[发明专利]层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材有效
| 申请号： | 201410459218.3 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104425416B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 村田英夫 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/485 | 分类号： | H01L23/485;H01L21/3205;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 层叠 布线 制造 方法 以及 ni 合金 溅射 | ||
1.一种层叠布线膜，其特征在于，其具有下述层叠结构：在透明基板上或形成有透明膜的透明基板上形成有包含Ni合金的膜厚为20～100nm的中间膜，直接在所述中间膜上形成有电阻率为150μΩcm以下的导电膜，所述中间膜在Ni合金中含有20～60原子％的选自氧和氮中的至少一者，并且所述中间膜的组成满足以下条件中的任一者：
所述中间膜中，Mn为1～25原子％、Mo为3～30原子％、且Mn和Mo的总量为15～50原子％、剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成；或者，
所述中间膜含有1～25原子％的Mn、10～40原子％的Cu、3～20原子％的Mo、0～5原子％的Fe，剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成，
从所述透明基板侧测定的可见光反射率为20％以下。
2.根据权利要求1所述的层叠布线膜，其特征在于，所述导电膜以选自Al、Cu、Mo、Ni、Ag中的元素作为主要成分，膜厚为10～500nm。
3.一种Ni合金溅射靶材，其特征在于，其为用于形成权利要求1所述的中间膜的Ni合金溅射靶材，其含有1～25原子％的Mn、3～30原子％的Mo，且Mn和Mo的总量为15～50原子％，剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成，居里点为常温以下。
4.一种Ni合金溅射靶材，其特征在于，其为用于形成权利要求1所述的中间膜的Ni合金溅射靶材，其含有1～25原子％的Mn、10～40原子％的Cu、3～20原子％的Mo、0～5原子％的Fe，剩余部分由Ni和不可避免的杂质组成，居里点为常温以下。
5.一种层叠布线膜的制造方法，其特征在于，所述中间膜是在含有20～60体积％的选自氧气和氮气中的至少一者的气氛下、使用权利要求3或权利要求4所述的Ni合金溅射靶材通过溅射法形成的。
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