专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置及半导体系统-CN202011271959.0在审
  • 雨堤耕史;则松和良;冲川满 - 株式会社FLOSFIA
  • 2020-11-13 - 2021-05-14 - H01L29/06
  • 本发明涉及半导体装置及半导体系统。本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。半导体装置包括:结晶性氧化物半导体层;和与所述结晶性氧化物半导体层电连接的至少一个电极,在所述结晶性氧化物半导体层的第一面具有至少一个沟槽,所述沟槽包括底面、侧面及所述底面与所述侧面之间的至少一个圆弧部,所述圆弧部的曲率半径在100nm~500nm的范围内,所述侧面和所述结晶性氧化物半导体层的第一面所成的角度为90°以上。
  • 半导体装置系统
  • [发明专利]半导体装置-CN201980046761.1在审
  • 杉本雅裕;高桥勋;四户孝;雨堤耕史 - 株式会社FLOSFIA
  • 2019-07-10 - 2021-02-26 - H01L29/872
  • 本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置(例如,结势垒肖特基二极管等),在n型半导体层与电极之间设置有多个p型半导体(例如,镁掺杂氧化镓等),所述半导体装置的特征在于,所述n型半导体层包含镓(例如,氧化镓等),设置有三个以上的所述p型半导体,并且所述p型半导体埋入到所述n型半导体层中。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN201980046763.0在审
  • 杉本雅裕;高桥勋;四户孝;雨堤耕史 - 株式会社FLOSFIA
  • 2019-07-10 - 2021-02-26 - H01L29/872
  • 本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置,在n型半导体层(例如,将氧化物半导体作为主成分包含的n型半导体层等)与电极之间设置有一个或两个以上的p型半导体(例如,经p型掺杂的结晶性氧化物半导体等),所述半导体装置的特征在于,所述p型半导体埋入到所述n型半导体层中,并且从所述n型半导体层向所述电极内突出。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN201980046773.4在审
  • 杉本雅裕;高桥勋;四户孝;雨堤耕史 - 株式会社FLOSFIA
  • 2019-07-10 - 2021-02-26 - H01L29/861
  • 本发明提供一种尤其对功率器件有用且半导体特性优异的半导体装置。一种半导体装置(例如,结势垒肖特基二极管等),在n型半导体层与电极之间设置有多个p型半导体(例如,镁掺杂氧化镓等),所述半导体装置的特征在于,所述n型半导体层包含具有刚玉结构的结晶性氧化物半导体(例如,α型氧化镓等)作为主成分,设置有三个以上的所述p型半导体,并且所述p型半导体埋入到所述n型半导体层中。
  • 半导体装置

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