有一上表面以及一侧壁面，微波吸收层覆盖金属基座的上表面以及侧壁面，且微波吸收层是通过非微波电浆方法形成。在以微波电浆化学气相沉积法形成研磨层之前，先以非微波电浆法形成覆盖金属基座上表面与侧表面的微波吸收层，可避免以微波电浆化学气相沉积法形成研磨层时，金属基座因吸收微波而与腔体或其它基座之间产生放电的问题。
抛光修整及其制造方法