专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]集成端面耦合器的硅基片上光源-CN202210928896.4在审
  • 杨正霞;周旭亮;杨文宇;王梦琦;潘教青 - 中国科学院半导体研究所
  • 2022-08-03 - 2022-11-04 - H01S5/0225
  • 本发明公开了一种集成端面耦合器的硅基片上光源,包括波导硅基激光器和端面耦合器。其中,波导硅基激光器包括:衬底,衬底通过矩形槽形成位于衬底中段的梁,和位于衬底两端的第一平面和第二平面,第一平面设有连通沟槽;波导微米线,波导微米线设置在连通沟槽内,波导微米线设置有波导层;介质填充层,覆盖波导微米线;端面耦合器包括:硅波导,设置于第二平面和梁上,与波导微米线对应设置;介质波导,覆盖于梁上,介质波导与波导微米线相接触;电极,包括上电极和下电极,上电极设置于介质填充层上,并与波导微米线接触,下电极与衬底接触。
  • 集成端面耦合器硅基片上光源
  • [发明专利]一种混合波导集成石墨烯中红外电光调制器-CN202210792816.7在审
  • 林宏焘;钟础宇;魏茂良;马辉;巨泽朝 - 浙江大学
  • 2022-07-05 - 2023-01-13 - G02F1/01
  • 包括蓝宝石衬底;硅波导传输层形成在蓝宝石衬底之上;第一石墨烯层位于硅波导传输层的一侧上;第一石墨烯层控制电极布置连接在第一石墨烯层之上;介质层形成在硅波导传输层上,包覆第一石墨烯层;第二石墨烯层位于介质层的一侧上;第二石墨烯层控制电极布置在第二石墨烯层上;包括条形波导形成在第二石墨烯层上;盖层形成在介质层上,包覆第二石墨烯层和条形波导。本发明支持3‑5μm波段的信号光进行低损传输和调制,本发明使用硅平板层与条形波导构成混合波导结构,石墨烯层可集成在TE0模式的场强极大值处,降低了光功耗。
  • 一种混合波导集成石墨红外电光调制器
  • [发明专利]电泵激光器及其制备方法-CN202110922192.1有效
  • 杨正霞;周旭亮;王梦琦;杨文宇;潘教青 - 中国科学院半导体研究所
  • 2021-08-11 - 2023-10-13 - H01S5/22
  • 本发明提供了一种电泵激光器,包括:下金属电极、图形化衬底、波导III‑V族亚微米结构、钝化层、苯并环丁烯层和上金属电极;下金属电极,位于图形化衬底的上表面或下表面;图形化衬底,包括图形化硅层和图形化二氧化硅层,图形化衬底上面设置至少一个连通沟槽,连通沟槽包括矩形沟槽和V沟槽;波导III‑V族亚微米结构,设置在连通沟槽内和连通沟槽上;钝化层,设置在连通沟槽上的波导III‑V族亚微米结构的两侧和图形化衬底的上表面;苯并环丁烯层,设置在钝化层的一侧;其中,苯并环丁烯层的顶端、钝化层的顶端和波导III‑V族亚微米结构的顶端等高;上金属电极,设置在波导III‑V族亚微米结构上。
  • 激光器及其制备方法
  • [实用新型]一种纵梁-CN200820230730.0无效
  • 于江龙 - 于江龙
  • 2008-12-10 - 2009-09-30 - B62D21/04
  • 一种纵梁,其包括上部竖立的梁和下部水平方向的托板,梁与托板构成T结构。本实用新型的纵梁,采用梁与托板构成T结构,相比目前的工字型结构,制造工艺简化,而强度性能更加优良,用料更省,重量减轻,降低了机车的牵引负担,节省能源。
  • 一种
  • [发明专利]SOI亚微米光波导锥耦合器免刻蚀氧化制作方法-CN200910242349.5无效
  • 陈少武;程勇鹏;任光辉;樊中朝 - 中国科学院半导体研究所
  • 2009-12-09 - 2010-05-19 - G02B6/13
  • 一种SOI亚微米光波导锥耦合器免刻蚀氧化制作方法,包括:在SOI的顶层硅上氧化一层二氧化硅层;通过光刻工艺,在二氧化硅层上面形成掩膜图形,该掩膜图形的一端为矩形,另一端为锥形通过刻蚀工艺,将没有掩膜图形保护的二氧化硅层刻蚀,刻蚀后形成被掩膜图形保护的二氧化硅的矩形区域和锥形区域;去掉SOI的顶层硅上遗留下的掩膜图形,形成样品;对上述的样品进行氧化,将被刻蚀过的二氧化硅层下面的SOI的顶层硅,氧化到预定高度,从而形成波导的平板区;被二氧化硅层的矩形区域保护的SOI的顶层硅,形成波导的内区;而被二氧化硅层的锥形区域保护的SOI的顶层硅,形成和内区自然过渡连接的条形波导锥结构,完成波导和锥耦合器的自然集成。
  • soi微米脊型光波导耦合器刻蚀氧化制作方法
  • [发明专利]一种玻璃精密模压成型模具及方法-CN202211234627.4在审
  • 黄国雅;吴梦;邱超;隋俊毅 - 湖北新华光信息材料有限公司
  • 2022-10-10 - 2023-06-27 - C03B23/03
  • 本发明的名称为一种玻璃精密模压成型模具及方法。属于光学玻璃二次成型技术领域。它主要是解决目前精密模压生产非球面及衍射面光学元件需因预体存在球面曲率半径不合适而导致模压出现闭气风险的问题。它的主要特征是:在上模仁及下模仁上设有排气槽,排气槽位于待加工非球面或衍射面光学元件光学有效径以外;将双平面预体放入上模仁和下模仁中,装配后放入非球面模压设备中;对模具加热至材料软化温度,施加压力,双平面预体形变至所需的非球面或衍射面光学元件。本发明具有减少预体球面加工、可避免模压生产中闭气风险和节省制造成本的特点,主要用于各类非球面及衍射面光学元件的批量生产。
  • 一种玻璃精密模压成型模具方法
  • [发明专利]一种玻璃精密模压预体模压前处理方法-CN202111011852.7在审
  • 黄国雅;吴梦;邱超;韦献慧 - 湖北新华光信息材料有限公司
  • 2021-08-31 - 2021-12-07 - C03C17/00
  • 本发明的名称为一种玻璃精密模压预体模压前处理方法。属于光学玻璃精密模压技术领域。它主要是解决玻璃因高温成型过程中组成元素易挥发和与模具发生界面反应而导致最终产品出现雾化和黏模不良的问题。它的主要特征是:在玻璃精密模压预体模压前,先在玻璃精密模压预体表面通过物理镀膜形成保护层。本发明具有可阻止玻璃精密模压预体在高温成型过程中元素挥发和与模具或者空气发生界面反应形成白雾或黏模不良、提高精密模压的良率和降低模压制造成本的特点,提高产品的外观质量,主要用于玻璃精密模压预体模压前的处理
  • 一种玻璃精密模压预型体处理方法

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