[发明专利]层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材有效
| 申请号： | 201410459218.3 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104425416B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 村田英夫 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/485 | 分类号： | H01L23/485;H01L21/3205;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材。本发明提供能够进行稳定的湿式蚀刻、且能够应对为了提高高精细的平面显示元件的显示品质所需的、电极或布线膜的低反射要求的、新型层叠布线膜、以及提供用于形成作为低反射的中间膜的Ni合金膜的Ni合金溅射靶材。一种层叠布线膜，其具有下述层叠结构在透明基板上或形成有透明膜的透明基板上形成有包含Ni合金的膜厚为20～100nm的中间膜，直接在该中间膜上形成有电阻率为150μΩcm以下的导电膜，从前述透明基板侧测定的可见光反射率为20％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 层叠 布线 制造 方法 以及 ni 合金 溅射 | ||
【主权项】：
一种层叠布线膜，其特征在于，其具有下述层叠结构：在透明基板上或形成有透明膜的透明基板上形成有包含Ni合金的膜厚为20～100nm的中间膜，直接在所述中间膜上形成有电阻率为150μΩcm以下的导电膜，所述中间膜在Ni合金中含有20～60原子％的选自氧和氮中的至少一者，并且所述中间膜的组成满足以下条件中的任一者：所述中间膜中，Mn为1～25原子％、Mo为3～30原子％、且Mn和Mo的总量为15～50原子％、剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成；或者，所述中间膜含有1～25原子％的Mn、10～40原子％的Cu、3～20原子％的Mo、0～5原子％的Fe，剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成，从所述透明基板侧测定的可见光反射率为20％以下。
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