[发明专利]一种图形衬底及其制作方法在审
| 申请号： | 202210944789.0 | 申请日： | 2022-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN115241341A | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 霍曜;李彬彬;李瑞评 | 申请（专利权）人： | 福建晶安光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/22;H01L33/10;H01L33/12;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 高园园 |
| 地址： | 362411 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种图形衬底及其制作方法，图形衬底包括衬底以及周期性排布在衬底上方的若干图形结构，图形结构包括侧壁结构，以及侧壁结构围成的空心结构；且侧壁结构的底部由单晶结构的材料制成，顶部由非晶结构的材料制成。中空结构的图形结构能够有效降低图形衬底的折射率，使图形衬底的折射率接近为1，增强全反射效果，提高光提取效率；在外延磊晶过程中，中空结构的图形结构能够适当形变从而缓冲应力，得到低应力的衬底，增强内量子效率。由于图形结构底部的晶格结构与衬底的晶格结构相同，因此能够适当缓冲图形结构与衬底之间的晶格失配，同时不改变外延磊晶的生长方向，降低穿透型位错密度，得到高结晶质量的衬底，增强内量子效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 衬底 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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