专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种FinFET器件的CMP工艺建模方法-CN201611193180.5有效
  • 徐勤志;陈岚 - 中国科学院微电子研究所
  • 2016-12-21 - 2021-02-12 - G06F30/39
  • 本发明公开了一种FinFET器件的CMP工艺建模方法,包括:基于CMP工艺对FinFET器件进行机理分析,其中,所述机理分析包括:CVD沟槽填充机理分析和CMP工艺研磨机理分析;根据所述机理分析的结果,对所述FinFET器件进行CMP工艺建模,其中,CMP工艺建模包括:浅沟道隔离CMP工艺建模、多晶硅CMP工艺建模、第零层间绝缘CMP工艺建模和金属栅CMP工艺建模。由上述内容可知,本发明提供的技术方案,在于通过开发FinFET器件的CMP工艺建模技术,建立兼顾机理和效率的FinFET器件CMP仿真模型,以优化设计实现和工艺参数配置。
  • 一种finfet器件cmp工艺建模方法
  • [实用新型]一种夜光工艺-CN201120442163.7有效
  • 不公告发明人 - 栾清杨
  • 2011-11-10 - 2012-09-05 - B44C5/06
  • 本实用新型涉及工艺品加工制造领域,具体的讲是涉及一种夜光工艺品。一种夜光工艺品,包含工艺品本体和荧光膜,所述的工艺品本体的内部为空心结构;在工艺品本体内部空心的内表面上喷涂一层荧光膜;所述的工艺品本体为鱼型造型,在外表面两个侧面分布有鱼眼、鱼鳍和抽象花纹。该工艺品的荧光体设于工艺品本体的内部,既保证了工艺品的使用寿命,又保证了工艺品的安全使用。
  • 一种夜光工艺品
  • [发明专利]湿制工艺模块和操作方法-CN202110697629.6在审
  • 迈克尔·布劳恩;西蒙·舒茨巴赫 - 苏斯微技术光刻有限公司
  • 2021-06-23 - 2021-12-28 - H01L21/67
  • 一种用于处理衬底(特别是晶片)的湿制工艺模块(10),特别是涂漆模块,其具有工艺室(12),该工艺室包括用于处理衬底的工艺釜(24)、用于将空气供应到工艺室(12)中的空气入口(16)、至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)。至少一个旁路出口(38)和至少一个工艺釜出口(36)是用于将空气排出工艺室(12)的空气出口。此外,至少一个工艺釜出口(36)设置在工艺釜(24)中,并且至少一个旁路出口(38)设置在工艺釜(24)的外部。此外,示出了操作这种湿制工艺模块(10)的方法。
  • 工艺模块操作方法
  • [发明专利]工艺腔室共享电源方法及设备-CN201410178128.7有效
  • 韩盼盼 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2014-04-29 - 2018-03-09 - C23C14/54
  • 本发明公开了一种工艺腔室共享电源方法及设备,其中方法包括如下步骤接收工艺腔室发出的申请使用电源命令;检测电源的工作状态;当电源的工作状态为空闲状态时,工艺腔室获取电源使用权,控制工艺腔室与电源的连接电路导通;工艺腔室使用电源进行工艺任务;当工艺腔室使用电源进行工艺任务完毕后,控制工艺腔室与电源的连接电路断开,释放电源。其通过多个工艺腔室轮流使用一个电源,在确保正常完成工艺的同时,减少了电源的使用个数,有效地解决了工艺成本增加的问题。
  • 工艺共享电源方法设备
  • [发明专利]半导体加工工艺传感器及表征半导体加工工艺的方法-CN201410379803.2有效
  • J.H.李 - 天工方案公司
  • 2009-09-22 - 2017-08-08 - H03F1/30
  • 半导体加工工艺传感器以及表征用来形成半导体加工工艺传感器的半导体加工工艺的方法。所述半导体加工工艺传感器包括恒定参考电压源,配置为产生恒定参考电压信号;加工工艺传感器元件,其耦接到所述恒定参考电压源,并被配置为接收所述恒定参考电压信号,感测表示用来形成所述半导体加工工艺传感器的半导体加工工艺的加工工艺参数,并基于该感测的加工工艺参数产生表征用来将半导体加工工艺传感器形成为额定、高于额定或低于额定中的一种的半导体加工工艺的加工工艺测量信号。
  • 半导体加工工艺传感器表征方法
  • [发明专利]工艺液体供给方法及装置-CN201610126910.3有效
  • 张修凯;张宏文 - 弘塑科技股份有限公司
  • 2016-03-07 - 2020-03-31 - H01L21/67
  • 本发明提供一种工艺液体供给方法及装置,所述方法包含:控制第一工艺液体喷洒单元在基板的中心位置的上方停留并喷洒第一工艺液体,同时控制第二工艺液体喷洒单元移动至所述基板的边缘,并且喷洒第二工艺液体;升高所述第一工艺液体喷洒单元的位置,停止所述第一工艺液体的喷洒及控制所述第二工艺液体喷洒单元移动至所述基板的所述中心位置的上方并继续喷洒所述第二工艺液体;以及控制所述第一工艺液体喷洒单元移动至第一原点及所述第二工艺液体喷洒单元自所述中心位置朝远离第二原点的方向移动并继续喷洒所述第二工艺液体
  • 工艺液体供给方法装置
  • [发明专利]工艺文件生成系统-CN201310479712.1无效
  • 陈滨 - 苏州荣越网络技术有限公司
  • 2013-10-15 - 2014-01-15 - G06Q50/00
  • 本发明公开了一种工艺文件生成系统,包括:密码设置登陆模块、工艺预备模块、产品明细导入模块、工艺修改模块和文件生成模块,所述的密码设置登陆模块分别与工艺预备模块、产品明细导入模块、工艺修改模块和文件生成模块相连接,所述的工艺预备模块分别与产品明细导入模块和工艺修改模块相连接,所述的产品明细导入模块与文件生成模块相连接。通过上述方式,本发明指出的工艺文件生成系统,拥有丰富的工艺存储和修改功能,导入产品明细后可以根据需要选择以往工艺内容或者新增工艺,灵活方便,并自动生成工艺文件,工作效率高。
  • 工艺文件生成系统

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