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- [发明专利]CVD成膜装置-CN201080049046.2无效
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濑川利规;冲本忠雄;玉垣浩
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株式会社神户制钢所
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2010-10-18
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2012-07-18
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C23C16/44
- 本发明的CVD成膜装置(1)，其中包括：多个成膜室单元(6)，分别具有与等离子体电源连接的成膜辊(2，2)及收纳该成膜辊(2，2)的成膜用单元室(60)，且各成膜辊(2，2)配置成沿水平方向排成一列；以及连接室单元(7)，具有与成膜室单元(6)的成膜用单元室(60)连结的连接用单元室(70)，且该连接室单元介于邻接的成膜室单元(6)之间并连接成膜室单元(6)彼此。基材(W)以缠挂在各成膜室单元(6)的各成膜辊(2，2)的状态被输送，各成膜室单元(6)各自通过等离子体来分解原料气体，该等离子体是通过向成膜辊(2，2)施加电压而在该成膜辊(2，2)附近生成，在成膜辊(2，2)上对所述基材实施成膜处理。
- cvd装置
- [发明专利]成膜装置、成膜头和成膜方法-CN201080044833.8有效
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小野裕司;林辉幸
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东京毅力科创株式会社
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2010-09-30
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2012-07-11
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C23C16/455
- 提供一种成膜装置，该成膜装置能够进行期望条件下的有机成膜材料和无机成膜材料的共蒸镀。该成膜装置具备：收纳被处理基板(G)的处理室；设置于处理室的外部的产生有机成膜材料的蒸气的蒸气产生部；有机成膜材料供给部(22)，其设置于处理室的内部，将在蒸气产生部产生的有机成膜材料的蒸气喷出；无机成膜材料供给部(24)，其设置于处理室的内部，喷出无机成膜材料的蒸气；和混合室(23)，其将从有机成膜材料供给部(22)喷出的有机成膜材料的蒸气与从无机成膜材料供给部(24)喷出的无机成膜材料的蒸气混合，混合室(23)具备使有机成膜材料和无机成膜材料的混合蒸气通过、向被处理基板(G)供给的开口部(23c)。
- 装置成膜头方法
- [发明专利]成膜装置-CN202180057905.0在审
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五十岚诚;斋藤优;野中裕弥
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株式会社新柯隆
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2021-10-19
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2023-08-08
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C23C14/24
- 提供一种运转率高的成膜装置。其具备：成膜室(2)，该成膜室(2)至少设置有成膜材料M和被成膜物(S)，能够设定为规定的成膜气氛；炉膛内衬(23)，该炉膛内衬(23)设置于上述成膜室(2)的内部，容纳上述成膜材料M；加热源(24)，该加热源(24)设置于上述成膜室(2)的内部，对容纳在上述炉膛内衬(23)的成膜材料(M)进行加热；和材料供给室(3)，该材料供给室(3)具有填充用于供给至上述炉膛内衬(23)的成膜材料(M)的材料填充部(35)，通过具有闸阀(37)的连通路径(36)与上述成膜室(2)连接，能够设定为规定的压力气氛。在供给成膜材料(M)的情况下，在将成膜室(2)设定为成膜气氛的状态下，将上述材料供给室(3)的内部设定为上述规定的压力气氛后，打开上述闸阀(37)，通过上述连通路径(36)将填充在上述材料填充部(35)
- 装置
- [实用新型]包衣后种子成膜装置-CN200620139382.7无效
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王广万;刘晓冬;刘国春
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贾生活
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2006-12-15
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2008-01-09
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A01C1/06
- 本实用新型公开了一种包衣后种子成膜装置，支架上方的成膜室内设有引风管，引风管端部的一段管壁上开有吸风管，成膜室上方所设的循环分料机，循环分料机上设有进料斗，成膜室侧壁上设有进风门，成膜室下方设有卸料斗，卸料斗中设有搅拌器，成膜室上设有阻旋式料位器，成膜室顶部设有人孔。采用上述包衣后种子成膜装置，可以让包衣后的种子通过循环分料机循环喂两个成膜室中，堆积达到一定的厚度，通过与成套设备除尘风机相连的吸风管和进气门，不断进行冷空气的大量交换，带走种子表面蒸发出的水分，该系统有两个成膜室，种子循环通过卸料斗卸料，保证了包衣后种子在成膜室中的滞留时间，确保成膜时间和成膜效果。
- 包衣种子装置
- [发明专利]带薄膜基板的制造方法和制造装置-CN97190293.3无效
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野村文保
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东丽株式会社
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1997-03-27
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1998-07-22
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C23C14/56
- 为了达到上述目的的本发明,提供下述的一种带薄膜的基板的制造方法在成膜区域的前后,设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室,在该成膜室的前后,分别设有具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室,在该成膜室中成膜对象基板正在成膜期间,把下一成膜对象基板组送入投入室,先排好气,同时,把前次成膜完毕的成膜对象基板组从取出室内取出来,其特征是,边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之形成膜。作为用来实施这种带薄膜的基板的制造方法的装置,提供一种带薄膜的基板的制造装置,其特征是具有在成膜区域的前后,具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室;在该成膜室的前后,分别具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室;该成膜室、该投入室和该取出室分别独立地具有可排气的排气装置;该成膜室具有成膜粒子产生源、使该成膜对象基板通过成膜区域的装置和把该成膜对象基板组从第1储料室中顺次取出到该通过装置中去,并从该通过装置中取入到第2储料室中去的装置。
- 薄膜制造方法装置
- [发明专利]成膜装置-CN201210051972.4有效
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饭尾逸史;伊藤秀彦
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住友重机械工业株式会社
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2012-03-01
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2012-09-05
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C23C14/00
- 本发明提供一种能够确保检测有无被成膜材料的检测功能的成膜装置。一种成膜装置(1)，其在工件(W)上进行成膜材料的成膜，该成膜装置具备有：成膜室(2)，容纳工件(W)并进行成膜处理；传送装置(7)，设置在成膜室(2)的内部，传送工件(W)；视口(13)，设置在划分成膜室(2)的壁(3a)上且具有透射光的防粘玻璃(27)，可实现光从成膜室(2)的外部向内部的投射；移动式传感器(11)，设置在成膜室(2)的外部，使感测光透射视口(13)的防粘玻璃(27)来投射从而检测成膜室(2)的内部有无工件(W)；及加热器(31)，用于抑制成膜材料向防粘玻璃(27)的沉积。
- 装置
- [发明专利]粒子膜层积装置及使用该装置的粒子膜层积方法-CN201380017086.2有效
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内山直树;金井友美
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株式会社渥美精机
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2013-01-31
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2018-01-23
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C23C14/06
- 一种粒子膜层积装置及使用该装置的粒子膜层积方法。本发明的粒子膜层积装置(1)具有生成金属材料(9)的纳米粒子(12)的纳米粒子生成室(2)；生成树脂材料(11)的纳米纤维(13)的纳米纤维生成室(3)；在基板(18)上将纳米粒子(12)及纳米纤维(13)成膜并层积的层积室(4)；在成膜室(4)内将纳米粒子(12)成膜的纳米粒子成膜区域(15)；在成膜室(4)内将纳米纤维(13)成膜的纳米纤维成膜区域(16)；使基板(18)在纳米粒子成膜区域(15)与纳米纤维成膜区域(16)之间移动的移动单元(17)；对层积室(4)进行排气的排气单元(5)；将冷却气体分别导入纳米粒子生成室(2)及纳米纤维生成室(3)的冷却气体导入单元(8)。
- 粒子层积装置使用方法
- [发明专利]基板处理方法-CN201080032131.8有效
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中村真也;藤井佳词;长嶋英人
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爱发科股份有限公司
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2010-07-15
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2012-05-30
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C23C14/00
- 提供一种基板处理方法，使其在使处理室的状态恢复的恢复处理的时间比处理室中进行的规定处理的时间长的情况下，也可以使生产能力提高。交替地向两个成膜室C、D传送基板，在成膜室C、D中对基板并行地进行同一成膜处理，当成膜室C中的处理片数达到规定片数(11片)时，在成膜室C中开始伪溅射处理，并且在直到伪溅射处理结束为止的期间内，向成膜室D传送第1批的第23片～第25片来进行成膜处理。当成膜室C中的伪溅射处理结束时，在成膜室D中开始伪溅射处理，并且在直到伪溅射处理结束为止的期间内，向成膜室C传送第2批的第1片～第3片来进行成膜处理。当成膜室D中的伪溅射处理结束时，重新开始交替的传送。
- 处理方法
- [发明专利]成膜方法-CN201210337176.7无效
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西田正三
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株式会社日本制钢所
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2012-09-12
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2013-03-27
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C23C14/22
- 本发明提供一种不论成膜用工件的形状、构造如何一旦搬入成膜室就能够直接进入成膜动作的成膜方法。注塑成型成膜用工件（W）时，将辅助部件（1、2）和成膜用工件（W）成型为一体，其中辅助部件在将该成膜用工件搬入成膜室（11）内而安置在成膜台（12）上时将成膜用工件保持为其成膜面或成膜部（A’、B’、C’）和靶材料（14）相对的规定姿势，将其搬入成膜室进行成膜。
- 方法
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