[发明专利]半导体装置在审
| 申请号: | 201980046773.4 | 申请日: | 2019-07-10 |
| 公开(公告)号: | CN112424948A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
| 发明(设计)人: | 杉本雅裕;高桥勋;四户孝;雨堤耕史 | 申请(专利权)人: | 株式会社FLOSFIA |
| 主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;C23C16/40;H01L21/28;H01L21/329;H01L21/365;H01L21/368;H01L29/06;H01L29/24;H01L29/868;H01L29/872 |
| 代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 辛雪花;周艳玲 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置(例如,结势垒肖特基二极管等),在n型半导体层与电极之间设置有多个p型半导体(例如,镁掺杂氧化镓等),所述半导体装置的特征在于,所述n型半导体层包含具有刚玉结构的结晶性氧化物半导体(例如,α型氧化镓等)作为主成分,设置有三个以上的所述p型半导体,并且所述p型半导体埋入到所述n型半导体层中。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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