[发明专利]集成电路的封装装置在审

专利信息
申请号: 201710372732.7 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN108735682A 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 戴唐全;黄圣崴 申请(专利权)人: 力智电子股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司 11234 代理人: 宋义兴;张立晶
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种集成电路的封装装置,包括半导体晶粒、第一绝缘层与导电层。半导体晶粒具有表面、第一侧面、接触部与侧壁缺口。侧壁缺口位于第一侧面。第一绝缘层设置于半导体晶粒的表面,且至少部分填满侧壁缺口,第一绝缘层露出接触部。导电层设置于接触部并朝向第一侧面延伸而部分覆盖第一绝缘层,覆盖侧壁缺口的第一绝缘层于半导体晶粒的第一侧面形成阻隔部。此结构可防止锡膏接触半导体晶粒本体而导致短路,且可避免现有技术中的刀具或半导体晶粒损坏的现象。
搜索关键词: 半导体晶粒 绝缘层 侧壁缺口 封装装置 导电层 侧面 集成电路 侧面延伸 短路 覆盖 填满 锡膏 刀具 阻隔
【主权项】:
1.一种集成电路的封装装置,其特征在于,上述封装装置包括:一半导体晶粒,具有一晶粒表面、一第一侧面、一接触部与一侧壁缺口,其中上述侧壁缺口位于上述第一侧面;一第一绝缘层,设置于上述晶粒表面,且至少部分填满上述侧壁缺口,其中上述第一绝缘层露出上述接触部;以及一导电层,设置于上述接触部并朝向上述第一侧面延伸而部分覆盖上述第一绝缘层;其中,覆盖上述侧壁缺口的上述第一绝缘层于上述半导体晶粒的上述第一侧面形成一阻隔部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力智电子股份有限公司,未经力智电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710372732.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top