[发明专利]半导体装置以及制造半导体装置的方法在审
申请号: | 202210612937.9 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN115000006A | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 都桢湖;李昇映;郑钟勋;林辰永;梁箕容;白尚训;宋泰中 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L21/8238 |
代理公司: | 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 | 代理人: | 李洁;魏文浩 |
地址: | 韩国京畿道水*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 半导体装置包含:导体,其安置于衬底上;第一触点,其安置于导体上;第二触点,其具有安置于第一触点上的第一部分以及在平行于衬底的方向上远离第一部分伸出的第二部分,其中第一和第二触点安置于绝缘层中;通孔,其安置于绝缘层和第二触点的第二部分上;以及金属线,其安置于通孔上。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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