[发明专利]半导体装置以及制造半导体装置的方法在审

专利信息
申请号: 202210612937.9 申请日: 2016-11-21
公开(公告)号: CN115000006A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 都桢湖;李昇映;郑钟勋;林辰永;梁箕容;白尚训;宋泰中 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L21/8238
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 代理人: 李洁;魏文浩
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体装置包含:导体,其安置于衬底上;第一触点,其安置于导体上;第二触点,其具有安置于第一触点上的第一部分以及在平行于衬底的方向上远离第一部分伸出的第二部分,其中第一和第二触点安置于绝缘层中;通孔,其安置于绝缘层和第二触点的第二部分上;以及金属线,其安置于通孔上。
搜索关键词: 半导体 装置 以及 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210612937.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top