[发明专利]具有模制结构的半导体存储器装置在审

专利信息
申请号: 202111192282.6 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN114361177A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 李明勳;申东夏;郭判硕;边大锡 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11582 分类号: H01L27/11582
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩芳;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种半导体存储器装置。所述半导体存储器装置包括:模制结构,包括堆叠在第一基底上的栅电极;沟道结构,穿透模制结构的第一区域,以与栅电极交叉;第一贯穿结构,穿透模制结构的第二区域;以及第二贯穿结构,穿透模制结构的第三区域。模制结构还包括:存储器单元块,在第一方向上延伸,并且在第二方向上间隔开;以及虚设块,在第一方向上延伸,并且设置在存储器单元块之间。存储器单元块和虚设块中的每个包括布置在第一方向上的单元区域和延伸区域。第一区域是存储器单元块中的一个存储器单元块的单元区域,第二区域是存储器单元块中的所述一个存储器单元块的延伸区域,并且第三区域是虚设块的延伸区域。
搜索关键词: 具有 结构 半导体 存储器 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111192282.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top