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[发明专利]空间原子氧与紫外辐照综合作用仿真过程的实时表征方法-CN202210770278.1在审
发明人：李兴冀;吕钢;杨剑群;韩煜 -专利权人：哈尔滨工业大学
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G06F30/15 文献下载
摘要：本发明提供了一种空间原子氧与紫外辐照综合作用仿真过程的实时表征方法，属于航空航天技术领域。本发明对在轨运行的空间飞行器在空间原子氧和紫外辐射的综合环境中进行仿真表征以研究紫外与原子氧效应时，对飞行器以四元数方式进行运行姿态的表征，并根据空间飞行器的运行姿态和太阳紫外辐射入射方向共同确定飞行器的受紫外电磁辐射的作用表面，对飞行器的空间位置和运行速度进行表征，并结合飞行器的运行姿态以及根据原子氧计算模型得到的空间原子氧环境，共同确定飞行器与原子氧的相互作用。本发明综合考虑了空间飞行器的迎风面和受晒面，能够较为真实的考虑空间飞行器在轨运行期间受晒和迎原子氧的空间环境实时量化表征。
空间原子紫外辐照综合作用仿真过程实时表征方法

[发明专利]压印用光固化性树脂组合物、压印用光固化性树脂组合物的制造方法、及图案形成体的制造方法-CN202080024513.X在审
发明人：小田博和;那须慎太郎;金子雅一 -专利权人：大日本印刷株式会社
申请日： 2020-03-24 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： C08F299/08 文献下载
摘要：本发明提供一种压印用光固化性树脂组合物，其包含分子中具有硅氧烷键且具有至少一个聚合性官能团的聚合性化合物、及光聚合引发剂，上述聚合性化合物所包含的与硅原子键合的氧原子中，与单个硅原子键合的氧原子的比率为
压印用光固化树脂组合制造方法图案形成

[实用新型]活氧发生装置及活氧杀菌清洁设备-CN201921640221.X有效
发明人：胡君敏;戴琪 -专利权人：深圳安吉尔饮水产业集团有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： A61L2/18 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种活氧发生装置及活氧杀菌清洁设备，活氧发生装置包括用于电解产生臭氧的多个活氧发生模块和并联连接多个活氧发生模块的接头组件，各活氧发生模块包括设有空腔的壳体和设置于空腔内的电解组件，各壳体上设有与相应空腔相连通的进水口和出水口则可通过多个活氧发生模块的电解组件同时电解产生臭氧，提高活氧发生装置制备活氧的效率，使氧发生装置满足不同进水通量情况下的活氧水制备，较好地适应大通量进水通量情况下制备活氧水，无需多次重复电解就能达到良好的杀菌清洁效果
发生装置杀菌清洁设备

[发明专利]光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模-CN201910460886.0在审
发明人：稻月判臣;笹本纮平 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：具体提供一种光掩模坯料，其在基板上包括加工膜和由含铬材料制成的膜，所述由含铬材料制成的膜形成为与加工膜接触并具有第一、第二和第三层的三层结构，所述第一、第二和第三层的每个层都含铬、氧和氮，其中第一层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下，厚度为20nm以上，第二层的铬含量为50原子％以上，氧含量为20原子％以下，氮含量为30原子％以上，第三层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下。
第三层光掩模坯料含铬材料光掩模三层结构第一层膜接触膜形成含铬基板加工制造

[发明专利]基于石墨烯的空间原子氧注量探测方法-CN202010004350.0有效
发明人：杨晓宁;刘宇明;李蔓;田东波;王志浩;沈自才;姜海富 -专利权人：北京卫星环境工程研究所
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： G01N27/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种基于石墨烯的空间原子氧注量探测方法，将石墨烯膜附着在聚酰亚胺背面，在石墨烯膜的两端设置电极；将所述聚酰亚胺基底暴露在原子氧环境中，当所述聚酰亚胺基底被完全剥蚀后，石墨烯也会马上被剥蚀掉，位于所述石墨烯膜上的电路断路；因为石墨烯膜与原子氧的反应时间极短，因此测算所述石墨烯膜上的电路断路所需的时长，即可得到所述聚酰亚胺基底被完全剥蚀的时间t；原子氧在t时间内的注量Ф＝d/k，聚酰亚胺基底的原子氧剥蚀率k和聚酰亚胺基底的厚度d已知，聚酰亚胺基底厚可以根据探测需要进行灵活设置，使得该探测方法适于不同寿命航天器原子氧探测任务的需求。
基于石墨空间原子氧注量探测方法

[实用新型]一种测量空间原子氧环境模拟试验中VUV的系统-CN200720304975.9无效
发明人：李涛;郑慧奇;姜利祥;刘向鹏;冯伟泉;郭亮 -专利权人：北京卫星环境工程研究所
申请日： 2007-12-04 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： G01N21/73 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种空间原子氧环境模拟试验中伴随VUV的测量系统，其包括原子氧源，真空容器，氟化镁片，碲化铯探测器，碲化铯探测器信号采集装置；真空容器上端具有一开口，开口正上方设置原子氧源，真空容器中部设置有碲化铯探测器，氟化镁片设置在碲化铯探测器与原子氧源之间的位置上以对原子氧、杂散光及污染物进行屏蔽，碲化铯探测器与真空容器外的碲化铯探测器信号采集装置进行电连接。本系统使用氟化镁片对原子氧、杂散光及污染物进行屏蔽，减小它们对VUV测量结果的影响。同时减小了测量过程中的环境因素对碲化铯探测器的损伤，增强测量的重复性、减小多次测量的测量误差。
一种测量空间原子环境模拟试验 vuv 系统

[发明专利]光学透明材料及其制备方法、聚合物薄膜及其制作方法-CN201910821258.0有效
发明人：赵远 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： C08G77/398 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学透明材料，其为改性的多面体低聚物倍半硅氧烷，具有硅原子和锗原子；所述硅原子连接有正烷基链，所述锗原子连接有环氧环戊烷基团或者含有不同碳原子数的二苯基芴并环氧环戊烷基团。本发明提供一种光学透明材料、聚合物薄膜，含有硅和锗两种原子，并用环氧环戊烷基团或者含有不同碳原子数的二苯基芴并环氧环戊烷基团对其侧链进行修饰，得到了不同分子量和分散度的低聚物，以同时满足玻璃状耐磨性和塑料状柔韧性的要求
光学透明材料及其制备方法聚合物薄膜制作方法

[发明专利]一种利用环己烯氧化制备环氧环己烷的方法-CN202111609116.1在审
发明人：王志远;刘仲毅;彭智昆;杨永鹏;李俊 -专利权人：郑州大学
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C07D301/06 文献下载
摘要：本申请属于化工合成技术领域，具体涉及一种环氧环己烷制备方法。该方法以非均相单原子催化剂为催化剂，以环己烯为制备原料，以分子氧为氧来源，所述单原子催化剂为：铁单原子催化剂Fe‑SAs、钴单原子催化剂Co‑SAs、镍单原子催化剂Ni‑SAs、铜单原子催化剂Cu‑SAs本申请采用廉价的非均相过渡金属单原子催化剂作为合成中的催化剂，该催化剂既具有均相催化剂高效的催化活性和产物选择性，又克服了现有分子氧合成技术中高昂的均相催化剂无法分离循环使用的缺点，从而有利于降低生产成本；由于单原子催化剂制备成本低廉，且可重复回收利用，因此，使得本申请的环氧环己烷制备方法具有较好的规模化、产业化前景。
一种利用己烯氧化制备环己烷方法

[发明专利]层叠膜及其制造方法-CN201710197298.3有效
发明人：伊藤丰 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2017-03-29 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：该层叠膜是在树脂基材上至少层叠有气体阻隔层和无机聚合物层的层叠膜，关于上述无机聚合物层的膜厚方向的从该层的表面起的距离与相对于硅原子、氧原子、碳原子和氮原子的合计量的氧原子的比率(氧原子比)，从与上述气体阻隔层相反的一侧的表面起到沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值与从沿深度方向为无机聚合物层的膜厚的30％起到上述气体阻隔层侧的表面为止的区域中的氧原子比O/(Si、O、C和N的合计量)的值之比为1.05
层叠及其制造方法

[发明专利]一种空间用防静电复合原子氧防护涂层-CN202211241788.6在审
发明人：李毅;李中华;何延春;王志民;王艺;徐嶺茂;赵琳;王虎;熊玉清;王洁冰;李林;汪科良;鲜昌卫 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2022-10-11 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种空间用防静电复合原子氧防护涂层，是一种既能提升原子氧防护性能，又提供了一种能够适应低轨道空间环境的防静电薄膜，能够满足低轨、超低轨、长寿命卫星防静电原子氧防护性能需求。包括在有机基底材料上由下至上设置的硅氧烷防护涂层、氧化铝涂层、SiOx原子氧防护涂层和氧化铟锡防静电涂层。硅氧烷防护涂层利用等离子体增强化学气相沉积技术制备，厚度为50～600nm。氧化铝涂层利用等离子体增强原子层沉积技术制备，厚度为1～200nm。SiOx原子氧防护涂层利用等离子体增强化学气相沉积技术制备，厚度为100～300nm。氧化铟锡防静电涂层利用RF磁控溅射法制备。
一种空间静电复合原子防护涂层

[发明专利]一种抗原子氧剥蚀用组合物及其制备方法、应用-CN202010634906.4有效
发明人：张晓静;沈志刚;刘磊 -专利权人：北京航空航天大学
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： C09D163/00 文献下载
摘要：本发明属于复合材料技术领域，具体的，涉及一种抗原子氧剥蚀用组合物及其制备方法、应用。本发明提供了一种抗原子氧剥蚀组合物，按重量份计，包括树脂10‑60份、氮化硼纳米片1‑80份、溶剂1‑80份，助剂0.1‑20份。所述抗原子氧剥蚀组合物对基材层起到很好的保护作用，能够有效抵抗原子氧的剥蚀；而且密度低，质量轻，在航空航天领域具有广泛的应用前景。
一种抗原剥蚀组合及其制备方法应用

[发明专利]层叠体-CN201380026125.5有效
发明人：福本晴彦;小田川健二;臼井英夫;高桥英一;高木斗志彦;高野雅子;中村修;进藤清孝 -专利权人：三井化学株式会社;三井化学东赛璐株式会社
申请日： 2013-07-03 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。
层叠

[发明专利]一种光敏石英管的处理工艺-CN201610189555.4有效
发明人：段玉伟;段其九;韩凯;蔡征海 -专利权人：江苏圣达石英制品有限公司
申请日： 2016-03-30 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C03B32/00 文献下载
摘要：包括装盘、升温、冷却、热处理和退火五个步骤；本发明针对现有技术中石英管在后续加工过程中羟基回升量过大，且氧原子释放时会氧化电极并造成石英管析晶失透，光通量降低而缩短产品使用寿命的不足，提供了一种可以有效降低石英管中的羟基含量和回升量
一种光敏石英管处理工艺

[发明专利]可固化的硅酮组合物-CN202310196161.1在审
发明人：竹内绚哉;小林昭彦 -专利权人：杜邦东丽特殊材料株式会社
申请日： 2023-03-02 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C08L83/07 文献下载
摘要：[解决方案]本发明的可固化的硅酮组合物含有特定量的(A)每分子具有至少两个与硅原子结合的烯基和≥0mol％且5mol％的芳基的直链有机聚硅氧烷，(B)在分子中具有至少两个与硅原子结合的烯基的有机聚硅氧烷树脂，(C)具有每分子有至少两个与硅原子结合的氢原子的网络分子结构的有机氢聚硅氧烷树脂，(D)具有每分子有至少两个与硅原子结合的、仅在分子末端的氢原子的网络分子结构的有机氢聚硅氧烷树脂，以及(E)氢化硅烷化反应催化剂，并且在该组合物的有机聚硅氧烷中，(硅原子结合的氢原子的总mol)/(硅原子结合的烯基的总mol)＝1‑3。
固化硅酮组合

[发明专利]用于沉积含硅膜的有机氨基聚硅氧烷-CN202211350727.3在审
发明人：雷新建;萧满超;M·R·麦克唐纳;D·P·思朋斯;王美良;S·K·拉贾拉曼 -专利权人：弗萨姆材料美国有限责任公司
申请日： 2018-02-06 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：公开了具有至少三个硅原子、氧原子以及有机氨基的有机氨基聚硅氧烷，以及制备所述有机氨基聚硅氧烷的方法。还公开了使用所述有机氨基聚硅氧烷沉积含硅和氧的膜的方法。
用于沉积含硅膜有机氨基聚硅氧烷

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