[发明专利]反应腔室及半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202110477256.1 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113178378A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 崔咏琴;林源为 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/30;H01J37/305;H01L21/3065;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种反应腔室及半导体工艺设备，反应腔室包括腔室本体(100)、晶圆承载台(200)和遮挡件(400)；晶圆承载台(200)位于腔室本体(100)内，晶圆承载台(200)用于承载晶圆(300)；遮挡件(400)位于腔室本体(100)内，遮挡件(400)能够覆盖于晶圆(300)的顶面，遮挡件(400)具有镂空区域(410)，镂空区域(410)的形状与晶圆(300)的待刻蚀图形(310)的形状相匹配。上述方案能够解决晶圆的刻蚀性能较差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110477256.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：木板材雕刻装置及其工作方法
- 下一篇：一种电话防盗通信监控装置
