专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]倒装LED芯片-CN202120117251.3有效
  • 彭翔;金力;封波 - 晶能光电(江西)有限公司
  • 2021-01-15 - 2021-09-28 - H01L33/14
  • 本实用新型提供了一种倒装LED芯片,包括:生长衬底;半导体多层结构,表面形成有发光区域和电极区域;电极区域表面设置有贯穿连接至n半导体层的n电极;发光区域表面设置有:反射结构,包括反射层及金属反射层,反射层中包括填充有导电材料的第一通孔,且反射层中介材料与导电材料的接触面之间、材料与金属反射层的接触面之间及反射层与半导体多层结构的接触面之间均设置有透明导电层;绝缘层,设置于反射结构表面及发光区域结构侧壁解决金属反射层、反射层及发光材料之间的粘附性问题的同时,解决材料接触区域电流无法流经的问题。
  • 倒装led芯片
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200910004715.3有效
  • 村越笃;矢桥胜典 - 株式会社东芝
  • 2009-02-20 - 2009-08-26 - H01L27/146
  • 接下来,通过使用硬掩模材料膜作为掩模在成像区中注入杂质,在凹陷的正下方形成p区。并且,通过在处理区中进一步加工所述凹陷,形成沟槽。通过在所述凹陷和沟槽中掩埋材料以去除硬掩模材料膜,形成半掩埋膜和STI。接下来,形成分别覆叠半掩埋膜和STI的两个电极,并且使用一个电极和半掩埋膜作为掩模,在成像区中注入杂质,从而在半导体衬底中在与p区接触的区域中形成构成光电二极管的n区。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]封装结构及其制造方法-CN202210049542.2在审
  • 曾浩维;郭季海;李政廷;陈滢竹;林溥如;柯正达 - 欣兴电子股份有限公司
  • 2022-01-17 - 2023-07-25 - H01L33/48
  • 该封装结构包含基板、多个导电垫、发光二极管、感光材料以及遮光层。基板包含上表面。导电垫位于基板的上表面。发光二极管位于导电垫上。感光材料位于发光二极管与基板的上表面之间以及导电垫之间。发光二极管在基板上的垂直投影与感光材料在基板上的垂直投影重叠。遮光层位于基板的上表面以及导电垫上。借由本发明技术方案的实施,可提升封装结构的可靠度及平整性。此外,接合发光二极管的步骤与固化感光材料的步骤可同时达成,因此可无需在接合步骤后再增加额外的加热程序。
  • 封装结构及其制造方法
  • [发明专利]半导体结构-CN200810002671.6有效
  • 侯永田;徐鹏富;金鹰;林纲正;黄国泰;李资良 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2008-01-14 - 2008-07-30 - H01L27/092
  • 本发明涉及一种半导体结构,包括:半导体基底;第一导电的第一金属氧化物半导体装置,包括:第一栅极层,形成于半导体基底上;含有金属的第一栅极电极层,形成于第一栅极层上;硅化层,形成于含有金属的第一栅极电极层上;以及第二导电的第二金属氧化物半导体装置,其导电与第一导电相反,包括:第二栅极层,形成于半导体基底上;含有金属的第二栅极电极层,形成于第二栅极层上;以及接触蚀刻停止层,具有一部分形成于含有金属的第二栅极电极层上
  • 半导体结构
  • [发明专利]三维多晶硅只读存储器及其制造方法-CN200310122594.5有效
  • 徐子轩;李明修;龙翔澜;吴昭谊 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2003-12-12 - 2005-06-15 - H01L27/112
  • 一种三维多晶硅只读存储器及其制造方法,此三维多晶硅只读存储器包括:硅基板、绝缘氧化层、N重掺杂多晶硅层、P轻掺杂多晶硅层、层以及二氧化层。绝缘氧化层位于硅基板上,而N重掺杂多晶硅层位于绝缘氧化层上,包括数条相互隔开且平行的字符线;字符线之间有一层氧化层,而层则位于字符线与氧化层上。P轻掺杂多晶硅层位于层上,且包括数条相互隔开且平行的位线,位线并与字符线实质上垂直交错。层中至少有一颈状结构(neck)形成于位线之下方,另一氧化层则位于位线之间,且位于字符线与第一氧化层上。
  • 三维多晶只读存储器及其制造方法

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