[发明专利]一种电子束退火设备及多晶硅薄膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 202010759039.7 申请日: 2020-07-31
公开(公告)号: CN111769029B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 凌步军;朱鹏程;袁明峰;吕金鹏;赵有伟;滕宇;孙月飞;冷志斌;冯高俊 申请(专利权)人: 江苏亚威艾欧斯激光科技有限公司
主分类号: H01J37/305 分类号: H01J37/305;H01L21/67;H01L29/786;H10K59/12
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 林凡燕
地址: 225600 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提出一种电子束退火设备及多晶硅薄膜的制造方法,包括:电子束产生腔体;工艺腔体,所述电子束产生腔体位于所述工艺腔体上,所述电子束产生腔体和所述工艺腔体通过隔板分开,所述工艺腔体内设置一载台,所述载台用于放置基板;加热单元,设置在所述载台上,用于为所述基板加热;其中,所述电子束产生腔体包括:至少两个电子枪,所述电子枪用于发射电子束;至少两个加速管,所述加速管用于加速所述电子束;功率调节单元,连接所述至少两个电子枪,以使所述至少两个电子枪的功率相同或不同,以使所述至少两个电子枪发射的电子束的能量相同或不同。本发明提出一种电子束退火设备可以将基板上的非晶硅薄膜转化成多晶硅薄膜。
搜索关键词: 一种 电子束 退火 设备 多晶 薄膜 制造 方法
【主权项】:
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