[发明专利]半导体结构及半导体布局结构在审

专利信息
申请号: 202110464090.X 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN113611684A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 丘世仰 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/525 分类号: H01L23/525;H01L27/112;H01L27/02
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 浦彩华;姚开丽
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种半导体结构及半导体布局结构,半导体布局结构包含基板、多个栅极结构及多个导电结构。基板包含沿第一方向延伸的多个主动区,其中多个主动区通过隔离结构彼此分隔。多个栅极结构沿垂直于第一方向的第二方向构横跨多个主动区,其中每个主动区包含一对源极/漏极部分位于栅极结构的相对侧。多个导电结构嵌入在隔离结构的第一部分中,其中隔离结构设置在第一方向上相邻的多个主动区之间,多个导电结构沿第二方向延伸,并通过隔离结构与源极/漏极部分分隔。借此,本发明的半导体布局结构可以减小单位单元的尺寸,从而达到高装置密度。
搜索关键词: 半导体 结构 布局
【主权项】:
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