[发明专利]层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材

说明书

技术领域

本发明涉及要求低反射特性的、例如平面显示元件用的电极膜或布线膜中使用的层叠布线膜和其制造方法、以及用于形成低反射膜的Ni合金溅射靶材。

背景技术

在透明的玻璃基板等的上方形成有薄膜设备的液晶显示器(以下称作“LCD”)、等离子体显示器面板(以下称作“PDP”)、电子纸等中利用的电泳型显示器等平面显示装置(平板显示器、以下称作“FPD”)随着大画面、高精细、高速应答化，对其布线膜要求低的电阻值。而且，近年来，开发出对FPD实施操作性的触摸面板、或使用透明的树脂基板、极薄玻璃基板的柔性的FPD等新的制品。

近年来，用作FPD的驱动元件的薄膜晶体管(以下称作“TFT”)的布线膜为了实现上述高性能化而需要低的电阻值，作为主布线薄膜的材料，使用了Al、Cu。

目前，TFT使用Si半导体膜，作为主布线材料的Al、Cu与Si直接接触时，由于TFT制造中的加热工序而发生热扩散，有时使TFT的特性恶化。因此，使用了在Al、Cu的主布线膜与半导体膜的Si之间设置有耐热性优异的纯Mo、Mo合金作为阻挡膜的层叠布线膜。另外，自布线膜连接的像素电极通常使用作为透明导电膜的铟-锡氧化物(以下称作ITO)的膜。

另外，看到FPD的画面的同时赋予直接的操作性的触摸面板基板画面的大型化也得到发展，智能手机、平板PC、进而台式PC等中也进行触摸面板操作的制品正在普及。该触摸面板的位置检测电极也通常使用透明导电膜的ITO膜。

近年来，对于能够进行多点检测的静电容量式的触摸面板，成为配置有四边形的ITO膜的通称金刚石配置，连接四边形的ITO膜的电极、布线膜也使用金属膜。该金属膜使用易于得到与ITO膜的接触性的Mo合金、Mo合金与Al的层叠膜。

作为耐热性、耐腐蚀性、与基板的密合性优异的低电阻的金属膜，本申请人提出了Mo中含有3～50原子％的V、Nb、进而添加有Ni、Cu的金属膜。(专利文献1)

另一方面，为了保护低电阻的Cu的主布线膜的表面，提出了用Ni-Cu合金覆盖的层叠布线膜。(例如专利文献2、专利文献3)

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-140319号公报

专利文献2：日本特开2011-52304号公报

专利文献3：日本特开2006-310814号公报

发明内容

发明要解决的问题

近年来，对于成为主流的全高清的替代品的、具有4倍像素的大型的4K-TV、在距离视点为数10cm左右的近距离操作显示画面的智能手机，高精细化正推进。伴随该高精细化，由金属膜产生的入射光的反射使显示品质降低的新的问题变得明显化。因此，金属膜具有低反射率这样新的特性(以下称作“低反射”)的要求急剧地升高。

另外，平面显示元件的布线膜中使用的Al膜为在可见光区域中具有90％以上的高反射率的金属。另外，同样平面显示元件的布线膜中使用的Cu膜在可见光区域中具有70％的反射率，在600nm以上的长波长区域中具有与Ag膜等同的95％以上的高反射率。

另一方面，为了保护这些布线膜而层叠的Mo膜、Mo合金膜具有60％左右的反射率。这些金属膜即使经过平面显示元件的制造工艺，反射率也基本没有变化，因此，特别是高精细的显示装置中，金属膜的反射成为使显示品质降低的主要原因。上述那样的高精细化了的显示装置中，要求Mo膜等一半程度的30％以下这样的更低反射的电极、布线膜。

以上那样，目前为止，开发出使用了各种材质的布线膜、层叠布线膜，结果这些专利文献中着眼于作为布线膜、覆盖层的阻隔性、保护性能而进行了研究。而且，这些专利文献中，关于为了应对今后的高精细的显示装置所需的低反射这样新的特性，没有进行任何研究。

另外，根据本发明人的研究，对上述专利文献2、专利文献3中公开的形成有包含Ni合金的覆盖层的层叠布线膜进行湿式蚀刻时，还确认了在基板面内包含Ni合金的覆盖层的蚀刻变得不均匀，易于发生不均，布线宽度产生偏差这样的其他课题。

本发明的目的在于，提供能够进行稳定的湿式蚀刻、且能够应对为了提高高精细的平面显示元件的显示品质所需的、电极或布线膜的低反射要求的、新型层叠布线膜，而且提供用于形成作为低反射的中间膜的Ni合金膜的Ni合金溅射靶材。

用于解决问题的方案