[发明专利]半导体材料及其制备方法和应用、激光器、光电探测器有效

专利信息
申请号: 202010445691.1 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111584657B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 杜鹏 申请(专利权)人: 湖南科莱特光电有限公司
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/101;H01L31/105;H01S5/30;H01S5/343;H01L21/02;H01L31/18
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘建荣
地址: 410000 湖南省长沙市雨花区*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明涉及半导体领域,具体而言,提供了一种半导体材料及其制备方法和应用、激光器、光电探测器。所述半导体材料包括依次设置的硅衬底、第一GaAs缓冲层、GaSb缓冲层和InAs(Sb)/InxGa1‑xAsySb1‑y超晶格,其中0x1,0y1。该半导体材料中硅衬底与InAs(Sb)/InxGa1‑xAsySb1‑y超晶格之间晶格失配和热失配程度低,超晶格中位错缺陷密度低、质量高。
搜索关键词: 半导体材料 及其 制备 方法 应用 激光器 光电 探测器
【主权项】:
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