专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]圆载具及氮化硅介质膜的制备方法-CN202210771732.5有效
  • 史仁先;王国峰 - 北海惠科半导体科技有限公司
  • 2022-06-30 - 2023-07-07 - C23C16/458
  • 本申请涉及一圆载具及氮化硅介质膜的制备方法,用于使圆在圆载具上生长氮化硅介质膜,圆载具包括:底座,底座内设置有间隔分布的多个容置槽,容置槽用于承载圆;以及盖,盖盖合于底座,盖和底座盖合后形成用于容纳圆的腔体,盖上开设有与多个容置槽分别对应的多个进气槽,腔体内通过进气槽通入硅烷和氨气的混合气体,进气槽沿其对应圆的周向方向延伸。本申请提供的圆载具,在圆上生长氮化硅介质膜的时候,设置了可以盖合的底座和盖,在底座和盖之间的腔体放置圆,使得圆载具较为密闭,颗粒度容易控制,另外,由于进气槽沿其对应圆的周向方向延伸,提升了均匀性
  • 晶圆载具氮化介质制备方法
  • [实用新型]MOCVD设备用石墨盘-CN201720307206.8有效
  • 江汉;寻飞林;蓝永凌;林兓兓;蔡吉明;张家宏 - 安徽三安光电有限公司
  • 2017-03-28 - 2017-10-17 - C23C16/458
  • 本实用新型属于半导体技术领域,具体涉及一MOCVD设备用石墨盘,其包括一盘,其特征在于:所述盘上表面设置有环形档板,所述环形档板的外环直径大于或者等于所述盘的直径,所述档板的高度由内侧至外侧逐渐升高,所述盘和/或所述档板上表面设置有若干个放置圆衬底用的圆凹槽。本实用新型通过在盘上表面设置一环形档板来阻挡在圆过程中,盘边缘圆凹槽处气流被抽走过快的现象,进而来改善边缘圆凹槽处圆的长速率。档板的上表面设置成倾斜面,并将环形档板的内侧壁延伸至圆凹槽处,一方面是改善各圈圆的长速率,另一方面也可以防止圆凹槽内圆的飞片现象。
  • 一种mocvd备用石墨
  • [实用新型]转运圆用的圆盒-CN202120450328.9有效
  • 陈正茂;王健;孙铎;魏忠亮;卢红平;魏冬 - 青岛泰睿思微电子有限公司
  • 2021-03-02 - 2021-10-15 - H01L21/673
  • 本实用新型涉及一转运圆用的圆盒,包括:盒,具有前侧开口和后侧开口,盒的相对两侧形成有供卡入圆的复数个卡槽,盒的内侧设有定位槽;设于盒体内并靠近后侧开口处的限位杆,限位杆可对圆进行限位以防止圆自后侧开口处滑出;可转动的安装于盒的前侧开口处的挡杆,挡杆可转动至位于盒的外侧以便于自前侧开口处取放圆,挡杆还可转动至位于盒的内侧并卡入对应的定位槽内以对圆进行限位从而防止圆自前侧开口处滑出。本实用新型利用限位杆和挡杆实现圆的前后两侧的限位,能够阻挡圆而避免圆发生滑出掉落的现象,杜绝了圆因拿取或运输过程中掉落造成碎片的风险。
  • 转运晶圆用晶圆盒
  • [实用新型]圆吸附辅助构件及圆吸附装置-CN202223407072.7有效
  • 刘普然;任瑞 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2022-12-20 - 2023-06-16 - H01L21/683
  • 本实用新型涉及一圆吸附辅助构件及圆吸附装置,圆吸附辅助构件包括盘以及能够驱动盘移动的驱动机构,盘的内部设有互相连通的气路通道,盘的其中一面上开设进气孔,进气孔外接气源,盘的另一相对面上沿盘边缘的周向开设出气孔,进气孔与出气孔通过气路通道相连通,出气孔的出气方向相对于圆表面倾斜。本实用新型在卡盘上方设置具有吹气功能的圆吸附辅助构件,当圆因形变导致与卡盘吸附性变差时,驱动系统驱动圆吸附辅助构件移动至距离圆较近的位置,且令两者不接触,开启气源由圆吸附辅助构件向圆的翘曲部位进行吹气,以改善圆吸附处的真空值,提高圆的吸附牢固度,降低机台因真空值异常告警停机的频次。
  • 一种吸附辅助构件装置
  • [实用新型]半导体圆转运存储装置-CN202221477962.2有效
  • 沙伟中 - 苏州艾斯达克智能科技有限公司
  • 2022-06-14 - 2022-11-15 - B65D25/02
  • 本实用新型提供的一半导体圆转运存储装置,其有益效果在于,本实用新型包括存储架以及一转运装置,所述存储架体用于存放若干个圆盒。所述圆盒上均设置有RFID电子标签,在该电子标签中存储有圆盒内存放的圆片的数据信息。在所述存储架上则设置有能够RFID电子标签读取装置,并能够在存储架上的显示屏上显示数据信息。这样一来,可以将存放在仓储中的圆盒放置在存储架上进行中转存储,使用人员能够通过设置在存储架上的屏幕读取各个圆盒中存储数据信息。进一步,当使用设备需要相应圆盒中的圆片时,使用人员再根据架上的屏幕上显示的数据信息将存储架上对应的圆盒搬运至转运装置上。使用人员不用多次从仓储中将圆盒搬运,提升了圆转运过程的安全性。
  • 半导体转运存储装置
  • [发明专利]等离子处理圆用载具及圆处理设备-CN202011376800.5在审
  • 孙虎 - 上海诺硕电子科技有限公司
  • 2020-11-30 - 2021-03-09 - H01J37/32
  • 本发明提供了一等离子处理圆用载具,所述载具包括托盘和边缘环,所述托盘放置圆,所述边缘环绕所述托盘周向设置,所述边缘环设有用于排出副产物的排出结构,所述排出结构贯穿所述缘环。本发明通过在所述边缘环设置所述排出结构,能将等离子处理所述圆时产生的副产物实时排出所述载具,避免副产物在所述圆附近附着堆积而触碰到所述圆而对所述圆的边缘造成污染,防止干扰等离子与所述圆的处理反应,有助于提高所述圆的生产质量。本发明还提供了一圆处理设备,设置有所述的等离子处理圆用载具。
  • 等离子体处理晶圆用载具设备
  • [发明专利]边刻蚀设备-CN202310118886.9在审
  • 伊藤正雄;林源为 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2023-02-03 - 2023-04-11 - H01L21/67
  • 本发明提供一边刻蚀设备,腔体内部包括圆承载区域和位于圆承载区域一侧的边刻蚀区域;等离子产生装置设置于腔体的对应边刻蚀区域的外部,用于激发边刻蚀区域中的工艺气体形成等离子;卡盘设置于圆承载区域中,且卡盘能够旋转,并能够水平移动,以使不同尺寸的圆的局部边缘部分均能够伸入边刻蚀区域中,并阻挡边刻蚀区域中的等离子进入圆承载区域中,并转动;遮挡盘位于圆承载区域中,且相对设置于卡盘上方。本发明提供的边刻蚀设备,可以兼容不同尺寸的圆,从而可以扩大兼容范围,降低生产成本。
  • 刻蚀设备
  • [实用新型]压花质玻璃-CN97224053.5无效
  • 邵新龙 - 邵新龙
  • 1997-08-15 - 1999-04-28 - C03C25/00
  • 本实用新型属装饰玻璃制造技术领域,特别是涉及一压花质玻璃。包括质玻璃板,其特征在于质玻璃板的单面或双面之局部或全部压、铸有深浅不同的图形,所述的图形包括字符图形,所述的质玻璃板包括无色透明和彩色质玻璃板。由于质玻璃的对光反射和折射性能很好,故压、铸的图形更具装饰作用。
  • 一种压花玻璃
  • [发明专利]圆表面的聚酰亚胺前驱的旋涂方法和系统-CN202010729351.1有效
  • 吕其尧 - 上海先进半导体制造有限公司
  • 2020-07-27 - 2022-10-14 - B05D1/02
  • 本发明公开了一圆表面的聚酰亚胺前驱的旋涂方法和系统。所述旋涂方法包括以下步骤:控制喷头静止在圆中心并喷涂所述聚酰亚胺前驱;控制所述喷头从所述圆中心向所述圆的边缘移动并喷涂所述聚酰亚胺前驱,所述喷头移动的同时控制所述圆旋转,其中,所述喷头喷涂持续的时长小于等于所述圆旋转的时长;控制所述圆继续旋转。本发明通过控制喷头一边喷涂一边移动的同时控制圆旋转,使得喷涂的聚酰亚胺前驱圆上沿径向有更大范围的分布,有利于聚酰亚胺前驱的均匀涂布,从而减少了单片晶圆需要的液量,降低了原料成本,减少了有机废液的排放量
  • 表面聚酰亚胺前驱方法系统

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