[发明专利]肖特基势垒二极管及其制造方法有效
申请号: | 201310757047.8 | 申请日: | 2013-12-12 |
公开(公告)号: | CN103904131B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 李钟锡;洪坰国;千大焕;郑永均 | 申请(专利权)人: | 现代自动车株式会社 |
主分类号: | H01L29/872 | 分类号: | H01L29/872;H01L29/06;H01L29/36;H01L21/04 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;彭益群 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及—种肖特基二极管,包括:设置在n+型碳化硅衬底的第一表面的n‑型外延层;设置在n‑型外延层内,且设置在n+型碳化硅衬底的第一表面的第一部分上的多个n型柱区;设置在n‑型外延层内,且在垂直于n型柱区的方向上延伸的p型区域;多个P+区域,n‑型外延层被设置在其表面,且它们与n型柱区和p型区域分隔;设置在n‑型外延层和P+区域上的肖特基电极;设置在n+型碳化硅衬底的第二表面的欧姆电极。 1 | ||
搜索关键词: | 外延层 碳化硅 衬底 第一表面 肖特基势垒二极管 肖特基二极管 肖特基电极 第二表面 欧姆电极 分隔 垂直 延伸 制造 | ||
【主权项】:
1.一种肖特基势垒二极管,包括:n‑型外延层,被设置在n+型碳化硅衬底的第一表面上;多个n型柱区,被设置在所述n‑型外延层内,且被间隔地设置在所述n+型碳化硅衬底的第一表面上;p型区域,设置在所述n‑型外延层内,且在垂直于所述n型柱区的方向上延伸;多个P+区域,设置在所述n‑型外延层的表面上,且与所述n型柱区和p型区域分开;肖特基电极,设置在所述n‑型外延层和所述P+区域上;欧姆电极,设置在所述n+型碳化硅衬底的第二表面上,其中所述p型区域被设置在所述n型柱区的上表面和所述n+型碳化硅衬底的第一表面之间,并且所述第一表面和所述第二表面相反。
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