[发明专利]半导体装置、半导体装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780087194.5 申请日: 2017-02-27
公开(公告)号: CN110326102B 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 坂本健 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L21/56;H01L23/31;H01L23/48
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 特征在于,具备:引线框架,其具有上表面和下表面;半导体芯片,其固定于该引线框架的该上表面;第1树脂,其与该引线框架的该下表面接触;以及第2树脂,其设置于该第1树脂之上。该第1树脂和该第2树脂接触。该第1树脂和该第2树脂的材料是以该第1树脂的导热率比该第2树脂的导热率高的方式选择的。而且,通过该第1树脂和该第2树脂覆盖该半导体芯片。
搜索关键词: 半导体 装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具备:引线框架;半导体芯片,其固定于所述引线框架的上表面;第1树脂,其与所述引线框架的下表面接触;以及第2树脂,其设置于所述第1树脂之上,所述第1树脂与所述第2树脂相比导热率高,通过所述第1树脂和所述第2树脂覆盖所述半导体芯片。
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