[发明专利]三维(3D)半导体存储器件在审
申请号: | 202110312659.0 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN113690242A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 郑光泳;赵相渊;金森宏治;韩智勋 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11529 | 分类号: | H01L27/11529;H01L27/11556 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 马晓蒙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种3D半导体存储器件包括:外围电路结构,包括第一行解码器区域、第二行解码器区域以及在第一行解码器区域与第二行解码器区域之间的控制电路区域;在外围电路结构上的第一电极结构和第二电极结构,在第一方向上间隔开,并且每个包括堆叠的电极;模制结构,在外围电路结构上在第一电极结构与第二电极结构之间,并包括堆叠的牺牲层;垂直沟道结构,穿透第一电极结构和第二电极结构;分隔绝缘图案,提供在第一电极结构与模制结构之间并穿透模制结构;以及分隔结构,在第一方向上与第一电极结构交叉并延伸到分隔绝缘图案,其中分隔绝缘图案在第二方向上的最大宽度大于分隔结构在第二方向上的最大宽度。 | ||
搜索关键词: | 三维 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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