[发明专利]封装结构、叠层封装器件及其形成方法有效
申请号: | 201611024524.X | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN107452693B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 杨天中;苏安治;陈宪伟;王若梅;陈威宇 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/522 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 揭露封装结构、叠层封装器件及其形成方法。一种封装结构包括第一晶粒、重布线层结构、多个UBM接垫、多个接点以及分隔件。重布线层结构电性连接至第一晶粒。UBM接垫电性连接至重布线层结构。接点电性连接至UBM接垫。分隔件位于重布线层结构上方且环绕接点。 | ||
搜索关键词: | 封装 结构 器件 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种封装结构,其特征在于包括:第一晶粒;重布线层结构,电性连接至所述第一晶粒;多个凸点下金属接垫,电性连接至所述重布线层结构;多个接点,电性连接至所述多个凸点下金属接垫;以及分隔件,位于所述重布线层结构上方且环绕所述接点。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611024524.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:层叠封装器件及其形成方法
- 下一篇:叠层式封装体结构