|
钻瓜专利网为您找到相关结果 33028293个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]转运晶圆用的晶圆盒-CN202120450328.9有效
-
陈正茂;王健;孙铎;魏忠亮;卢红平;魏冬
-
青岛泰睿思微电子有限公司
-
2021-03-02
-
2021-10-15
-
H01L21/673
- 本实用新型涉及一种转运晶圆用的晶圆盒,包括:盒体,具有前侧开口和后侧开口,盒体的相对两侧形成有供卡入晶圆的复数个卡槽,盒体的内侧设有定位槽;设于盒体内并靠近后侧开口处的限位杆,限位杆可对晶圆进行限位以防止晶圆自后侧开口处滑出;可转动的安装于盒体的前侧开口处的挡杆,挡杆可转动至位于盒体的外侧以便于自前侧开口处取放晶圆,挡杆还可转动至位于盒体的内侧并卡入对应的定位槽内以对晶圆进行限位从而防止晶圆自前侧开口处滑出。本实用新型利用限位杆和挡杆实现晶圆的前后两侧的限位,能够阻挡晶圆而避免晶圆发生滑出掉落的现象,杜绝了晶圆因拿取或运输过程中掉落造成碎片的风险。
- 转运晶圆用晶圆盒
- [实用新型]一种晶圆吸附辅助构件及晶圆吸附装置-CN202223407072.7有效
-
刘普然;任瑞
-
绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
-
2022-12-20
-
2023-06-16
-
H01L21/683
- 本实用新型涉及一种晶圆吸附辅助构件及晶圆吸附装置,晶圆吸附辅助构件包括盘体以及能够驱动盘体移动的驱动机构,盘体的内部设有互相连通的气路通道,盘体的其中一面上开设进气孔,进气孔外接气源,盘体的另一相对面上沿盘体边缘的周向开设出气孔,进气孔与出气孔通过气路通道相连通,出气孔的出气方向相对于晶圆表面倾斜。本实用新型在卡盘上方设置具有吹气功能的晶圆吸附辅助构件,当晶圆因形变导致与卡盘吸附性变差时,驱动系统驱动晶圆吸附辅助构件移动至距离晶圆较近的位置,且令两者不接触,开启气源由晶圆吸附辅助构件向晶圆的翘曲部位进行吹气,以改善晶圆吸附处的真空值,提高晶圆的吸附牢固度,降低机台因真空值异常告警停机的频次。
- 一种吸附辅助构件装置
- [实用新型]半导体晶圆转运存储装置-CN202221477962.2有效
-
沙伟中
-
苏州艾斯达克智能科技有限公司
-
2022-06-14
-
2022-11-15
-
B65D25/02
- 本实用新型提供的一种半导体晶圆转运存储装置,其有益效果在于,本实用新型包括存储架体以及一转运装置,所述存储架体用于存放若干个晶圆盒。所述晶圆盒上均设置有RFID电子标签,在该电子标签中存储有晶圆盒内存放的晶圆片的数据信息。在所述存储架体上则设置有能够RFID电子标签读取装置,并能够在存储架体上的显示屏上显示数据信息。这样一来,可以将存放在仓储中的晶圆盒放置在存储架体上进行中转存储,使用人员能够通过设置在存储架体上的屏幕读取各个晶圆盒中存储数据信息。进一步,当使用设备需要相应晶圆盒中的晶圆片时,使用人员再根据架体上的屏幕上显示的数据信息将存储架体上对应的晶圆盒搬运至转运装置上。使用人员不用多次从仓储中将晶圆盒搬运,提升了晶圆转运过程的安全性。
- 半导体转运存储装置
- [发明专利]晶边刻蚀设备-CN202310118886.9在审
-
伊藤正雄;林源为
-
北京北方华创微电子装备有限公司
-
2023-02-03
-
2023-04-11
-
H01L21/67
- 本发明提供一种晶边刻蚀设备,腔体内部包括晶圆承载区域和位于晶圆承载区域一侧的晶边刻蚀区域;等离子体产生装置设置于腔体的对应晶边刻蚀区域的外部,用于激发晶边刻蚀区域中的工艺气体形成等离子体;卡盘设置于晶圆承载区域中,且卡盘能够旋转,并能够水平移动,以使不同尺寸的晶圆的局部边缘部分均能够伸入晶边刻蚀区域中,并阻挡晶边刻蚀区域中的等离子体进入晶圆承载区域中,并转动;遮挡盘位于晶圆承载区域中,且相对设置于卡盘上方。本发明提供的晶边刻蚀设备,可以兼容不同尺寸的晶圆,从而可以扩大兼容范围,降低生产成本。
- 刻蚀设备
|