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[发明专利]一种减小高线密度X射线闪耀光栅闪耀角的调控方法-CN202310816605.7在审
发明人：黄秋实;王占山;庄野琪;蒋励;张哲;张众 -专利权人：同济大学
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种减小高线密度X射线闪耀光栅闪耀角的调控方法，包括在目标闪耀角小于光栅基底闪耀角前提下，根据基底制作闪耀角α0和目标闪耀角的差值，及最终衍射效率影响最小化原则，利用不同薄膜材料生长平滑特性，选取平滑层膜系结构和镀膜材料，获取镀膜后闪耀角随优化参数变化的变化曲线，根据变化曲线确定镀制参数，使得镀膜后闪耀角等于目标闪耀角。与现有技术相比，本发明提供了一种高线密度闪耀光栅闪耀角的修正方法，克服了高线密度闪耀光栅闪耀角难以自由调控导致应用能点受限，工作级次受限，衍射效率低等难题，提高高线密度多层膜闪耀光栅在目标级次的衍射效率。
一种减小密度射线闪耀光栅调控方法

[发明专利]光学复合模组及其显示装置-CN202310936517.0在审
发明人：郭李 -专利权人：华勤技术股份有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例涉及光学技术领域，公开了一种光学复合模组及其显示装置。本发明中，光学复合模组包括从内到外依次叠设的支撑层、光栅层以及保护层；光栅层包括沿其长度方向有间隔地均匀设置的多个吸光部，各吸光部分别沿光栅层的厚度方向延伸、并包括分别与支撑层和保护层相接的相对两端，使得光栅层内形成多个与各吸光部交替排列的透光区；并且，支撑层和保护层均由透光材质制成。光线经过光学复合模组的光栅层时，大角度的光线会被各吸光部遮挡，只有小角度的光线才能通过各透光区射出光栅层，即光栅层会屏蔽大角度的光线而仅让小角度的光线射出，从而大大减小通过该光学复合模组入射至光学元件上的光线角度，进而减少杂光，提高成像质量。
光学复合模组及其显示装置

[发明专利]圆柱形体介质中的体布拉格光栅-CN202280020363.4在审
发明人： F·特里帕尼埃;S·布德鲁;A·迈洛克斯;G·布罗楚 -专利权人：特拉克森股份有限公司
申请日： 2022-03-08 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：提供了一种制造体布拉格光栅(VBG)的方法，该方法包括：提供由透明玻璃材料制成并且具有沿着纵向方向的中心轴线的圆柱形体介质；以及在该圆柱形体介质中刻写干涉图案。该干涉图案具有沿着平行于该中心轴线的线分布的多个光栅条纹元件。该方法还包括在所述刻写期间使该圆柱形体介质围绕该中心轴线旋转，从而方位角地延伸该光栅条纹元件。还提供了根据这种方法制造的VBG、这种VBG在包层泵浦光纤激光器的CPA系统中的用途。
圆柱形体介质中的布拉格光栅

[发明专利]一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构-CN202311056140.6在审
发明人：杨雨帆;陈振浩;李晓军 -专利权人：广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-08-21 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种双面图形结构的制备方法及双面图形结构。双面图形结构的制备方法包括：提供衬底；衬底包括相对设置的第一表面和第二表面；在衬底的第一表面形成第一图形结构；在第一图形结构背离衬底的一侧制备保护层；在衬底的第二表面形成第二图形结构；去除保护层，形成双面图形结构。采用上述方法，可避免第一表面制备好的第一图形结构受到污染，同时避免第一图形结构出现变形和破损等问题，保证第一图形结构和第二图形结构的制备效果，进而提升双面图形结构的成品效果。
一种双面图形结构制备方法

[发明专利]一种水凝胶超构光栅及单向荧光辐射调控方法-CN202310921032.4在审
发明人：李仲阳;代尘杰;万帅;时阳阳;李哲 -专利权人：武汉量子技术研究院;武汉大学苏州研究院;武汉大学
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种水凝胶超构光栅，包括基底和光栅层；所述基底为金属材料反射层；所述光栅层由水凝胶和水溶性量子点材料复合而成；利用泵浦光在所述水凝胶超构光栅结构的左侧照射激发量子点，产生以正向面内动量经过超构光栅的波导模式荧光，超构光栅将波导模式荧光单向辐射到设计的角度；通过改变环境湿度使水凝胶超构光栅发生形变，实现波导模式荧光单向辐射强度的调控；形变越大强度越低；通过光栅周期的加工设计实现对单向荧光辐射角度的调控；本发明通过在水凝胶薄膜表面加工出超构光栅结构，单向耦合出水凝胶结构中以波导模式传播的量子点荧光，利用水凝胶材料随环境湿度增加而膨胀的特性，实现湿度驱动的单向荧光辐射能量的主动调控。
一种凝胶光栅单向荧光辐射调控方法

[发明专利]纹理结构、盖板、移动终端以及盖板的制备方法-CN202210347758.7在审
发明人：祝奇玉;赵丽红;罗文海;段飞飞;张奥东 -专利权人：比亚迪股份有限公司
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本公开涉及一种纹理结构、盖板、移动终端以及盖板的制备方法，纹理结构包括基底和设置于所述基底的一侧的多组光栅，所述多组光栅在所述基底的表面上交叉设置，其中，每组所述光栅包括多个并排设置且同向延伸的光栅单元，所述光栅单元配置为具有倾斜于所述基底的光栅面。通过上述技术方案，将多组光栅交叉设置，使得多组纹理交叉的区域可以共用相交叉的光栅，从而使得整个纹理结构具有闭合融合的光影效果。并且，每组光栅的光栅单元均具有倾斜的光栅面，可以实现立体的起伏感，结合闭合的光影效果，整个纹理结构能够达到闭合沙丘的效果，从而具有良好的视觉效果。
纹理结构盖板移动终端以及制备方法

[发明专利]螺旋锥型波带片的构造方法及其制成的螺旋锥型波带片-CN202310948667.3在审
发明人：陈艳;刘硕;陈善俊;龚明阳;程书博 -专利权人：长江大学
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种螺旋锥型波带片的构造方法及其制成的波带片，其方法包括：根据螺旋锥受限于方位角与径向坐标的特征，设计螺旋锥位相函数；基于预设的二值化函数对所述螺旋锥位相函数进行二值化处理得到若干个透光带；基于预设的透过率函数对所述若干个透光带进行组合构建，得到完整的螺旋锥型波带片。本发明突破传统的环形的和多边形的波带片结构构造出一种在焦点区域产生螺旋型聚焦光束的波带片，可以在焦平面处产生多条螺旋状的光束以及类花瓣形光束，并能够运用到光学微操控之中，而且提出的产生螺旋型聚焦光束的波带片的构造方法利用函数二值化的方法来进行的且制作方法简单。
螺旋波带片构造方法及其制成

[发明专利]用于提供扩展视场的光学系统和方法-CN202180094878.4在审
发明人：奥列格·亚罗修克;巴里·大卫·西尔弗斯坦;朱塞佩·卡拉菲奥雷 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种设备，该设备包括波导。该设备还包括多个光栅组，该多个光栅组与波导耦接，并且被配置成在多个时间段期间将多个输入图像光耦入到波导中并将输入图像光从波导耦出作为多个输出图像光。多个输入图像光具有基本上相同的输入视场(“FOV”)，该输入视场具有基本上相同的对称轴线。多个输出图像光的组合输出FOV大于输入FOV。
用于提供扩展视场光学系统方法

[发明专利]一种光栅掩膜及光栅的制备方法-CN202311187802.3在审
发明人：郭欣月;董文浩;赵宇暄 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-09-15 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种光栅掩膜及光栅的制备方法，光栅掩膜的制备方法包括：根据曝光操作中曝光光场的能量分布确定基板不同区域的匀胶胶厚；基于确定的所述基板不同区域的匀胶胶厚，在基板上分次旋涂光刻胶，使得基板不同区域具有对应的所述匀胶胶厚，得到设置光刻胶掩膜的基板；将设置光刻胶掩膜的基板进行所述曝光操作，在基板上得到性质改变的光刻胶掩膜；对基板上性质改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在基板上得到光栅掩膜。通过本发明的光栅掩膜制备方法能够得到形貌一致的光栅掩膜。
一种光栅制备方法

[发明专利]螺旋调制槽位置光栅及其制造方法-CN202210320846.8在审
发明人：谢常青;赵越;胡华奎 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种螺旋调制槽位置光栅及其制造方法，该制造方法包括：提供一螺旋波带片和一调制槽位光栅；提取所述螺旋波带片的图像和所述调制槽位光栅的图像，所述螺旋波带片的图像和所述调制槽位光栅的图像尺寸相同；将所述螺旋波带片的图像和所述调制槽位光栅的图像进行逻辑异或操作，得到一螺旋槽位置光栅的图像；根据所述螺旋槽位置光栅的图像得到一螺旋槽位置光栅，所述螺旋槽位置光栅用于产生2个等强度的符号相反的拓扑荷涡旋光斑，抑制所产生的0级或高级衍射。
螺旋调制位置光栅及其制造方法

[发明专利]衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法-CN202111465867.0有效
发明人：王灵一;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供一种衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法，涉及衍射光学技术领域，包括提供一透明基底；在透明基底的一侧表面通过第一母版形成第一光栅结构层；在形成有第一光栅结构层的透明基底上通过第二母版形成第二光栅结构层，其中，第一母版上的第一预设衍射图案和第二母版上的第二预设衍射图案不同，第一光栅结构层和第二光栅结构层中的至少一层为一维光栅结构层。第一光栅结构层和第二光栅结构层各自产生的点阵结合，形成预设的阵列点阵。采用双层光栅结构层后，分解后的点阵具备点阵少、形状规则等特征，大大降低了衍射光学元件设计与加工难度，获得高性能光束分束，保持二维点阵有较好的分束均匀性。
衍射光学元件及其制备方法母版图案设计

[发明专利]体全息光栅的制备方法、体全息光栅和头戴式设备-CN202310891237.2在审
发明人：钟蕙伊;王耀宇 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请涉及一种体全息光栅的制备方法、光栅结构和头戴式设备。一种体全息光栅的制备方法，包括：提供基板，基板具有相背设置的第一表面和第二表面；在基板的第一表面上形成全息材料层；使入射光通过曝光调节元件而入射在全息材料层上，并使参考光入射在基板的第二表面上，以使入射光与参考光在全息材料层上进行干涉曝光，而在全息材料层上形成光栅结构；其中，曝光调节元件被配置为能够使从曝光调节元件沿第一方向的不同位置处出射的入射光的出射角度各不相同，而使所述光栅结构的光栅周期渐变。可有效提高成像亮度的均匀性，进而提高观影体验感。
全息光栅制备方法头戴式设备

[发明专利]二维量子点阵叉型交叉光栅、光学衍射器件及其制备方法-CN202310926697.4在审
发明人：郑君;李海亮;谢常青 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及先进光刻器件和微纳加工技术领域，尤其是涉及一种抑制高阶衍射的二维量子点阵叉型交叉光栅、光学衍射器件及其制备方法，将基础参数相同的两正弦叉型光栅通过逻辑异或运算生成二维正弦叉型交叉光栅；将二维正弦叉型交叉光栅划分成多个矩形格子，计算每个矩形格子的平均透射率并与MATLAB中随机函数生成的随机数进行比较，进而将其转化为具有正弦透过率的二维量子点阵叉型交叉光栅。本发明经理论计算和实验验证证实了该结构的衍射特性，其仅存在四个±1耦合涡旋光束反转对称分布在中心零级光的周围，与具有三维正弦透过率函数的正弦光栅效果一致，具有抑制二维高阶衍射的效果，该衍射特性使其在成像和粒子捕获方面具有广阔的应用前景。
二维量子点阵交叉光栅光学衍射器件及其制备方法

[发明专利]衍射光学元件、使用了该衍射光学元件的投影装置及计测装置-CN202080010401.9有效
发明人：米原健矢;村上亮太;田岛宏一;小野健介 -专利权人： AGC株式会社
申请日： 2020-01-16 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：实现遍及宽视场角地使衍射光的强度均匀化的光扩散技术。在将基本单元在第一方向上周期性地排列并使入射光向所述第一方向衍射的衍射光学元件中，设有以在所述第一方向上衍射的衍射光中的最外侧的衍射光与从外侧起的第二个衍射光之间的分离角小于所述入射光的发散角的方式设计的相位图案。
衍射光学元件使用投影装置

[发明专利]光学元件的制造方法及光学曝光系统-CN202310364643.3在审
发明人：邓清龙 -专利权人：宏达国际电子股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种光学元件的制造方法包含：以多个种类的光曝光感光高分子聚合物多个循环，其中每一循环包含分别对应于这些种类的光的多个曝光时序，且这些循环的曝光时序中的任意相邻两个分别对应于这些种类的光中的两种；以及定影经曝光的感光高分子聚合物以形成全像光学元件，全像光学元件具有分别由这些种类的光形成的多个全像光栅。如此，可有效避免这些全像光栅中的至少一个的制造良率不佳的问题，并可保证所有全像光栅的品质相对一致和均匀。
光学元件制造方法曝光系统

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