[发明专利]双重图形曝光掩模制造方法及双重图形曝光方法

摘要

一种双重图形曝光掩模制造方法及一种双重图形曝光方法，其中双重图形曝光掩模制造方法包括：提供目标图形，所述目标图形包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括至少两个分立的第一子图形，相邻的第一子图形之间具有相同的第一间隙，所述第一图形的第一子图形的特征尺寸小于第二图形的特征尺寸；根据所述第一图形形成第三图形，所述第三图形包括与第一子图形对应的分立的第二子图形；提取第三图形中的偶数位的第二子图形，并保持偶数位的第二子图形位置不变，形成第四图形；将第二图形写入第一掩模版；将第四图形写入第二掩模版。本发明提供的双重图形曝光掩模制造方法简单且分解精度高。

主权项

一种双重图形曝光掩模制造方法，其特征在于，包括：提供目标图形，所述目标图形包括第一图形和第二图形，所述第一图形包括至少两个分立的第一子图形，相邻的第一子图形之间具有相同的第一间隙，所述第一图形的第一子图形的特征尺寸小于第二图形的特征尺寸；根据所述第一图形形成第三图形，所述第三图形包括与第一子图形对应的分立的第二子图形，所述第二子图形位置与第一间隙位置对应，相邻的第二子图形之间具有第二间隙，所述第二间隙位置与第一子图形位置对应，所述第二子图形的尺寸等于第一间隙的尺寸，所述第二间隙的尺寸等于第一子图形的尺寸；提取第三图形中的偶数位的第二子图形，并保持偶数位的第二子图形位置不变，形成第四图形；将第二图形写入第一掩模版；将第四图形写入第二掩模版。