专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]外延片的制造方法及外延片-CN202080092094.3在审
  • 铃木克佳;铃木温 - 信越半导体株式会社
  • 2020-11-24 - 2022-08-19 - H01L21/205
  • 其为在由包含硅的IV族元素构成的晶圆上形成单晶硅层的外延片的制造方法,其包括:在含氢气氛下,去除所述由包含硅的IV族元素构成的晶圆表面的自然氧化膜的工序;在去除所述自然氧化膜之后,使所述晶圆氧化,从而形成原子层的工序;及在形成所述原子层之后,使单晶硅在所述晶圆表面进行外延生长的工序,并且在该制造方法中,将所述原子层的的平面浓度设为4×1014原子/cm原子层稳定且简便地导入至外延层,并具有优质单晶硅的外延层的外延片的制造方法。
  • 外延制造方法
  • [实用新型]一种节能型有机废气处理装置-CN201922119992.0有效
  • 陈钺 - 汕头市瑞洁环保科技有限公司
  • 2019-11-29 - 2020-07-24 - B01D53/44
  • 本实用新型公开了一种节能型有机废气处理装置,包括具有进气口和出气口的箱体、与箱体内腔室连通的处理单元;处理单元包括离子发生装置、加药装置、以及原子发生装置。原子发生装置位于箱体的外侧,且与箱体通过第一管道连接。原子发生装置为电催化原子发生器。加药装置包括位于内腔室的药池、以及与药池连接的用于雾化药液的超声波发生器。本实用新型采用加药装置、原子发生装置以及离子发生装置同时对含有挥发性有机物质的废气进行处理,相比于传统的UV处理设备在达到相同的处理效果时,耗能大大减少。
  • 一种节能型有机废气处理装置
  • [实用新型]通量推流增控藻装置-CN202321249960.2有效
  • 胡明明;韩曙光;宣磊;徐淳;潘正国 - 无锡德林海环保科技股份有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-09-12 - C02F7/00
  • 本实用新型涉及大通量推流增控藻装置,所述大通量推流增控藻装置包括第二推流桶、设置在所述第二推流桶内的第一推流桶以及设置在所述第一推流桶内的潜水搅拌机,所述第二推流桶、第一推流桶外侧连接有定位机构,所述第一推流桶远端一部分伸入所述第二推流桶内本实用新型的大通量推流增控藻装置,通过启动潜水搅拌机搅动水流产生旋向射流和轴向推流,水流高速旋转穿过第一推流桶进入第二推流桶中形成负压,驱使第二推流桶近端形成卷吸流吸入水流,使大通量推流增控藻装置的流量增大三倍,满足了水体增控藻的需求。
  • 通量推流增氧控藻装置
  • [发明专利]一种介孔氮掺杂碳负载过渡金属单原子材料及其制备方法和应用-CN202110850531.X在审
  • 顾栋;解明月 - 武汉大学
  • 2021-07-27 - 2021-11-05 - H01M4/90
  • 本发明公开了一种介孔氮掺杂碳负载过渡金属单原子材料及其制备方法和应用。该方法通过以过渡金属盐与有机小分子作为前驱体,以表面功能化介孔二氧化硅SBA‑15‑OH作为硬模板,高温热解得到负载在氮掺杂碳载体上的过渡金属单原子材料。利用有机小分子上的杂原子与金属原子相配位,以锚定金属单原子,抑制金属原子聚集,使得金属单原子分布更加均匀。本发明采用一步法得到负载型单原子材料,制备过程简单,重复性好,适用于各种过渡金属原子和有机小分子。本发明制备的铁单原子催化剂在电催化还原反应中,电流密度大,起始电位高,是一种高效的还原催化剂,可应用于电催化还原技术领域,具有较大的应用潜力。
  • 一种介孔氮掺杂负载过渡金属原子材料及其制备方法应用
  • [发明专利]光掩模坯、光掩模的制造方法和光掩模-CN202080039879.4在审
  • 松桥直树;笹本纮平 - 信越化学工业株式会社
  • 2020-04-20 - 2021-12-31 - G03F1/32
  • 光掩模坯(511)在基板上包括被加工膜(21);从与基板分离的一侧起,包括第1层(311)、第2层(312)和第3层(313),第1层(311)含有氧和氮,铬含有率为40原子%以下,含有率为50原子%以上,氮含有率为10原子%以下,厚度为6nm以下,第2层(312)含有氧、氮和碳,铬含有率为40原子%以下,含有率为30原子%以上,氮含有率为17原子%以上,碳含有率为13原子%以下,厚度为46nm以上,第3层(313)含有氧和氮,铬含有率为50原子%以上,含有率为20原子%以下,氮含有率为30原子%以上。
  • 光掩模坯光掩模制造方法

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