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[发明专利]一种微压电驱动器阵列结构的制备方法-CN201610415190.2在审
发明人：李以贵;黄远;颜平;王欢;胡隆胜;夏碧颖;李俊衡;桑先润 -专利权人：上海应用技术学院
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2016-09-21 - 主分类号： H01L41/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种微压电驱动器阵列结构的制备方法，包括：对一双面抛光的硅片进行热氧化处理，在表面形成二氧化硅薄膜；对二氧化硅薄膜进行图形化处理，形成掩膜图案；根据掩膜图案，对硅片的上表面进行电感耦合等离子体刻蚀分别在硅支撑台的上表面和一压电陶瓷片的下表面蒸镀一层金层，采用共晶键合的方法实现两者的键合；对压电陶瓷片进行物理减薄；在压电陶瓷片的上表面溅射一层金/铬薄膜，作为压电陶瓷片的上层电极，并使用准分子激光器对压电陶瓷片进行图形化处理
一种压电驱动器阵列结构制备方法

[发明专利]高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法-CN201310272318.0无效
发明人：张化宇;汪桂根;崔林;韩杰才 -专利权人：哈尔滨工业大学深圳研究生院
申请日： 2013-07-01 - 公布日： 2013-10-02 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明提供一种高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下几个步骤：步骤A:在光栅结构图形硬模板上旋涂甲苯稀释的PDMS；步骤B:在甲苯稀释的PDMS上涂覆PDMS预聚物;步骤C:脱模，获得PDMS软压印模板；步骤D:在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射金属铝膜；步骤E:脱模，获得紫外固化胶图形;步骤F:以金属铝膜上图形化紫外固化胶为掩膜；步骤G:进行低温热处理，使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;步骤H:将得到的图形化多晶Al2O3膜进行高温热处理，即得到图形化蓝宝石衬底。本发明获得的用于氮化物外延生长的图形化蓝宝石衬底，工艺简单易行，生产效率高，成本低，面积大。
高效率低成本大面积图形蓝宝石衬底制备方法

[发明专利]一种量子点彩色滤光片及其制作方法-CN201711259928.1在审
发明人：陈恩果;叶芸;徐胜;郭太良;林金堂;林志贤;林淑颜;谢洪兴 -专利权人：福州大学
申请日： 2017-12-04 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种量子点彩色滤光片及其制作方法，该量子点彩色滤光片包括由下向上依次设置的基板层、阻隔层、量子点滤色膜层及封装层；该方法包括在对基板进行预处理形成阻隔层，在基板上表面按照线型轨迹图形化形成黑矩阵框，将混合均匀的量子点浆料图形化在黑矩阵框内形成量子点滤色单元图案并固化形成滤色膜层；再在附有量子点滤色单元图案的基板上通过点对点图形化处理为一层透明阻隔材料并固化形成封装层。
一种量子彩色滤光及其制作方法

[发明专利]一种光栅结构及衍射光波导的制作方法-CN202310451215.4在审
发明人：陈和峰;陈志高;楼歆晔 -专利权人：上海鲲游科技有限公司
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种光栅结构的制作方法，光栅结构用于扩瞳结构和/或耦出结构，该方法包括：提供一基底；对基底不同位置进行定域气团腐蚀处理，以在基底的第一表面不同位置形成起伏不平的表面轮廓；在基底的第一表面上沉积光栅材料层，并对光栅材料层的顶部进行平坦化处理，以使得光栅材料层的顶部平整；光栅材料层的厚度非均匀分布，以使刻蚀光栅材料层形成光栅结构时，光栅结构的深度变化使得光栅结构沿着光线传播的方向衍射效率逐渐增大；在光栅材料层的顶部形成图形化的掩模层；以图形化的掩模层为掩模刻蚀光栅材料层至第一表面，以在基底上形成光栅结构；去除图形化的掩模层。
一种光栅结构衍射波导制作方法

[发明专利]一种蓝宝石衬底制作工艺-CN201510795423.1有效
发明人：魏臻;孙智江;贾辰宇 -专利权人：海迪科(南通)光电科技有限公司
申请日： 2015-11-18 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： H01L21/86 文献下载
摘要：本发明涉及一种蓝宝石衬底制作工艺，所述制作工艺包括一次清洗、匀胶、烘烤、冷却、制作图形化衬底、人工目检、刻蚀、二次清洗和自动检测等步骤，清洗过程中用水作为冲洗液进行冲洗，在冲洗时，控制冲洗液的PH值在6.5本发明的优点在于：通过在进行蓝宝石衬底的图形化处理前对采用的平片衬底进行预清洗，以及图形化刻蚀过程中的二次清洗，严格控制清洗温度和PH值，确保经过清洗后的衬底不会影响后续的上胶处理，降低掉胶率，以便在人工目检过程中尽量发现问题
一种蓝宝石衬底制作工艺

[发明专利]提高UVC接触面积的导光玻璃及其制作方法-CN201810449165.5在审
发明人：王锐勋;王玉河 -专利权人：深圳市微纳科学技术有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：接触面积的导光玻璃，所述导光玻璃包括采用导光材料的导光基体（1），在所述导光基体（1）上设置有入射面（10）、出光面（11）和反射面（12）；所述入射面上安装有UVC光源（2）；所述反射面（12）有经图形化处理的粗化层本发明的有益效果是，利用导光基体的粗化层121改变光路方向，使得到达出光面的光尽量避免全反射，同时将在UVC波段具高反射率的材料AL直接背镀到表面经过图形化处理的导光基体的反射面上，得到优异的UVC发光玻璃
导光基体导光玻璃粗化层图形化处理反射面导光材料发光玻璃高反射率铝反射层出光面全反射入射面导出等高光路入射传播反射光源玻璃制作

[发明专利]LED电子器件的制作方法、LED电子器件及发光器件-CN202011555717.4在审
发明人：张普翔;秦快;蒋纯干;郭恒;冯飞成;欧阳小波;莫华莲 -专利权人：佛山市国星光电股份有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： H01L21/60 文献下载
摘要：一种LED电子器件的制作方法、LED电子器件及发光器件，该LED电子器件的制作方法包括：在介质基板的一面生成第一线路层；对第一线路层填充正光阻，并将正光阻按照预设光罩进行图形化处理；对图形化处理后的正光阻填充介电材料
led 电子器件制作方法发光器件

[发明专利]闪存结构的形成方法-CN202211261382.4在审
发明人：吴志涛;李志国;徐杰;刘志斌;孙峥 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： H01L27/11521 文献下载
摘要：一种闪存结构的形成方法，包括：提供衬底；在所述衬底表面形成存储栅材料层；对所述存储栅材料层进行第一图形化处理，在所述存储栅材料层内形成相互分立且暴露出所述衬底的字线栅开口和两个源漏开口，所述两个源漏开口分别位于所述字线栅开口两侧，以所述字线栅开口和所述源漏开口之间的存储栅材料层形成存储栅结构；在所述字线栅开口和所述源漏开口内形成初始字线栅结构；对所述初始字线栅结构进行第二图形化处理，以去除所述源漏开口内的所述初始字线栅结构，在所述字线栅开口内形成字线栅结构
闪存结构形成方法

[发明专利]一种耐压液滴驱动结构的制备方法-CN202310788413.X在审
发明人：刘立滨;臧金良;许诺;汪震海;张淮;彭渤;申研 -专利权人：北京机械设备研究所
申请日： 2023-06-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐压液滴驱动结构的制备方法，包括如下步骤在衬底上淀积绝缘层和导电层交错堆叠形成的层叠结构；所述层叠结构中的至少部分绝缘层包括提高所述层叠结构耐压能力的光固化树脂材料；利用光刻方法对所述层叠结构中的导电层进行图形化处理，并配合干法刻蚀或者湿法腐蚀形成驱动电极；对所述层叠结构中的绝缘层进行局部曝光和固化处理；在所述层叠结构中最上层的绝缘层上涂覆疏水层。本发明利用树脂材料所具备的光固化特性，可以进行原位光刻和图形化，大幅度降低工艺复杂度，降低成本。同时利用树脂材料所具备的耐压特性，提高了液滴驱动结构的电压耐受能力。
一种耐压驱动结构制备方法

[发明专利]手术机器人系统及手术器械位置的显示方法-CN201710385151.7有效
发明人：高旭;师云雷;何超;王家寅;朱祥;姜逸之 -专利权人：微创（上海）医疗机器人有限公司
申请日： 2017-05-26 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： A61B34/20 文献下载
摘要：所述显示单元与计算单元通讯连接，所述内窥镜末端设有内窥镜坐标系，所述计算单元用于根据正运动学方程获取特征点在内窥镜坐标系下的坐标值，并根据坐标值获取手术器械在内窥镜镜头平面下的位置信息，并对位置信息进行图形化处理，所述显示单元接收经图形化处理的位置信息并进行显示，以此来提高手术安全性和效率。
手术机器人系统手术器械位置显示方法

[发明专利]芯片封装结构及其制作方法-CN202010788908.9有效
发明人：陈先明;冯磊;黄本霞;谢炳森;辛世贵 -专利权人：珠海越亚半导体股份有限公司
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：本申请公开了一种芯片封装结构及其制作方法，该方法包括步骤：提供包括金属柱和埋芯空腔的有机框架；在埋芯空腔内贴装正面朝上设置的芯片；层压介质层，使介质层覆盖在有机框架上表面及芯片的正面和四周表面；对介质层进行图形化处理，形成多个芯片正面散热开窗、芯片端子开窗和金属柱开窗，去除下表面胶带，在上表面和下表面进行图形化处理，沉积金属形成线路层和散热层，线路层设置在金属柱下表面以及芯片端子开窗和金属柱开窗处，散热层设置在芯片的背面和芯片正面散热开窗处
芯片封装结构及其制作方法

[发明专利]一种亚微米级图形化蓝宝石衬底及其制备方法-CN202310661114.X在审
发明人：文国昇;郭文凯;田晓强;林冠宏;崔思远;金从龙 -专利权人：江西兆驰半导体有限公司
申请日： 2023-06-06 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种亚微米级图形化蓝宝石衬底及其制备方法，所述制备方法包括：对蓝宝石衬底进行平片清洁；在所述蓝宝石衬底的表面沉积预设厚度的SiO2层，得到复合式蓝宝石衬底；对所述复合式蓝宝石衬底进行匀胶处理；采用纳米压印技术对匀胶处理后的所述复合式蓝宝石衬底进行图形转移，得到图形化蓝宝石衬底；对所述图形化蓝宝石衬底进行刻蚀，得到亚微米级图形化蓝宝石衬底。本发明通过将图形化蓝宝石衬底的图形尺寸缩小，可以提高外延层质量和出光效率，低缺陷密度可以降低外延缺陷，增加有效使用面积。解决了现有技术中无法采用有效手段来降低缺陷密度以减小图形化蓝宝石衬底的图形尺寸的问题。
一种微米图形蓝宝石衬底及其制备方法

[发明专利]一种超导电路及其制备方法-CN202211652091.8有效
发明人：王涛;熊康林;冯加贵;李书明;杨丽娜 -专利权人：材料科学姑苏实验室
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： H10N60/01 文献下载
摘要：本发明提供了一种超导电路及其制备方法，所述制备方法包括：（1）在衬底上制备钽层；（2）对所述钽层依次经一次钝化处理、光刻‑刻蚀处理以及二次钝化处理，得到超导电路；所述光刻‑刻蚀处理包括依次进行的涂胶、一次烘烤、图形化处理、二次烘烤、等离子体处理、湿法刻蚀以及光阻剥离；所述制备方法采用湿法刻蚀，并结合钝化工艺以及等离子体处理工艺，有效解决了现有技术中干法刻蚀带了的衬底损伤问题，改善了金属图形边缘的平滑程度，减少了器件的二能级损耗
一种超导电路及其制备方法

[发明专利]mock数据可视化处理方法、系统、终端及存储介质-CN202310855216.5在审
发明人：张健;杨泉林;付港;贾立娟;盛建鲁 -专利权人：浪潮智慧科技有限公司
申请日： 2023-07-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G06F8/34 文献下载
摘要：本发明涉及服务器技术领域，具体提供一种mock数据可视化处理方法、系统、终端及存储介质，包括：配置mock数据的属性值生成方式；从数据编辑界面的输入框抓取目标数据；基于所述属性值生成方式和所述目标数据生成mock数据；将所述mock数据保存至前端请求接口的数据调用路径，以使前端接口调用所述mock数据；将所述mock数据输出至预先编译的图形化显示界面。本发明能够在图形化显示界面实时查看最新生成的mock数据，无需开发人员不断去后台调取数据，提升了开发效率。
mock 数据可视化处理方法系统终端存储介质

[发明专利]金刚石同质外延横向生长方法-CN201510023907.4在审
发明人：王宏兴;李硕业;王玮;张景文;卜忍安;侯洵 -专利权人：王宏兴
申请日： 2015-01-17 - 公布日： 2015-05-27 - 主分类号： C30B25/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种金刚石同质外延横向生长方法，包括步骤一、在单晶金刚石衬底表面沉积掩膜层；步骤二、在衬底沉积有掩膜层的表面进行图形化处理，形成图形化表面的衬底，该图形化衬底表面被分为同质外延生长区域和横向生长区域
金刚石同质外延横向生长方法